[實用新型]基底部、馬達以及盤驅動裝置

有效

• 申請號: 201320084115.4
• 申請日: 2013-02-25
• 公開（公告）號: CN203289229U
• 公開（公告）日: 2013-11-13
• 發明（設計）人: 藤繩順三;馬場宏治;真角祐樹
• 申請（專利權）人: 日本電產株式會社
• 主分類號: H02K5/04
• 分類號: H02K5/04;H02K11/00;G11B17/02
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 黨曉林;王小東

1.一種基底部，其特征是，所述基底部呈薄板狀，用于配置有軸承機構和執行器的盤驅動裝置，?

所述基底部包括：?

多個下側凹部；?

C型平滑面；以及?

扇型凹部，?

所述多個下側凹部配置于基底部的配置軸承機構的部位的周圍的下表面區域，且沿徑向擴展，?

所述C型平滑面配置于基底部的配置軸承機構的部位的周圍的上表面區域，且高度在周向上固定不變，?

所述扇型凹部配置于基底部的配置軸承機構的部位的周圍的上表面區域，且所述執行器能夠進入所述扇型凹部中，?

所述下側凹部的至少一部分在C型平滑面之下，?

所述C型平滑面在所述下側凹部之上具有向所述基底部上表面方向或下表面方向突出的截面。?

2.根據權利要求1所述的基底部，其特征是，?

所述基底部包括：?

孔部，其以中心軸線為中心；?

第一凹部，其為在所述基底部的上表面側在所述孔部的周圍向所述基底部的下表面側凹陷的部位；以及?

第二凹部，其為在所述基底部的上表面側沿所述第一凹部配置在比所述第一凹部靠徑向外側的位置、且朝向所述基底部的下表面側凹陷的部位，?

所述C型平滑面配置在比所述第二凹部靠徑向外側的位置。?

3.根據權利要求2所述的基底部，其特征是，?

所述C型平滑面具有：?

第一C型平滑部，其在俯視時包圍所述第二凹部；以及?

第二C型平滑部，其配置在比所述第一C型平滑部靠徑向外側的位置，且在俯?視時包圍所述第一C型平滑部。?

4.根據權利要求3所述的基底部，其特征是，?

俯視觀察，所述扇型凹部在周向與所述第一C型平滑部和所述第二C型平滑部對置。?

5.根據權利要求1至權利要求4中的任一項所述的基底部，其特征是，?

所述下側凹部具有第一下側凹部、第二下側凹部以及第三下側凹部，?

在基底部的下表面側，第一下側凹部、第二下側凹部以及第三下側凹部按該順序順時針配置。?

6.根據權利要求5所述的基底部，其特征是，?

俯視觀察，所述第三下側凹部的面積分別比所述第一下側凹部的面積以及所述第二下側凹部的面積大。?

7.根據權利要求5所述的基底部，其特征是，?

俯視觀察，所述第一下側凹部和所述第二下側凹部具有矩形的外形。?

8.根據權利要求5所述的基底部，其特征是，?

所述第三下側凹部具有沿著所述第二凹部的底部的一部分的部位。?

9.根據權利要求5所述的基底部，其特征是，?

所述第一下側凹部以及所述第二下側凹部經過所述第一C型平滑部與所述第二C型平滑部的邊界線。?

10.根據權利要求1所述的基底部，其特征是，?

所述C型平滑面具有切削痕。?

11.一種馬達，其特征是，所述馬達包括：?

權利要求1至權利要求10中的任一項所述的基底部；?

定子，其配置于所述基底部，?

轉子，其能夠以所述中心軸線為中心相對于所述定子相對旋轉；以及?

配線基板，其與所述定子電連接。?

12.一種盤驅動裝置，其特征是，所述盤驅動裝置包括：?

權利要求11所述的馬達；?

至少一個盤，其由所述馬達保持并被帶動旋轉；以及?

殼體，其內置有所述馬達以及所述盤。?