[實用新型]一種表面具有凸起的二氧化鈦薄膜的沉積裝置有效
| 申請號： | 201320014623.5 | 申請日： | 2013-01-11 |
| 公開（公告）號： | CN203007390U | 公開（公告）日： | 2013-06-19 |
| 發明（設計）人： | 尤玉飛;徐春花;王俊鵬;王鏡喆;李晶晶;劉玉亮;曹津;李登輝;陳月 | 申請（專利權）人： | 河南科技大學 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24;C23C14/08 |
| 代理公司： | 洛陽公信知識產權事務所(普通合伙) 41120 | 代理人： | 羅民健 |
| 地址： | 471000 河*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 表面 具有 凸起 氧化 薄膜 沉積 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種表面具有凸起的二氧化鈦薄膜的沉積裝置，其特征在于：包括由坩堝（1）和與坩堝（1）相配合的坩堝蓋（2）所形成的封閉反應腔，反應腔的底壁上設有用于盛放鈦源的凹槽（5），反應腔內還設有設置在凹槽（5）上方的襯底（3），所述襯底（3）的下表面距離反應腔底壁的垂直高度為5-25mm。
2.根據權利要求1所述的一種表面具有凸起的二氧化鈦薄膜的沉積裝置，其特征在于：所述的凹槽（5）的深度為1-5mm。
3.根據權利要求1所述的一種表面具有凸起的二氧化鈦薄膜的沉積裝置，其特征在于：所述襯底（3）通過固定支架（4）設置在凹槽（5）上方。
4.根據權利要求1所述的一種表面具有凸起的二氧化鈦薄膜的沉積裝置，其特征在于：所述襯底（3）通過襯底擋板（6）設置在凹槽（5）上方。
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