[實(shí)用新型]一種磁瓦罩殼組件內(nèi)徑高度快速檢測(cè)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320039468.2 | 申請(qǐng)日: | 2013-01-24 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN203083551U | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-07-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳守亮;楊定偉;陳華軒;王衛(wèi)林;張乾峰;劉慶威;顧石成 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 蘇州凱蒂亞半導(dǎo)體制造設(shè)備有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01B21/14 | 分類(lèi)號(hào): | G01B21/14 |
| 代理公司: | 蘇州創(chuàng)元專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103 | 代理人: | 馬明渡 |
| 地址: | 215121 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 罩殼 組件 內(nèi)徑 高度 快速 檢測(cè) 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于自動(dòng)化機(jī)械設(shè)備制造技術(shù)領(lǐng)域,為一種檢測(cè)裝置,具體涉及一種磁瓦罩殼組件內(nèi)徑高度快速檢測(cè)裝置。
背景技術(shù)
參見(jiàn)圖1-3,磁瓦6是一種主要應(yīng)用在永磁電機(jī)上的磁鐵,呈弧形的瓦片狀,具有內(nèi)弧面和外弧面。在電機(jī)制造時(shí),將兩個(gè)磁瓦6內(nèi)弧面相對(duì)裝設(shè)在圓筒狀罩殼17上后形成一體的磁瓦罩殼組件10,該組件是電機(jī)零部件之一。兩個(gè)磁瓦6的內(nèi)弧面相對(duì)形成一圓柱形,該圓柱與圓筒狀的罩殼17同軸。
在磁瓦6安裝在罩殼17上后需要對(duì)磁瓦罩殼組件10進(jìn)行檢測(cè),主要檢測(cè)兩個(gè)磁瓦6內(nèi)弧面所在圓柱形的直徑(即內(nèi)徑d),以及檢測(cè)磁瓦6下緣與罩殼17下緣之間的高度h,以綜合判斷磁瓦6的安裝位置是否正確。現(xiàn)有技術(shù)中,由工人對(duì)磁瓦罩殼組件10進(jìn)行檢測(cè),這既難以控制檢測(cè)的精度,效率又低,不能滿足自動(dòng)化機(jī)械設(shè)備制造對(duì)速度和精確度的高要求。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型提供一種磁瓦罩殼組件內(nèi)徑高度快速檢測(cè)裝置,快速高效,精度高。
為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種磁瓦罩殼組件內(nèi)徑高度快速檢測(cè)裝置,包括底座及設(shè)于該底座上的內(nèi)徑檢測(cè)部和接觸式位移傳感器;
所述內(nèi)徑檢測(cè)部下端固定連接在底座上,上端設(shè)有內(nèi)徑檢測(cè)頭,該內(nèi)徑檢測(cè)頭具有剛性的圓形外緣,該圓形外緣的直徑等于磁瓦罩殼組件中兩個(gè)磁瓦內(nèi)弧面所在圓柱形的直徑;
所述接觸式位移傳感器的感測(cè)頭當(dāng)接觸到磁瓦罩殼組件上的磁瓦的下緣時(shí)能夠感測(cè)到其在豎直方向的位移,該感測(cè)頭位于內(nèi)徑檢測(cè)頭的旁側(cè),并對(duì)應(yīng)于磁瓦罩殼組件中的磁瓦;所述感測(cè)頭在豎直方向上位于內(nèi)徑檢測(cè)頭的圓形外緣的下方,或者,所述感測(cè)頭與內(nèi)徑檢測(cè)頭的圓形外緣位于同一水平面;
所述磁瓦罩殼組件上設(shè)有卡腳,在該磁瓦罩殼組件相對(duì)于內(nèi)徑檢測(cè)頭在豎直方向運(yùn)動(dòng)時(shí)進(jìn)行限位,該卡腳與兩磁瓦的下緣之間間隔距離。
上述技術(shù)方案中的有關(guān)內(nèi)容解釋如下:
