[實用新型]一種線性蒸鍍源噴嘴

有效

• 申請號: 201320109809.9
• 申請日: 2013-03-11
• 公開（公告）號: CN203128644U
• 公開（公告）日: 2013-08-14
• 發明（設計）人: 紀小紅
• 申請（專利權）人: 陜西科技大學
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 蔡和平

技術領域

本實用新型屬于真空蒸鍍設備領域，具體涉及一種線性蒸鍍源噴嘴。

背景技術

蒸鍍源噴嘴用于真空蒸鍍設備，用于蒸鍍基板上噴射形成連續且均勻的薄膜。一般的蒸鍍方法是：將蒸鍍材料置于蒸鍍容器中，再將該蒸鍍容器置于某種加熱器中，加熱器通過對蒸鍍容器進行加熱，從而達到在被蒸鍍的基板上形成薄膜層的目的。點狀蒸鍍源適于在小面積范圍內形成較為均勻的薄膜。對于大面積蒸鍍而言，點源無法滿足薄膜層的整體均勻性。隨著離中心蒸鍍點距離的增加，邊緣處的薄膜厚度下降明顯。在許多功能器件的制備中，一般希望薄膜層厚度的不均勻性被控制在3%以內。

為制備大面積均勻薄膜，采用線性蒸鍍源。線性蒸鍍源適于形成連續大面積薄膜。然而，這種簡單的等寬噴口設計，雖然與點狀蒸鍍源相比，已經擴大了薄膜均勻性寬度和面積，但仍然造成邊緣薄膜的厚度與中心薄膜的厚度有很大的差別。

因此，考慮到蒸鍍設備的制造成本和蒸鍍材料的利用率，對蒸鍍源的噴口形狀進行優化設計是十分必要的。

實用新型內容

本實用新型解決的技術問題在于提供一種材料利用率高、鍍膜均勻性好、蒸鍍設備成本低廉的線性蒸鍍源噴嘴。

本實用新型是通過以下技術方案來實現：

一種線性蒸鍍源噴嘴，包括噴射罩和設置在噴射罩上的噴射板，所述噴射板的縱長方向上開設有噴射口，噴射口上設置有遮擋片。

所述噴射口為的形狀為矩形。

所述噴射口的寬度為0.5～1.5cm。

所述遮擋片的長度占整個噴射口長度的1/6。

所述遮擋片距離噴射板左端8～15cm。

所述噴射罩為梯形體。

所述噴射板采用金屬板或石英玻璃。

與現有技術相比，本實用新型具有以下有益的技術效果：

本實用新型的線性蒸鍍源噴嘴，通過對噴射板上的噴射口寬度進行優化設置，并根據線源溫度的差異，在噴射口上加入遮擋片，采用這種結構的線源噴嘴進行蒸鍍，得到鍍膜均勻度能夠達到3%以內，也能避免其它蒸鍍源在蒸鍍過程中的材料污染問題，同時材料也得到有效利用，使用過后留在噴嘴腔體壁上的材料可以回收后重新使用，大大提高了材料利用率。本實用新型結構簡單，設備制造成本低，適于工業化大規模生產應用。

附圖說明

圖1為本實用新型的線性蒸鍍源噴嘴的正視圖；

圖2為本實用新型的線性蒸鍍源噴射口的俯視圖；

圖3為現有技術的線性蒸鍍源噴射后測量基片的膜厚均勻性結果圖；

圖4為本實用新型的線性蒸鍍源噴射后測量基片的膜厚均勻性結果圖。

其中：1為噴射罩；2為噴射口；3為遮擋片。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型做進一步詳細描述：

參見圖1，本實用新型的線性蒸鍍源噴嘴，包括噴射罩1和設置在噴射罩1上的噴射板，所述噴射板的縱長方向上開設有噴射口2，所述噴射口2上設置有遮擋片3，遮擋片3將噴射口2分隔為兩段，所述噴射罩1為一個梯形體噴射罩，使用時，該梯形體噴射罩置于線性蒸鍍源之上。

參見圖2，噴射口2上距離噴射板左端8～15cm設置有遮擋片3，噴射口2被遮擋片3分隔開，遮擋片3的長度占整個噴射口2長度的1/6，噴射口2用于岀射蒸鍍材料，能夠控制線性蒸鍍源的岀射范圍。

當本裝置要蒸鍍的基片基本尺寸為400×400mm,則噴射罩的下底尺寸為500mm，上頂為440mm。現有技術是將該噴射罩至于線源之上，沒有設置遮擋片，對蒸鍍后的基片測試膜厚均勻性，測試結果如圖3所示：從圖中可以看出，使用該裝置測得膜厚中間厚，兩邊薄。采用本實用新型的結構，在噴射口上設置了遮擋片后對基片進行蒸鍍，對蒸鍍后的基片進行膜厚均勻性測試，結果如圖4所示，從圖中可以看出，采用該線性蒸鍍噴嘴蒸鍍得到的基片，膜厚均勻性已達到1.23%，能夠達到業內要求的控制在3%以內的標準。

以上所述僅為本實用新型的一種實施方式，不是全部或唯一的實施方式，本領域普通技術人員通過閱讀本實用新型說明書而對本實用新型技術方案采取的任何等效的變換，均為本實用新型的權利要求所涵蓋。