[實用新型]FET型鐵氧體磁芯成型上模的改良結構有效

申請號：	201320041174.3	申請日：	2013-01-25
公開（公告）號：	CN203092725U	公開（公告）日：	2013-07-31
發明（設計）人：	高偉華	申請（專利權）人：	昆山尼賽拉電子器材有限公司
主分類號：	B28B7/00	分類號：	B28B7/00;H01F41/02
代理公司：	昆山四方專利事務所 32212	代理人：	盛建德
地址：	215300 江蘇省***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	fet 鐵氧體成型改良結構
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【權利要求書】：

一種FET型鐵氧體磁芯成型上模的改良結構，包括上模底座（1），該上模底座（1）的成型面上間隔固設有第一、二壓塊（2、3），該第一、二壓塊（2、3）的橫截面均呈長條形結構，且該長條形結構的兩端均朝同向彎折延伸形成足部（4），所述第一壓塊（2）的兩足部朝向第二壓塊（3）兩足部的背面，以成型上模的使用方向為基準，其特征在于：第一壓塊（2）兩足部下端面上分別形成有一第一傾斜面（21），且兩所述第一傾斜面（21）相對設置；第二壓塊（3）兩足部下端面上分別形成有一第二傾斜面（31），且兩所述第二傾斜面（31）相對設置。

根據權利要求1所述FET型鐵氧體磁芯成型上模的改良結構，其特征在于：所述第一、二傾斜面（21、31）的高度均為0.10mm。?

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