[發(fā)明專利]一種控制氣流磨裝置氣流的方法和氣流磨裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310756664.6
• 申請日: 2013-12-31
• 公開（公告）號: CN103990539A
• 公開（公告）日: 2014-08-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張建洪;永田浩;王清江;歐陽小呂
• 申請（專利權(quán)）人: 廈門鎢業(yè)股份有限公司
• 主分類號: B02C25/00
• 分類號: B02C25/00;B02C19/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種控制氣流磨裝置氣流的方法，其特征在于，包括如下的步驟：

1)在恒壓供氣裝置與氣流磨粉碎室的連通處設(shè)置調(diào)節(jié)裝置；

2)之后通過所述調(diào)節(jié)裝置以包括至少兩級的分級提高方式通入氣體，至達到所述氣流磨裝置的設(shè)定流量，且上一級較大流量為下一級較小流量1.4～16倍。

2.氣流磨裝置，包括恒壓供氣裝置和帶有側(cè)噴口和底噴口的粉碎室，其特征在于：所述側(cè)噴口和所述底噴口具有一共同進氣口，所述共同進氣口經(jīng)由至少兩條分別設(shè)置管道閥的管道連接所述恒壓裝置，每一管道分別具有不同的直徑，且上一級較大管道的直徑均為下一級較小管道的直徑1.2～4倍，通過所述最大管道流入的氣體流量或通過所述全部管道流入的氣體流量之和為所述氣流磨裝置的設(shè)定流量。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氣流磨裝置，其特征在于：所述共同進氣口分別通過第一管道和第二管道連接所述恒壓供氣裝置，所述第一管道上設(shè)置第一管道閥，所述第二管道上設(shè)置第二管道閥，且第二管道直徑為第一管道直徑的1.2～4倍，通過所述第二管道流入的氣體流量或通過所述第二管道與所述第一管道流入的氣體流量之和為所述氣流磨裝置的設(shè)定流量。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣流磨裝置，其特征在于：所述恒壓供氣裝置包括儲氣罐，所述儲氣罐設(shè)有壓力傳感器、第一進氣口、第二進氣口、第一出氣口、第二出氣口和排氣口，所述第一管道連通所述儲氣罐的第一出氣口，所述第二管道連通所述儲氣罐的第二出氣口，所述第一進氣口直接連接一回收氣供氣源，所述第二進氣口間隔一第一電磁閥連通一新增氣供氣源，所述排氣口處設(shè)置一第二電磁閥，所述電磁閥和所述壓力傳感器均連接至一PLC控制器。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣流磨裝置，其特征在于：所述壓力傳感器靠近于所述儲氣罐第一出氣口或所述儲氣罐第二出氣口處設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣流磨裝置，其特征在于：所述儲氣罐的體積為20L～200L。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氣流磨裝置，其特征在于：還包括另一新增氣供氣源，其直接連接所述第一進氣口。

8.根據(jù)權(quán)利要求2、3、4、5、6或7中所述的氣流磨裝置，其特征在于：所述氣流磨裝置為用于粉碎稀土磁鐵用合金或稀土磁鐵用合金粉末的氣流磨裝置。