[實(shí)用新型]一種太陽光譜選擇性吸收膜

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320006538.4
• 申請(qǐng)日: 2013-01-07
• 公開（公告）號(hào): CN203163317U
• 公開（公告）日: 2013-08-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉小軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湖南興業(yè)太陽能科技有限公司
• 主分類號(hào): F24J2/48
• 分類號(hào): F24J2/48;B32B15/20;B32B15/00;B32B9/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于薄膜技術(shù)和薄膜材料領(lǐng)域，涉及一種顏色可調(diào)選擇性太陽能吸收膜。?

背景技術(shù)

太陽能選擇性吸收涂層是太陽能集熱設(shè)備的核心部件，起著吸收太陽輻射能量并向集熱器的傳熱工質(zhì)傳遞熱量的雙重作用，目前市場(chǎng)上主要的太陽能選擇性吸收涂層有黑鉻、黑鎳、陽極氧化涂層以及藍(lán)鈦鍍膜等，現(xiàn)有涂層顏色單一，不美觀，缺乏裝飾性不能使太陽能熱水系統(tǒng)與建筑物在色調(diào)上協(xié)調(diào)一致。?

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是提供一種太陽光譜選擇性吸收膜，使其太陽能吸收率高，發(fā)射率低，膜顏色可根據(jù)需要進(jìn)行調(diào)整。?

本實(shí)用新型的技術(shù)方案是，一種太陽光譜選擇性吸收膜，包括一個(gè)覆膜基體，在覆膜基體表面從內(nèi)到外依次覆蓋紅外反射層、中間介質(zhì)層、半透明金屬層、表面介質(zhì)層，所述的覆膜基體為金屬或合金，所述的紅外反射層是鋁涂層，所述的中間介質(zhì)層為氮化硅涂層，所述的半透明金屬層為鉻涂層，所述的表面介質(zhì)層為氮氧化硅或氮化硅涂層。?

紅外反射層厚度為20~150nm，中間介質(zhì)層和表面介質(zhì)層厚度為30~100nm，半透明金屬層厚度為1~50nm。?

在表面介質(zhì)層外增加一個(gè)或兩個(gè)“半透明金屬層/介質(zhì)層”交替層。?

?“半透明金屬層/介質(zhì)層”?交替層的半透明金屬層為鉻涂層，介質(zhì)層為氮化硅涂層。?

?“半透明金屬層/介質(zhì)層”?交替層的半透明金屬層的厚度為1~30nm，介質(zhì)層厚度為30~100nm。?

一種太陽光譜選擇性吸收膜的生產(chǎn)方法：?

本實(shí)用新型具有如下的技術(shù)效果，太陽光譜選擇性吸收膜太陽能吸收率高，發(fā)射率低，膜顏色可根據(jù)需要進(jìn)行調(diào)節(jié)，能使太陽能熱水系統(tǒng)與建筑物在色調(diào)上協(xié)調(diào)一致。

附圖說明

圖１是藍(lán)色的太陽光譜選擇性吸收膜的層狀結(jié)構(gòu)示意圖。?

圖２是藍(lán)色的太陽光譜選擇性吸收膜的層狀結(jié)構(gòu)示意圖。?

圖3是黑色的太陽光譜選擇性吸收膜的層狀結(jié)構(gòu)示意圖。?

圖4是紫色的太陽光譜選擇性吸收膜的層狀結(jié)構(gòu)示意圖。?

具體實(shí)施方式

實(shí)施例1

如圖１所示，一種藍(lán)色的太陽光譜選擇性吸收膜，包括一個(gè)金屬鋁覆膜基體1，在鋁覆膜基體1表面從內(nèi)到外依次覆蓋厚度為20nm純鋁紅外反射層2、厚度為60nm的氮化硅中間介質(zhì)層3、厚度為15nm的半透明金屬鉻層4、厚度為68nm的氮氧化硅表面介質(zhì)層5。

其生產(chǎn)方法是：選擇性吸收涂層的制備方法依次按以下步驟進(jìn)行。?

a.將鋁基體進(jìn)行表面處理，除去表面油污和氧化皮。?

b.將表面處理好的基體烘干。?

c.將烘干的基體置于真空鍍膜室內(nèi)。?

d.真空室內(nèi)，先在基體上磁控濺射一層鋁紅外反射層，真空度為0.5Pa，氣體濺射靶材為雙陰極鋁靶，其濺射電流為10A，濺射電壓為460V，濺射氣體為Ar。?

e.氮化硅中間介質(zhì)層，真空度為0.5Pa，氣體濺射靶材為中頻電源控制的雙陰極硅靶，其濺射電流為45A，濺射電壓為570V，濺射氣體為Ar，反應(yīng)氣體為N₂，Ar占所有氣體比重的43%，N2占57%。?

f.真空室內(nèi)，再濺射一層半透明金屬鉻層，真空度為0.5Pa氣體濺射靶材為雙陰極鉻靶，其濺射電流為10A，濺射電壓為510V，濺射氣體為Ar。?

g.真空室內(nèi)，最后再磁控濺射一層氮氧化硅表面介質(zhì)層，真空度為0.5Pa氣體濺射靶材為中頻電源控制的雙陰極硅靶，其濺射電流為47A，濺射電壓為600V，濺射氣體為Ar，反應(yīng)氣體為N₂摻O₂，Ar占所有氣體比重的33%，N2占60%，O2占7%。?

該藍(lán)色的太陽光譜選擇性吸收膜的太陽能吸收率為：94.5%，發(fā)射率為：6%。?

實(shí)施例2

如圖2所示，一種藍(lán)色的太陽光譜選擇性吸收膜，包括一個(gè)鋁覆膜基體1，在鋁覆膜基體1表面從內(nèi)到外依次覆蓋厚度為20nm純鋁紅外反射層2、厚度為60nm的氮化硅中間介質(zhì)層3、厚度為23nm的半透明金屬鉻層4、厚度為58nm的氮化硅表面介質(zhì)層5，在表面介質(zhì)層5外增加一個(gè)?“半透明金屬層/介質(zhì)層”交替層6，“半透明金屬層/介質(zhì)層”交替層6的半透明金屬層為含鉻的涂層，厚度為10nm，介質(zhì)層為含氮化硅的涂層，厚度為59nm。?

其生產(chǎn)方法是：選擇性吸收涂層的制備方法依次按以下步驟進(jìn)行。?

a.將鋁基體進(jìn)行表面處理，除去表面油污和氧化皮。?