[實用新型]晶片離子注入系統

有效

• 申請號: 201320050817.0
• 申請日: 2013-01-30
• 公開（公告）號: CN203055854U
• 公開（公告）日: 2013-07-10
• 發明（設計）人: 劉玲
• 申請（專利權）人: 劉玲
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及一種晶片離子注入系統。用于安裝在真空處理室移動設備處理壓板的被攝體晶片，其特征在于，包括：第一和第二負載鎖定室，各自具有一個裝載鎖定基座，相鄰設置在真空處理室通中，一個單一的通道開口設置在真空處理室和真空中間腔室之間。?

背景技術

目前，公知的離子注入系統包括一個離子源用于產生離子，在離子源中產生的離子通過離子束引出電極作為提取，通過質量分析磁鐵的移動驅動設備的使用，主要通過晶片處理系統，包括離子注入室（真空處理室），晶片通過一個裝載鎖定腔室的轉移到離子注入室。本實用新型是一種晶片離子注入系統，運用主要以第一和第二負載鎖定室，各自具有一個裝載鎖定基座，相鄰設置在真空處理室通中，一個單一的通道開口設置在真空處理室和真空中間腔室之間，這點創新設計在商業運營推廣中是一種極大的競爭優勢，可貴的是這項技術原理簡單，并且其設方案合理實用，在思維上打破成規，從而帶來了新的技術革命。?

發明內容

為了克服目前傳統的離子注入系統結構在運作構筑上存在的缺陷，實用新型提供了一種晶片離子注入系統，運用以第一和第二負載鎖定室，各自具有一個裝載鎖定基座，相鄰設置在真空處理室通中，一個單一的通道開口設置在真空處理室和真空中間腔室之間，通過此項技術創新的產品能更好的被運用及推廣在商業及工程技術領域。?

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：用于安裝在真空處理室移動設備處理壓板的被攝體晶片，其特征在于，包括：第一和第二負載鎖定室，各自具有一個裝載鎖定基座，相鄰設置在真空處理室通中，一個單一的通道開口設置在真空處理室和真空中間腔室之間，第一和第二晶圓保持臂由第一和第二旋轉軸安裝在第一和第二負載鎖定基座中構成壓板裝置，負載鎖定室以及控制器被配置在與第一和第二晶圓保持臂的垂直方向上，并在相同的轉彎半徑與第一和第二旋轉軸關聯，構成為正向或反向轉動的第一和第二晶圓保持臂，保持臂使第一和第二晶圓通過單個通道開口實現彼此在不同的層次上旋轉，實現了這種晶片離子注入系統的實際效用。也借由控制器被配置在第一和第二晶圓保持臂相應的裝載鎖定裝置的臺座，使未處理的晶片不互相干擾，每個負載鎖定室的真空排氣和通風機制提供一個緩慢的速度控制真空排氣。這種晶片離子注入系統的設計更加適用于工程技術上的控件應用，擴大了使用范圍，并且也可以在更多領域運用此項技術創新從而帶來更多的收益。?

本實用新型的有益效果是，在實際的運用過程中，此項實用新型提供了一種晶片離子注入系統，通過以第一和第二負載鎖定室，各自具有一個裝載鎖定基座，相鄰設置在真空處理室通中，一個單一的通道開口設置在真空處理室和真空中間腔室之間，提升了這種晶片離子注入系統的實際職能。?

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。?

圖1是本實用新型的設計原理圖。?

圖中??1.?實用新型整體?，2.真空處理室，3.第一負載鎖定基座，4.第二負載鎖定基座。?

具體實施方式

在圖1中，晶片離子注入系統，以第一負載鎖定基座3和第二負載鎖定基座4配置在真空處理室2中，實現實用新型整體1的有效操作。?