1、上述方案中,所述檢測(cè)裝置還包括一彈性件,所述內(nèi)徑檢測(cè)部的下端經(jīng)所述彈性件與底座彈性連接,所述彈性件作用于豎直方向。
2、上述方案中,所述接觸式位移傳感器數(shù)量為兩個(gè),以內(nèi)徑檢測(cè)頭為基準(zhǔn)對(duì)稱(chēng)設(shè)于該內(nèi)徑檢測(cè)頭的兩側(cè)。
3、上述方案中,所述檢測(cè)裝置還包括位置傳感器,用以檢測(cè)磁瓦罩殼組件與內(nèi)徑檢測(cè)頭的相對(duì)位置。
4、上述方案中,所述內(nèi)徑檢測(cè)部配套設(shè)有若干所述內(nèi)徑檢測(cè)頭,這若干內(nèi)徑檢測(cè)頭均與內(nèi)徑檢測(cè)部可拆卸的連接。
5、上述方案中,所述檢測(cè)裝置還包括一傳動(dòng)裝置,該傳動(dòng)裝置包括由上向下依次設(shè)置的接觸銷(xiāo)、連接銷(xiāo)和墊塊,其中接觸銷(xiāo)和連接銷(xiāo)均經(jīng)一直線軸承與底座在豎直方向滑動(dòng)連接,所述接觸銷(xiāo)上端在豎直方向上位于內(nèi)徑檢測(cè)頭的圓形外緣的下方,或者,所述接觸銷(xiāo)上端與內(nèi)徑檢測(cè)頭的圓形外緣位于同一水平面;接觸銷(xiāo)下端與連接銷(xiāo)上端接觸,連接銷(xiāo)下端與墊塊上端在豎直方向定位連接,墊塊下端與接觸式位移傳感器的感測(cè)頭在豎直方向定位連接。
6、上述方案中,所述墊塊具有一方形本體,該本體的上端和下端均開(kāi)設(shè)一卡槽,所述連接銷(xiāo)下端卡入本體上端的卡槽中,所述接觸式位移傳感器的感測(cè)頭卡入本體下端的卡槽中。
本實(shí)用新型工作原理是:對(duì)磁瓦罩殼組件檢測(cè)時(shí),控制該組件的軸向沿豎直方向、組件的卡腳位于兩磁瓦的上方,將磁瓦罩殼組件豎直向下移動(dòng)至檢測(cè)裝置。檢測(cè)裝置上的接觸式位移傳感器的感測(cè)頭在豎直方向上位于內(nèi)徑檢測(cè)頭的圓形外緣的下方或位于同一水平面,磁瓦罩殼組件的兩個(gè)磁瓦內(nèi)弧面會(huì)先接觸到內(nèi)徑檢測(cè)頭的圓形外緣,當(dāng)磁瓦罩殼組件能夠繼續(xù)向下移動(dòng)時(shí),說(shuō)明兩個(gè)磁瓦內(nèi)弧面所在圓柱形的直徑不小于內(nèi)徑檢測(cè)頭的圓形外緣的直徑,此即對(duì)磁瓦罩殼組件兩磁瓦內(nèi)弧面所在圓柱形內(nèi)徑的檢測(cè)。未通過(guò)內(nèi)徑檢測(cè)的磁瓦罩殼組件被放入廢料區(qū),通過(guò)內(nèi)徑檢測(cè)的磁瓦罩殼組件被控制繼續(xù)豎直向下移動(dòng)。
自動(dòng)控制系統(tǒng)中預(yù)設(shè)有一標(biāo)準(zhǔn)值范圍,該標(biāo)準(zhǔn)值范圍是通過(guò)一標(biāo)準(zhǔn)工件測(cè)量得到的。在磁瓦罩殼組件通過(guò)了內(nèi)徑檢測(cè)后繼續(xù)向下移動(dòng)時(shí),磁瓦的下緣面會(huì)接觸到接觸式位移傳感器的感測(cè)頭并帶動(dòng)感測(cè)頭一起向下移動(dòng),直至移動(dòng)至磁瓦罩殼組件上的卡腳卡住內(nèi)徑檢測(cè)頭進(jìn)行限位,下移運(yùn)動(dòng)停止,感測(cè)頭感測(cè)到的這一段下移位移量傳入自動(dòng)控制系統(tǒng),與標(biāo)準(zhǔn)工件的標(biāo)準(zhǔn)值進(jìn)行比較,間接判斷磁瓦罩殼組件中的磁瓦下緣與罩殼下緣之間的高度與標(biāo)準(zhǔn)工件相比是否在可接受誤差范圍之內(nèi),即完成了組件高度的檢測(cè),檢測(cè)合格的組件被放入合格區(qū),不合格組件被放入廢料區(qū)。
由于上述技術(shù)方案運(yùn)用,本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):
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G01B21-02 .用于計(jì)量長(zhǎng)度、寬度或厚度
G01B21-10 .用于計(jì)量直徑
G01B21-16 .用于計(jì)量相隔的物體的間距或間隙
G01B21-18 .用于計(jì)量深度
G01B21-20 .用于計(jì)量輪廓或曲率,例如測(cè)定外形





