[實(shí)用新型]一種線性蒸鍍?cè)磭娮?/span>有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320109809.9 | 申請(qǐng)日： | 2013-03-11 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN203128644U | 公開（公告）日： | 2013-08-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 紀(jì)小紅 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 陜西科技大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | C23C14/24 | 分類號(hào)： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人： | 蔡和平 |
| 地址： | 710021 *** | 國(guó)省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 線性 蒸鍍?cè)?/a> 噴嘴 | ||
1.一種線性蒸鍍?cè)磭娮欤涮卣髟谟冢▏娚湔郑?）和設(shè)置在噴射罩（1）上的噴射板，所述噴射板的縱長(zhǎng)方向上開設(shè)有噴射口（2），噴射口（2）上設(shè)置有遮擋片（3）。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種線性蒸鍍?cè)磭娮欤涮卣髟谟冢鰢娚淇冢?）的形狀為矩形。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種線性蒸鍍?cè)磭娮欤涮卣髟谟冢鰢娚淇冢?）的寬度為0.5～1.5cm。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種線性蒸鍍?cè)磭娮欤涮卣髟谟冢稣趽跗?）的長(zhǎng)度占整個(gè)噴射口（2）長(zhǎng)度的1/6。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種線性蒸鍍?cè)磭娮欤涮卣髟谟冢稣趽跗?）距離噴射板左端8～15cm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種線性蒸鍍?cè)磭娮欤涮卣髟谟冢鰢娚湔郑?）為梯形體。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種線性蒸鍍?cè)磭娮欤涮卣髟谟冢鰢娚浒宀捎媒饘侔寤蚴⒉ＡА?/p>
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
