[實用新型]間隙擠壓涂膜機構

有效

• 申請號: 201320028698.9
• 申請日: 2013-01-21
• 公開（公告）號: CN203018277U
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: 金鵬;鄧明能;張洪華;張潔;王進軍;郝志軍;田文進
• 申請（專利權）人: 寧德新能源科技有限公司
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05C11/00
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司 44202
• 代理人: 王基才;王冬華

技術領域

本實用新型涉及涂膜機構，尤其涉及一種間隙擠壓涂膜機構。

背景技術

在鋰離子極片生產過程中，利用現有涂抹機構進行間隙性擠壓涂膜（或涂布）時，由于涂輥處的基材存在張力不平衡問題，會導致局部基材與涂輥之間存在微小的間隙，從而使涂膜過程中的基材存在一定程度的顫動；由于擠壓頭與涂輥之間的間隙本身也只有100~150μm，所以涂膜收尾斷開的瞬間非涂布區也會沾到漿料，從而出現極耳污物。另外，涂輥上有時會存在污物，導致刮破基材或出現涂膜劃痕。上述現象都嚴重影響了間隙擠壓涂膜產品的品質，制約了間隙擠壓涂膜技術的進步，因此確有必要提供一種能夠有效提高間隙擠壓涂膜產品品質的間隙擠壓涂膜機構。

實用新型內容

本實用新型的目的在于：提供一種能夠有效提高間隙擠壓涂膜產品品質的間隙擠壓涂膜機構。

為了實現上述目的，本實用新型提供了一種間隙擠壓涂膜機構，其包括涂輥、正對涂輥而對繞過涂輥的基材進行間隙涂布的擠壓頭，以及自動清洗及加濕平衡裝置，自動清洗及加濕平衡裝置設于涂輥背后未繞基材的區域。

作為本實用新型間隙擠壓涂膜機構的一種改進，所述自動清洗及加濕平衡裝置包括噴嘴和涂輥刷板，噴嘴對準涂輥并向涂輥上噴射一定量液體介質，涂輥刷板壓緊在涂輥上，利用液體介質清洗涂輥上的污物并將液體介質均勻分散到涂輥上。

作為本實用新型間隙擠壓涂膜機構的一種改進，所述自動清洗及加濕平衡裝置還包括設于涂輥刷板兩端、驅動涂輥刷板靠近或遠離涂輥的氣缸。

作為本實用新型間隙擠壓涂膜機構的一種改進，所述間隙擠壓涂膜機構還包括張力平衡裝置。

作為本實用新型間隙擠壓涂膜機構的一種改進，所述張力平衡裝置為壓輥式張力平衡裝置、支撐式張力平衡裝置和真空吸附式張力平衡裝置中的一種或多種。

作為本實用新型間隙擠壓涂膜機構的一種改進，所述壓輥式張力平衡裝置設于涂輥與未涂布基材的接觸處，其包括壓緊在涂輥和未涂布基材上而對基材進行張力平衡的膠輥。

作為本實用新型間隙擠壓涂膜機構的一種改進，所述壓輥式張力平衡裝置還包括設于膠輥兩端而對膠輥的壓緊力進行調節的氣缸。

作為本實用新型間隙擠壓涂膜機構的一種改進，所述支撐式張力平衡裝置設于涂輥后已涂布基材的下方，其包括支撐于已涂布基材背面而對基材進行張力平衡的鋁輥。

作為本實用新型間隙擠壓涂膜機構的一種改進，所述支撐式張力平衡裝置還包括設于鋁輥兩端而對鋁輥的支撐力進行調節的氣缸。

作為本實用新型間隙擠壓涂膜機構的一種改進，所述真空吸附式張力平衡裝置設于涂輥與未涂布基材相切處前方的縫隙中，其利用真空吸頭對涂輥與未涂布基材之間進行吸真空，從而利用真空原理使基材緊貼于涂輥。

與現有技術相比，本實用新型間隙擠壓涂膜機構通過自動清洗及加濕平衡裝置清洗掉涂輥上的污物，從而避免了基材被刮破或涂膜出現劃痕；同時，留在涂輥上的液體介質能夠通過吸附作用平衡基材的張力，使基材緊貼于涂輥表面而避免涂膜過程中的涂膜尺寸異常波動，保證非涂布區的極耳不會存在漿料污物。

附圖說明

下面結合附圖和具體實施方式，對本實用新型間隙擠壓涂膜機構及其有益技術效果進行詳細說明，其中：

圖1為本實用新型間隙擠壓涂膜機構的結構示意圖。

具體實施方式

為了使本實用新型的發明目的、技術方案及其有益技術效果更加清晰，以下結合附圖和具體實施方式，對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解的是，本說明書中描述的具體實施方式僅僅是為了解釋本實用新型，并非為了限定本實用新型。

請參閱圖1，本實用新型間隙擠壓涂膜機構包括擠壓頭1、涂輥2、自動清洗及加濕平衡裝置及張力平衡裝置。

基材3繞過涂輥2，擠壓頭1的出料口正對涂輥2而對其上的基材3進行涂布。出料口與涂輥2之間的間隙根據被涂布基材3的厚度、漿料的粘度、涂布厚度等確定，一般為100~150μm；根據間隙涂布的設計參數、基材3走帶速度等，擠壓頭1隨時遠離或靠近涂輥2，從而對基材3進行間隙涂布。