[實(shí)用新型]一種真空間歇蒸餾蒸發(fā)盤有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320112439.4 | 申請(qǐng)日： | 2013-03-13 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN203159686U | 公開（公告）日： | 2013-08-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 鄧勇 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 昆明理工大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | C22B9/02 | 分類號(hào)： | C22B9/02;C22B9/04;F27D5/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 650093 云*** | 國省代碼： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 真空 間歇 蒸餾 蒸發(fā) | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種真空間歇蒸餾蒸發(fā)盤，其特征在于：包括電極孔、盤體和間隙孔；所述盤體中央設(shè)置圓柱形電極孔，盤體的側(cè)壁邊緣上間隔設(shè)置間隙孔；盤體底部向盤體中心與水平面呈5～10°的傾斜角。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空間歇蒸餾蒸發(fā)盤，其特征在于：所述盤體的厚度為15～20mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空間歇蒸餾蒸發(fā)盤，其特征在于：所述間隙孔為數(shù)個(gè)，是在盤體的側(cè)壁邊緣上每間隔6～8cm設(shè)置一個(gè)。
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