[實用新型]間隙擠壓涂膜機構

有效

• 申請號: 201320028698.9
• 申請日: 2013-01-21
• 公開（公告）號: CN203018277U
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: 金鵬;鄧明能;張洪華;張潔;王進軍;郝志軍;田文進
• 申請（專利權）人: 寧德新能源科技有限公司
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05C11/00
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司 44202
• 代理人: 王基才;王冬華

1.一種間隙擠壓涂膜機構，包括涂輥和正對涂輥而對繞過涂輥的基材進行間隙涂布的擠壓頭，其特征在于：所述間隙擠壓涂膜機構還包括自動清洗及加濕平衡裝置，自動清洗及加濕平衡裝置設于涂輥背后未繞基材的區域。

2.根據權利要求1所述的間隙擠壓涂膜機構，其特征在于：所述自動清洗及加濕平衡裝置包括噴嘴和涂輥刷板，噴嘴對準涂輥并向涂輥上噴射一定量液體介質，涂輥刷板壓緊在涂輥上，利用液體介質清洗涂輥上的污物并將液體介質均勻分散到涂輥上。

3.根據權利要求2所述的間隙擠壓涂膜機構，其特征在于：所述自動清洗及加濕平衡裝置還包括設于涂輥刷板兩端、驅動涂輥刷板靠近或遠離涂輥的氣缸。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的間隙擠壓涂膜機構，其特征在于：所述間隙擠壓涂膜機構還包括張力平衡裝置。

5.根據權利要求4所述的間隙擠壓涂膜機構，其特征在于：所述張力平衡裝置為壓輥式張力平衡裝置、支撐式張力平衡裝置和真空吸附式張力平衡裝置中的一種或多種。

6.根據權利要求5所述的間隙擠壓涂膜機構，其特征在于：所述壓輥式張力平衡裝置設于涂輥與未涂布基材的接觸處，其包括壓緊在涂輥和未涂布基材上而對基材進行張力平衡的膠輥。

7.根據權利要求6所述的間隙擠壓涂膜機構，其特征在于：所述壓輥式張力平衡裝置還包括設于膠輥兩端而對膠輥的壓緊力進行調節的氣缸。

8.根據權利要求5所述的間隙擠壓涂膜機構，其特征在于：所述支撐式張力平衡裝置設于涂輥后已涂布基材的下方，其包括支撐于已涂布基材背面而對基材進行張力平衡的鋁輥。

9.根據權利要求8所述的間隙擠壓涂膜機構，其特征在于：所述支撐式張力平衡裝置還包括設于鋁輥兩端而對鋁輥的支撐力進行調節的氣缸。

10.根據權利要求5所述的間隙擠壓涂膜機構，其特征在于：所述真空吸附式張力平衡裝置設于涂輥與未涂布基材相切處前方的縫隙中，其利用真空吸頭對涂輥與未涂布基材之間進行吸真空，從而利用真空原理使基材緊貼于涂輥。