[實用新型]一種表面具有凸起的二氧化鈦薄膜的沉積裝置

有效

• 申請號: 201320014623.5
• 申請日: 2013-01-11
• 公開（公告）號: CN203007390U
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 尤玉飛;徐春花;王俊鵬;王鏡喆;李晶晶;劉玉亮;曹津;李登輝;陳月
• 申請（專利權）人: 河南科技大學
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/08
• 代理公司: 洛陽公信知識產權事務所(普通合伙) 41120
• 代理人: 羅民健

技術領域

本實用新型涉及一種薄膜沉積裝置，具體的說是一種表面具有凸起的二氧化鈦薄膜的沉積裝置。

背景技術

二氧化鈦由于其具有優越的白度、著色力、遮蓋力、耐候性、耐熱性、化學穩定性以及安全性，被廣泛用于涂料、塑料、橡膠、油墨、紙張、化纖、陶瓷、日化、醫藥和食品等行業，隨著納米材料的表面效應、量子效應和宏觀體積效應等特殊性能的發現和闡明，二氧化鈦納米材料的應用領域不斷擴大，作為功能材料具有廣闊的應用前景，如應用于太陽能電池、水處理、空氣凈化器、防霧和防污自清潔涂層、抗菌材料和降溫材料等多個領域，引起了人們的廣泛關注。

目前，制備致密的二氧化鈦薄膜技術較為成熟，近年來人們致力于制備各種不同形貌的二氧化鈦薄膜以開發新的應用領域。如二氧化鈦納米片/巢狀層狀結構薄膜被用作染料敏化太陽能電池的光陽極使其光電轉換效率較普通二氧化鈦薄膜提高了近10倍常萌蕾,李新軍.物理化學報:?2012,28(6):?1368-1372；制備具有微米-納米二元結構的二氧化鈦薄膜以控制水在薄膜表面的潤濕角，以實行自潔功能Adriano?F.?Feil,?Daniel?E.?Weibel.?ACS?Applied?Materials?Interface,?2011,3(10):?3981-3987)；軟光刻技術被用來制備表面具有微米尺度結構的薄膜，以制備各種薄膜器件，但其工藝復雜，成本高Sajid?Ullah?Khan,Johan?Eten?Elshof.?Science?Andtechnology?of?Advance?Materials:?2012,13,025002(9pp)；最近，理論計算表明具有折疊或具有曲率的二氧化鈦薄膜可用于制備波紋光催化反應器(Adam?A,?Donaldson,Zisheng?Zhang.?AIChE?Journal,?2012?,5(58):?1578-1587)，但實驗制備具有折疊或具有曲率的二氧化鈦薄膜還沒有報導，傳統利用氣相沉積設備制備二氧化鈦薄膜，設備復雜，成本昂貴，制得的均為表面光滑的二氧化鈦薄膜，還沒有專門用于制備表面具有凸起的二氧化鈦薄膜的沉積裝置，尤其是在只有理論計算而要進行實驗驗證的情況下，傳統設備增加了實驗成本和設備運作成本，因此，提供一種實驗室條件下的成本低廉且效果理想的薄膜沉積裝置，是十分必要的。

實用新型內容

為解決現有技術中薄膜沉積的常規裝置存在的結構復雜、成本昂貴、運轉成本高，沒有專門用于制備表面具有凸起的二氧化鈦薄膜的沉積裝置等問題，本實用新型提供了一種表面具有凸起的二氧化鈦薄膜的沉積裝置。

本實用新型為解決上述問題所采用的技術方案為：一種表面具有凸起的二氧化鈦薄膜的沉積裝置，包括由坩堝和與坩堝相配合的坩堝蓋所形成的封閉反應腔，反應腔的底壁上設有用于盛放鈦源的凹槽，反應腔內還設有設置在凹槽上方的襯底，所述的襯底下表面距離反應腔底壁的垂直高度為5-25mm。

所述的凹槽的深度為1-5mm。

所述襯底通過固定支架設置在凹槽上方。

所述襯底通過襯底擋板設置在凹槽上方。

本實用新型中的固定支架是石英玻璃支架、普通玻璃支架或陶瓷固定支架，襯底是石英玻璃襯底、導電玻璃襯底或陶瓷襯底，固定支架、襯底擋板、襯底的材質均根據鈦源的類型進行選擇，以不引入雜質為準。

有益效果：本實用新型的裝置適用于實驗室條件下，不必在該裝置的基礎上另設輔助裝置，減少了實驗的成本和設備的運轉成本；在使用時，只需將該裝置放入加熱裝置如加熱爐內，通過設定所需的參數，即可進行實驗操作，制得所需的表面具有凸起的薄膜，設備成本低廉且制得的薄膜效果理想。

附圖說明

圖1為本實用新型中實施例1的結構示意圖；

圖2為本實用新型中實施例2的結構示意圖。

附圖標記：1、坩堝，2、坩堝蓋，3、襯底，4、固定支架，5、凹槽，6、襯底擋板。

具體實施方式

以下結合附圖及實施例進一步闡述本實用新型，對依據本實用新型提供的一種表面具有凸起的二氧化鈦薄膜的沉積裝置作具體的說明。

實施例1

如圖1所示，一種表面具有凸起的二氧化鈦薄膜的沉積裝置，包括由坩堝1和與坩堝1相配合的坩堝蓋2所形成的封閉反應腔，反應腔的底壁上設有用于盛放鈦源的凹槽5，凹槽5的深度為3mm，反應腔內還設有通過固定支架4設在凹槽5上方的襯底3，襯底3與固定支架4垂直設置，使襯底3的上下表面保持水平，襯底3下表面距離反應腔底壁的垂直高度為15mm。

實施例2