[實用新型]原子層沉積裝置有效
| 申請號: | 201320122884.9 | 申請日: | 2013-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN203159709U | 公開(公告)日: | 2013-08-28 |
| 發明(設計)人: | 吉田武史;石塚勇史 | 申請(專利權)人: | 株式會社昭和真空 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/52 |
| 代理公司: | 北京市浩天知識產權代理事務所 11276 | 代理人: | 宋菲;劉云貴 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 原子 沉積 裝置 | ||
1.原子層沉積裝置,其特征在于,具有:
搭載發光裝置的承載臺,
測定所述發光裝置的色度的光特性測定裝置,
具備排氣裝置的反應容器,以及
向所述反應容器的內部供給原料氣體的第1給氣部。
2.如權利要求1所述的原子層沉積裝置,其特征在于,所述光特性測定裝置具有:
與所述發光裝置的導電體連接的連接端子,
連接于所述連接端子的電源,
與所述發光裝置對向配置的,接受所述發光裝置射出的光的探頭,以及
與所述探頭連接,測定所述探頭接受的光的測定裝置。
3.如權利要求2所述的原子層沉積裝置,其特征在于,進一步具有基于所述光特性測定裝置的輸出控制所述第1給氣部的控制部。
4.如權利要求3所述的原子層沉積裝置,其特征在于,進一步具有在所述承載臺上搭載多個所述發光裝置的轉移機。
5.如權利要求4所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
所述原料氣體包括Ti、或Zn、或Ta或Nb,
且原子層沉積裝置進一步具有向所述反應容器內部供給氧氣的第2給氣部。
6.如權利要求5所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
所述發光裝置具有發出藍色光的發光二極管元件、和由所述藍色光激發發出熒光的熒光體。
7.如權利要求6所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
所述發光裝置具有炮彈型形狀。
8.如權利要求7所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
所述探頭具有彎曲形狀,
使得所述發光裝置的光出射面對向配置于所述探頭的彎曲內面。
9.如權利要求2-8的任一項所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
在所述反應容器的內部配置所述連接端子。
10.如權利要求9所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
在所述反應容器的內部配置所述探頭。
11.如權利要求10所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
設置保護所述探頭不受所述原料氣體影響的屏蔽板。
12.如權利要求11所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
在所述反應容器的內部進一步具有移動所述承載臺或所述探頭的臂,
所述原子層沉積裝置具有驅動機構,其移動所述承載臺或所述探頭分別到,搭載在所述承載臺上的所述發光裝置與所述探頭對向的位置和與所述探頭分離的位置。
13.如權利要求9所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
以透過性材料構成所述反應容器壁的一部分,
配置于所述反應容器的外部的所述探頭和所述反應容器內部配置的所述發光裝置對向配置。
14.如權利要求9所述的原子層沉積裝置,其特征在于,
在所述反應容器的內部導入光纖,
在所述反應容器的外部設置檢測入射到所述光纖的光的檢測部。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





