[實用新型]一種帶清洗、烘干裝置的蝕刻、去膜生產線系統有效
| 申請號: | 201320128336.7 | 申請日: | 2013-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN203346478U | 公開(公告)日: | 2013-12-18 |
| 發明(設計)人: | 何公明 | 申請(專利權)人: | 寧波東盛集成電路元件有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/08 | 分類號: | C23F1/08 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務所 31272 | 代理人: | 竺路玲 |
| 地址: | 315800 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 清洗 烘干 裝置 蝕刻 生產線 系統 | ||
技術領域
本實用新型涉及生產設備技術領域,尤其涉及一種帶清洗、烘干裝置的蝕刻、去膜生產線系統。
背景技術
眾所周知,當蝕刻技術已廣泛的應用于傳統加工中難以加工的薄型件加工上,主要運用于航空、機械、標牌等工業中,并且在半導體以及印制板的加工中更是不能缺少。現有的技術中的刻蝕機是使用化學溶液,經化學反應達到可是目的,使用時,設備生產的廢棄直接發到車間中,造成空氣和產品表面的污染,同時產品上時常會有殘留的化學溶液得不到清理,這使得產品的質量受到嚴重影響。
實用新型內容
本實用新型公開了一種帶清洗、烘干裝置的蝕刻、去膜生產線系統,用以解決現有技術中產品上時常會有殘留的化學溶液得不到清理,同時設備生產的的廢棄直接發到車間中,造成空氣和產品表面的污染的問題。
為實現上述目的,本實用新型采用的技術方案是:
一種帶清洗、烘干裝置的蝕刻、去膜生產線系統,其中,包括:印刷裝置、曝光裝置、顯影裝置、蝕刻裝置、清洗裝置,所述曝光裝置分別與所述印刷裝置以及顯影裝置連接,所述蝕刻裝置的后段與所述清洗裝置連接,所述顯影裝置的后段與所述蝕刻裝置連接,所述清洗裝置的后段與去膜裝置連接、所述去膜裝置后段與水洗裝置連接,所述水洗裝置的后段與烘干裝置連接。
上述的一種帶清洗、烘干裝置的蝕刻、去膜生產線系統,其中,所述清洗裝置與所述去膜裝置之間設有膨松裝置。
上述的一種帶清洗、烘干裝置的蝕刻、去膜生產線系統,其中,所述清洗裝置的外側設有第一報警裝置。
上述的一種帶清洗、烘干裝置的蝕刻、去膜生產線系統,其中,所述水洗裝置外側設有第二報警裝置。
上述的一種帶清洗、烘干裝置的蝕刻、去膜生產線系統,其中,在所述印刷裝置、曝光裝置、顯影裝置、蝕刻裝置以及清洗裝置的外側設有一罩體,所述罩體外側設有一空氣過濾器。
上述的一種帶清洗、烘干裝置的蝕刻、去膜生產線系統,其中,所述清洗裝置與所述膨松裝置之間設有檢測裝置。
上述的一種帶清洗、烘干裝置的蝕刻、去膜生產線系統,其中,所述烘干裝置為電加熱烘干機。
本實用新型的一種帶清洗、烘干裝置的蝕刻、去膜生產線系統,采用了如上的方案具有以下的效果:通過清洗裝置與水洗裝置有效的清洗產品上的化學溶劑并由烘干裝置使得產品上的液體烘干去除,同時利用罩體阻隔了設備生產時的廢氣,并且通過空氣過濾器將廢氣過濾凈化。
附圖說明
通過閱讀參照如下附圖對非限制性實施例所作的詳細描述,實用新型的其它特征,目的和優點將會變得更明顯。
圖1為本實用新型一種帶清洗、烘干裝置的蝕刻、去膜生產線系統的示意圖。
如圖參考:印刷裝置1、曝光裝置2、顯影裝置3、蝕刻裝置4、清洗裝置5、第一報警裝置51、檢測裝置6、膨松裝置7、去膜裝置8、水洗裝置9、第二報警裝置91、罩體10、空氣過濾器11、烘干裝置12。
具體實施方式
為了使實用新型實現的技術手段、創造特征、達成目的和功效易于明白了解,下結合具體圖示,進一步闡述本實用新型。
圖1所示,一種帶清洗、烘干裝置的蝕刻、去膜生產線系統,其中,包括:印刷裝置1、曝光裝置2、顯影裝置3、蝕刻裝置4、清洗裝置5,曝光裝置2分別與印刷裝置1以及顯影裝置3連接,在此進一步的曝光裝置2與顯影裝置3連成一體,蝕刻裝置4的后段與清洗裝置5連接,顯影裝置3的后段與蝕刻裝置4連接,清洗裝置5的后段與去膜裝置8連接、去膜裝置8后段與水洗裝置9連接,水洗裝置9的后段與烘干裝置12連接。
在本實用新型的具體實施例中,清洗裝置5與去膜裝置8之間設有膨松裝置7,在此膨松裝置7完成的是一種浸泡式過程,先將其軟泡再給后工序退膜。在后一工序的去膜中使用3%的強堿或10-13%的RR-2的有機去膜液剝除,抗氧產品表面氧化,除泡劑消泡。
在本實用新型的具體實施例中,清洗裝置5的外側設有第一報警裝置51,由第一報警裝置51完成對清洗裝置5的監控以及報警提示。
在本實用新型的具體實施例中,水洗裝置9外側設有第二報警裝置91,進一步的,由第二報警裝置91完成對水洗裝置9的監控以及報警提示。
在本實用新型的具體實施例中,在印刷裝置1、曝光裝置2、顯影裝置3、蝕刻裝置4以及清洗裝置5的外側設有一罩體10,罩體10外側設有一空氣過濾器11,進一步的利用罩體10隔離印刷裝置1、曝光裝置2、顯影裝置3、蝕刻裝置4以及清洗裝置5所產生的廢氣,并通過空氣過濾器11來完成對廢氣的過濾凈化。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于寧波東盛集成電路元件有限公司,未經寧波東盛集成電路元件有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320128336.7/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





