[實用新型]OLED玻璃基板蒸鍍機

有效

• 申請號: 201320001549.3
• 申請日: 2013-01-04
• 公開（公告）號: CN203021641U
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: 南一虎;金鉉東;趙芳
• 申請（專利權）人: 四川虹視顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 成都虹橋專利事務所(普通合伙) 51124
• 代理人: 劉世平

技術領域

本實用新型涉及一種OLED玻璃基板蒸鍍機。

背景技術

如圖1所示，現有的OLED玻璃基板蒸鍍機都采用點蒸發源的方式，而且大部分是采用兩個點蒸發源。第一點蒸發源2和第二點蒸發源3設置在玻璃基板4下方，且在對稱設置在玻璃基板4的幾何中心的兩側，在玻璃基板4與點蒸發源之間設置有主擋板1。蒸鍍前主擋板1處于關閉狀態，工作時，將需要蒸鍍的材料放入點蒸發源中，并加熱；玻璃基板4在水平方向上以自身的幾何中心為中心旋轉，當蒸汽的噴射速度達到設定值時，打開主擋板1，使蒸發出來的物質附著在玻璃基板4上；當蒸鍍材料在玻璃基板4上形成規定厚度的膜層時，關閉主擋板1，遮擋住玻璃基板4，并關閉點蒸發源，完成蒸鍍。這種采用雙點蒸發源的方式有利于提高蒸鍍效率，控制蒸鍍面積。但雙點蒸發源的方式存在一個缺陷，如圖1所示，為了防止蒸鍍時出現遺漏，兩個點蒸發源在玻璃基板4上的蒸鍍范圍有部分重合，出現重合區域6，重合區域6位于玻璃基板4的中間位置，附著在重合區域6內的蒸鍍物質的量為其他部分的兩倍，所以在中間部分的膜層厚度幾乎是邊緣部分的兩倍。蒸鍍的膜層厚度不均勻就會導致OLED器件性能差異，包括亮度不均、色坐標不均等不良現象。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是提供一種OLED玻璃基板蒸鍍機，此OLED玻璃基板蒸鍍機極大地提高蒸鍍的均一性，進而改善玻璃基板上膜層厚度的一致性，提高產品質量。

本實用新型解決技術問題所采用的技術方案是：此OLED玻璃基板蒸鍍機包括主擋板和位于所述主擋板下方的第一點蒸發源和第二點蒸發源，玻璃基板設置于所述主擋板上方，所述第一點蒸發源和第二點蒸發源在玻璃基板上的蒸鍍范圍存在重合區域，還包括子擋板，所述子擋板設置于所述玻璃基板下方，且能夠遮擋所述重合區域。通過控制子擋板開啟和關閉的時間，使玻璃基板上的重合區域與其他部分附著的蒸鍍物質接近均衡，改善蒸鍍均一性。

為更好地控制子擋板的開啟和關閉的時間比，獲得更好的蒸鍍均一性，所述子擋板的幾何中心與所述玻璃基板的幾何中心在豎直方向上共軸。

本實用新型的有益效果是：此OLED玻璃基板蒸鍍機通過增加設置子擋板，改變了蒸鍍玻璃基板時，位于中間部分的重合區域的蒸鍍時間，有效控制了重合區域內附著蒸鍍物質的量，使蒸鍍物質在整個玻璃基板上的分布更均一，形成的膜層厚度的一致性更好。采用此OLED玻璃基板蒸鍍機，極大地改善了玻璃基板各個部分的亮度均一性和色坐標的準確性，進而改善玻璃基板的整體光學性能，提高產品質量，減低廢品率。此OLED玻璃基板蒸鍍機操作方便，自動化程度高。

附圖說明

圖1是現有的OLED玻璃基板蒸鍍機的工作原理示意圖。

圖2是本實用新型OLED玻璃基板蒸鍍機的工作原理示意圖。

具體實施方式

如圖2所示，在待加工的玻璃基板4的下方設置子擋板5。蒸鍍過程是，關閉主擋板1和子擋板5，開啟第一點蒸發源2和第二點蒸發源3，使蒸鍍物質受熱蒸發，當蒸鍍物質的流速和密度達到設定參數要求時，打開主擋板1，蒸鍍物質附著在玻璃基板4上。由于子擋板5的遮擋，玻璃基板4上的重合區域6內沒有蒸鍍物質。在適當時間打開子擋板5，蒸鍍物質繼續向整個玻璃基板4上附著，但從第一點蒸發源2和第二點蒸發源3中蒸發出來的蒸鍍物質都附著在重合區域6內，重合區域6內蒸鍍物質的積累速度是其他區域的兩倍，這樣在繼續蒸鍍一段時間后，重合區域6與其他區域附著的蒸鍍物質的量接近均衡，如果時間控制精確，可以做到相等，此時關閉主擋板1，完成蒸鍍過程。蒸鍍物質冷卻后形成的膜層厚度更均勻，蒸鍍后的玻璃基板4在亮度、色坐標等方面的光學性能更好，產品整體質量更高。

基于蒸鍍均勻性的要求，和簡化控制程序，第一點蒸發源2和第二點蒸發源3一般采用同種產品，這樣從第一點蒸發源2和第二點蒸發源3射出的蒸汽流的角度和覆蓋面積基本相同，重合區域6正好處于玻璃基板4的中心位置。所以，將子擋板5的幾何中心于玻璃基板4的幾何中心在豎直方向上共軸，更有利于計算和控制子擋板5的開啟時間，而且在設計子擋板5的形狀和尺寸時也更便于計算。

子擋板5的形狀、尺寸、打開的時間點和持續時間的長短，根據蒸鍍膜層厚度、重合區域6的面積、玻璃基板4與點蒸發源之間的距離等因素設定。以目前蒸鍍OLED玻璃基板的要求為例，在玻璃基板4上附著蒸鍍物質的厚度為1500埃，單個點蒸發源的蒸鍍速度為3埃/秒，由于玻璃基板4在蒸鍍過程中處于旋轉狀態，所以玻璃基板4每旋轉一周，每個位置先后經過第一點蒸發源2和第二點蒸發源3上方，所以整個蒸鍍時間為250秒。據此可以推算出，從打開主擋板1時開始計時，主擋板1打開125秒后，重合區域6上蒸鍍物質的厚度為0埃，而玻璃基板4上其他區域的蒸鍍物質的厚度為750埃，此時打開子擋板5，從第一點蒸發源2和第二點蒸發源3蒸發出來的蒸鍍物質同時附著在重合區域6，重合區域6的蒸鍍速度為12埃/秒，再經過125秒，重合區域6的蒸鍍物質的厚度為1500埃；而玻璃基板4上除重合區域6以外的其他區域的蒸鍍速度始終為6埃/秒，總共蒸鍍250秒，蒸鍍物質的厚度同樣為1500埃，整個玻璃基板4上各個部分附著的蒸鍍物質的厚度達到均衡。