[實(shí)用新型]一種真空間歇蒸餾蒸發(fā)盤

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320112439.4
• 申請(qǐng)日: 2013-03-13
• 公開（公告）號(hào): CN203159686U
• 公開（公告）日: 2013-08-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄧勇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆明理工大學(xué)
• 主分類號(hào): C22B9/02
• 分類號(hào): C22B9/02;C22B9/04;F27D5/00
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及內(nèi)熱式真空間歇蒸餾電阻爐中一種高效的蒸發(fā)盤，屬于真空冶金爐設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)

目前，公知的內(nèi)熱式間歇真空蒸餾電阻爐中，蒸發(fā)盤為圓環(huán)形石墨蒸發(fā)盤。在真空蒸餾過(guò)程中，蒸發(fā)盤中沿中心線形成一溫度梯度，在蒸發(fā)過(guò)程中，物料的揮發(fā)程度不一，盤中心側(cè)金屬揮發(fā)較快，而外側(cè)金屬揮發(fā)較慢，蒸發(fā)率低，要想提高金屬揮發(fā)率，必須延長(zhǎng)保溫時(shí)間，這勢(shì)必造成很大的能源浪費(fèi)。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是提供一種高效真空間歇蒸餾蒸發(fā)盤，以實(shí)現(xiàn)加速蒸發(fā)，并改善蒸發(fā)進(jìn)行的動(dòng)力學(xué)條件，減少蒸發(fā)相同金屬量所需要的時(shí)間（即保溫時(shí)間），節(jié)約能耗。

本實(shí)用新型通過(guò)下列技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：一種真空間歇蒸餾蒸發(fā)盤，包括電極孔、盤體和間隙孔；所述盤體中央設(shè)置圓柱形電極孔，盤體的側(cè)壁邊緣上間隔設(shè)置間隙孔；盤體底部向盤體中心與水平面呈5～10°的傾斜角。

所述盤體的厚度為15～20mm。

所述間隙孔為數(shù)個(gè)，是在盤體的側(cè)壁邊緣上每間隔6～8cm設(shè)置一個(gè)。以保證揮發(fā)出來(lái)的氣態(tài)金屬能夠及時(shí)從蒸發(fā)盤中揮發(fā)出去，在外部冷凝罩上冷凝收集。

本實(shí)用新型通過(guò)在蒸發(fā)盤的底部設(shè)計(jì)一個(gè)傾斜坡度，在蒸發(fā)溫度條件下，隨著靠近蒸發(fā)盤中心金屬液體的蒸發(fā)，蒸發(fā)盤外側(cè)的金屬液體向盤中心流動(dòng)，加速蒸發(fā)，并改善了蒸發(fā)進(jìn)行的動(dòng)力學(xué)條件，減少蒸發(fā)相同金屬量所需要的時(shí)間（即保溫時(shí)間），節(jié)約了能耗。

與公知技術(shù)相比的優(yōu)點(diǎn)及積極效果：

（1）對(duì)蒸發(fā)盤而言，在相同蒸餾溫度條件下，大部分金屬在蒸發(fā)盤中心高溫區(qū)域蒸發(fā)，大大減少了保溫時(shí)間，節(jié)約了能耗。

（2）隨著蒸發(fā)不斷進(jìn)行，盤內(nèi)金屬液體向盤中心方向流動(dòng)，改善了金屬液體蒸發(fā)的動(dòng)力學(xué)條件，加速蒸發(fā)，節(jié)約了能耗。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型的主視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是圖2中A-A的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中，電極孔1，盤體2，間隙孔3，傾斜角α。

具體實(shí)施方式

下面通過(guò)實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說(shuō)明。

實(shí)施例1

如圖1、2、3，真空間歇蒸餾蒸發(fā)盤包括電極孔1、盤體2和間隙孔3；所述盤體2中央設(shè)置圓柱形電極孔1，盤體2的側(cè)壁邊緣上間隔設(shè)置間隙孔3；盤體2底部向盤體2中心與水平面呈5°的傾斜角α；盤體2的厚度為20mm；間隙孔3為三個(gè)，是在盤體2的側(cè)壁邊緣上每間隔7cm設(shè)置一個(gè)。以保證揮發(fā)出來(lái)的氣態(tài)金屬能夠及時(shí)從蒸發(fā)盤中揮發(fā)出去，在外部冷凝罩上冷凝收集。

實(shí)施例2

如圖1、2、3，真空間歇蒸餾蒸發(fā)盤包括電極孔1、盤體2和間隙孔3；所述盤體2中央設(shè)置圓柱形電極孔1，盤體2的側(cè)壁邊緣上間隔設(shè)置間隙孔3；盤體2底部向盤體2中心與水平面呈8°的傾斜角α；盤體2的厚度為18mm；間隙孔3為四個(gè)，是在盤體2的側(cè)壁邊緣上每間隔6cm設(shè)置一個(gè)。以保證揮發(fā)出來(lái)的氣態(tài)金屬能夠及時(shí)從蒸發(fā)盤中揮發(fā)出去，在外部冷凝罩上冷凝收集。

實(shí)施例3

如圖1、2、3，真空間歇蒸餾蒸發(fā)盤包括電極孔1、盤體2和間隙孔3；所述盤體2中央設(shè)置圓柱形電極孔1，盤體2的側(cè)壁邊緣上間隔設(shè)置間隙孔3；盤體2底部向盤體2中心與水平面呈10°的傾斜角α；盤體2的厚度為15mm；間隙孔3為五個(gè)，是在盤體2的側(cè)壁邊緣上每間隔8cm設(shè)置一個(gè)。以保證揮發(fā)出來(lái)的氣態(tài)金屬能夠及時(shí)從蒸發(fā)盤中揮發(fā)出去，在外部冷凝罩上冷凝收集。