[實用新型]OLED玻璃基板蒸鍍機有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320001549.3 | 申請日: | 2013-01-04 |
| 公開(公告)號: | CN203021641U | 公開(公告)日: | 2013-06-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | 南一虎;金鉉東;趙芳 | 申請(專利權)人: | 四川虹視顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司: | 成都虹橋專利事務所(普通合伙) 51124 | 代理人: | 劉世平 |
| 地址: | 611731 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | oled 玻璃 基板蒸鍍機 | ||
1.OLED玻璃基板蒸鍍機,包括主擋板(1)和位于所述主擋板(1)下方的第一點蒸發(fā)源(2)和第二點蒸發(fā)源(3),玻璃基板(4)設置于所述主擋板(1)上方,所述第一點蒸發(fā)源(2)和第二點蒸發(fā)源(3)在玻璃基板(4)上的蒸鍍范圍存在重合區(qū)域(6),其特征在于:還包括子擋板(5),所述子擋板(5)設置于所述玻璃基板(4)下方,且能夠遮擋所述重合區(qū)域(6)。
2.根據(jù)權利要求1所述的OLED玻璃基板蒸鍍機,其特征在于:所述子擋板(5)的幾何中心與所述玻璃基板(4)的幾何中心在豎直方向上共軸。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





