[發明專利]一種工件在蝕刻區做往復運動的蝕刻方法及裝置在審
| 申請號: | 201310755076.0 | 申請日: | 2013-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN103731996A | 公開(公告)日: | 2014-04-16 |
| 發明(設計)人: | 胡宏宇;鄭國平 | 申請(專利權)人: | 天津市德中技術發展有限公司 |
| 主分類號: | H05K3/06 | 分類號: | H05K3/06 |
| 代理公司: | 天津盛理知識產權代理有限公司 12209 | 代理人: | 董一寧 |
| 地址: | 300384 天津市西青區*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 工件 蝕刻 往復 運動 方法 裝置 | ||
技術領域
本發明屬于電路板加工技術領域,尤其是一種工件在蝕刻區做往復運動的蝕刻方法及裝置。?
背景技術
在電路板加工過程中,通常都包含有蝕刻步驟,現有的蝕刻方式及設備通常分為四類,它們是浸泡式、鼓泡式、潑濺式和噴淋式。這四種蝕刻方式的特點分別為:?
浸泡蝕刻是蝕刻劑與工件間相對靜止的蝕刻方式,蝕刻液裝入容器內,蝕刻時將印制板或工件全部或部分浸入到蝕刻劑中,蝕刻劑與被蝕刻材料交界面上,蝕刻劑因化學反應逐漸被消耗,生成金屬離子的絡合物,與周圍的蝕刻劑形成了濃度差。因為濃度差的存在,絡合物不斷向外擴散到蝕刻劑中,蝕刻劑不斷向內擴散到界面上,使得蝕刻反應繼續進行。浸泡式的缺點是蝕刻劑和被蝕刻材料相對靜止,靠濃度差引起的擴散完成蝕刻劑更新,蝕刻速度非常慢,抗蝕劑往往耐受不住長時間的浸泡而脫離,蝕刻精度和質量難于控制,不適合精細線路電路板制作。?
鼓泡式蝕刻采用泡沫蝕刻機,借助壓縮空氣,使蝕刻液產生大量泡沫,浸沒印刷板。控制壓縮空氣的壓力和流量,使泡沫破裂—再生,促進反應進行。蝕刻時,被蝕刻工件固定,蝕刻劑運動。主要組成部分是儲液槽、鼓泡發生器,和放置工件用的托架。蝕刻劑的流動的動力由壓縮空氣提供。發生鼓泡的裝置埋在蝕刻劑中,外接壓縮空氣被引入鼓泡管中,空氣從鼓泡管中排出,并與蝕刻劑相互作用,不斷形成蝕刻劑氣泡,隨著氣泡不斷增多,體積膨脹,沿流動床流動,遇到電路板時,有些氣泡破裂,液體與氣泡的混合物,沖刷電路板,實施蝕刻。這樣的結構,不適于設計成連續生產模式,由于氣泡流動,對被蝕刻表面沖擊力有限,且流動方向與需要切入的方向垂直,因此蝕刻精度和速度有一定局限。此外,水平放置工件,會導致工件兩面液體流動狀況不同。朝下的被蝕刻表面,由于重力原因,液體更新更快,被蝕刻的快些。朝上的被蝕刻表面,由于液體重力和表面張力原因,越靠近工件表面,流動越慢,蝕刻速度因此變慢,被蝕刻工件的兩面,就不可避免地出現蝕刻偏差。?
濺射式蝕刻是利用電機帶動裝有葉片的轉軸,借助離心力的作用,把蝕刻液潑濺到印制板上進行蝕刻。這種設備屬于工件固定不動,蝕刻劑運動類型。工作時,電機帶動部分浸在?蝕刻劑中的葉片旋轉,葉片擊打蝕刻劑,使其加速,濺射到工件上,沖擊被蝕刻材料表面。因為電機不停旋轉,葉片接連不斷地將新鮮蝕刻劑濺射向工件上,到達工件材料的表面上的藥液有一定的沖擊力,并不斷更新,因此采用這樣的設備蝕刻速度較快。但是,這種方法,一般只能使蝕刻劑到達對工件的一面,不能同時蝕刻兩面,對于需要雙面蝕刻的工件,操作比較麻煩。同時,濺射的方法,很難保證蝕刻劑在整個工件表面上沖擊力和分布密度均勻一致,蝕刻質量不好控制。既不能保證產品均勻一致,又不適合連續生產。?
噴淋式是當前的主流技術,利用泵將蝕刻液送入上、下噴頭,噴成霧狀微粒,以一定的壓力噴淋到工件的被蝕刻面上進行蝕刻,有些噴淋式蝕刻機的噴頭在一定范圍內水平擺動,以保證整塊板子的各部位都能噴上藥液。工件由傳送帶或輥道進行傳送,使蝕刻連續進行。蝕刻液循環使用。噴淋式蝕刻設備主要由過濾和儲液部分,藥液噴淋循環部分,工件傳輸部分組成。在這樣的設備上,腐蝕劑和工件都是運動的,蝕刻劑運動的方向,與需要切入的方向一致。蝕刻液被泵打入噴淋管路中后,以一定的壓力從噴嘴噴出。噴嘴分成上噴淋組和下噴淋兩組,沿鉛垂線方向安裝并排成陣列,上噴淋組從上向下噴,下噴淋組從下往上噴。噴淋嘴噴液形狀有圓錐體和扇形兩類,相鄰噴嘴噴出的蝕刻液到達板面時,有一定的重疊區,不留空白。?
在上、下噴淋組之間,是工件傳輸系統。圓轉輥以通常按30、50或70mm軸距排列,轉輥由電機通過傘形齒輪或傳送帶帶動旋轉,轉輥上每隔一定間距裝有輪片,輪片支撐電路板。輪片隨轉軸旋轉時,帶動水平放置的電路板向前移動。只有轉輥和葉輪緊密排列,才能保證小板、薄板和軟板傳送時不掉板,不卡板,但緊密排列又會遮蔽噴淋液到達下表面。?
水平傳板,垂直噴淋蝕刻方式及設備,上下板方便,自動化程度高,適合大批量生產。但帶來的問題是電路板上下表面腐蝕速度和質量不一致。由于重力的作用,噴到下表面的蝕刻液很容易脫離蝕刻面滴落,溶液交換速度快,不斷有新溶液與蝕刻面接觸,減少了側蝕的機會,側蝕較小,因而蝕刻速度快,蝕刻質量好。而上表面的蝕刻液需要水平流動至邊緣,才能排出,交換更新慢,蝕刻劑停留時間長,在垂直蝕刻的同時向兩側蝕刻,特別是板中間部位,液體流出格外困難,導致蝕刻速度慢,并且側蝕嚴重。這樣的結構導致電路板的下表面蝕刻快而好,上表面邊緣尚可,而中間慢而差。?
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