[發(fā)明專(zhuān)利]一種感光單元、顯示面板的陣列基板及其制作方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310753810.X | 申請(qǐng)日: | 2013-12-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103762263A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-04-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 戴天明 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L31/105 | 分類(lèi)號(hào): | H01L31/105;H01L31/0352;H01L27/12;H01L21/84 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11372 | 代理人: | 吳大建;劉華聯(lián) |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 感光 單元 顯示 面板 陣列 及其 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及圖像顯示技術(shù),特別是關(guān)于一種感光單元、顯示面板的陣列基板及其制作方法。
背景技術(shù)
隨著科技的不斷進(jìn)步,顯示面板技術(shù)也在不斷發(fā)展。近年來(lái),液晶顯示面板(TFT?LCD)以其卓越的性能已經(jīng)成為市場(chǎng)的主流產(chǎn)品。一個(gè)液晶顯示面板主要由陣列基板、彩色濾光片基板和液晶層組成。其中,陣列基板是由多個(gè)陳列排布的晶體管,以及與每一個(gè)晶體管對(duì)應(yīng)配置的像素單元(pixel)組成。晶體管作為啟動(dòng)像素單元工作的開(kāi)關(guān)元件,通過(guò)掃描線接收來(lái)自掃描驅(qū)動(dòng)電路的掃描信號(hào),通過(guò)數(shù)據(jù)線接收來(lái)自數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)電路的數(shù)據(jù)信號(hào),在掃描信號(hào)的作用下將數(shù)據(jù)信號(hào)寫(xiě)入像素單元,該像素單元的液晶分子在數(shù)據(jù)信號(hào)的作用下發(fā)生相應(yīng)的偏轉(zhuǎn),透過(guò)一定量的光,同時(shí)配以外圍的灰階調(diào)節(jié)電路對(duì)光的強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)節(jié),完成圖像顯示。隨著用戶要求的不斷提高,現(xiàn)今的顯示面板除了實(shí)現(xiàn)上述顯示功能之外,還整合了諸多新的功能,已形成了功能不斷完善的多媒體平臺(tái)。環(huán)境光線感測(cè)功能就是當(dāng)前顯示面板中整合的新功能之一。由現(xiàn)有技術(shù)可知,這種功能通常是通過(guò)在顯示面板的陣列基板上增設(shè)感光單元實(shí)現(xiàn)。如圖1所示,是現(xiàn)有的一種包含感光單元的陣列基板的結(jié)構(gòu)剖視圖。該陣列基板包括基板10,以及在基板10上依次設(shè)置的緩沖層20、第一圖案化半導(dǎo)體層30、柵極絕緣層40、第一圖案化金屬層50、層間介電層60和第二圖案化金屬層70,在設(shè)置第二圖案化金屬層70時(shí),于感光區(qū)處形成第一感測(cè)電極E1,然后在第一感測(cè)電極E1上沉積一層富硅氧化硅層(silicon?rich?oxide,SRO)或是富硅氮化硅層(silicon?rich?nitride,SRN),作為光敏介電層80,然后再在光電介電層80設(shè)置第二第一感測(cè)電極E2,形成感光單元。這種感光單元的生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)單易行,但是由于是單層膜(一層富硅氧化硅層或者富硅氮化硅層)結(jié)構(gòu),因此產(chǎn)生的光電流容易因?yàn)楣ぷ麟妷旱牟▌?dòng)而發(fā)生劇烈的變化,進(jìn)而導(dǎo)致感測(cè)結(jié)果不準(zhǔn)確。
現(xiàn)有技術(shù)中,還有一種具有指紋辨識(shí)功能的液晶顯示面板,該顯示面板的陣列基板10上也設(shè)置有感光單元(如圖2所示)。該感光單元包括PIN(P型摻雜區(qū)/本征區(qū)/N型摻雜區(qū))結(jié)構(gòu)的主動(dòng)層20、保護(hù)層30和接點(diǎn)40。當(dāng)使用者的手指按壓于顯示面板上時(shí),背光源發(fā)出的光經(jīng)過(guò)像素單元透射后照射于手指上,且經(jīng)手指反射會(huì)照射到本征區(qū)。本征區(qū)吸收反射光的能量使價(jià)帶中的電子激發(fā)到導(dǎo)帶,在價(jià)帶中留下空穴,產(chǎn)生等量的電子與空穴,由此在主動(dòng)層20的P型摻雜區(qū)和N型摻雜區(qū)之間形成光電流,該光電流藉由接點(diǎn)40輸出。這種PIN結(jié)構(gòu)的感光單元工作特性比較穩(wěn)定,不易受電壓波動(dòng)的影響。但是由于PIN結(jié)構(gòu)橫向設(shè)置,與陣列基板顯示區(qū)的晶體管同步制作,使得PIN結(jié)構(gòu)的厚度不足,光學(xué)感測(cè)區(qū)域偏小,進(jìn)而導(dǎo)致光電轉(zhuǎn)換效能偏低。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問(wèn)題,本發(fā)明提供了一種準(zhǔn)確度和光電轉(zhuǎn)換效能較高的感光單元、顯示面板的陣列基板及其制作方法。
本發(fā)明提供一種感光單元,其特征在于,配置于顯示面板的陣列基板上,包括:
第一導(dǎo)電型摻雜區(qū),
第二導(dǎo)電型摻雜區(qū),
設(shè)置在第一導(dǎo)電型摻雜區(qū)與第二導(dǎo)電型摻雜區(qū)之間的本征區(qū),其中第一導(dǎo)電型摻雜區(qū)摻雜離子與第二導(dǎo)電型摻雜區(qū)摻雜離子電性相反;
以及與第一導(dǎo)電型摻雜區(qū)和第二導(dǎo)電型摻雜區(qū)分別電性連接的第一感測(cè)電極和第二感測(cè)電極。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例,上述第一導(dǎo)電型摻雜區(qū)和第二導(dǎo)電型摻雜區(qū)可以為P型或者N型離子摻雜的非晶硅,本征區(qū)可以為非晶硅層。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例,上述第一導(dǎo)電型摻雜區(qū)和第二導(dǎo)電型摻雜區(qū)可以為P型或者N型離子摻雜的微晶硅,本征區(qū)可以為微晶硅層。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例,上述第一導(dǎo)電型摻雜區(qū)和第二導(dǎo)電型摻雜區(qū)可以為P型或者N型離子摻雜的微晶硅,本征區(qū)可以為非晶硅層。
進(jìn)一步地,上述第一導(dǎo)電型摻雜區(qū)、第二導(dǎo)電型摻雜區(qū)和本征區(qū)縱向設(shè)置。
本發(fā)明還提供一種顯示面板的陣列基板,其特征在于,陣列基板上設(shè)置有上述感光單元。
本發(fā)明還提供一種顯示面板的陣列基板的制作方法,其包括以下步驟:
提供一基板,該基板包括至少一顯示區(qū)和一感光區(qū);
形成一第一圖案化半導(dǎo)體層于基板上,該第一圖案化半導(dǎo)體層包括位于顯示區(qū)內(nèi)的第一儲(chǔ)存電極和半導(dǎo)體區(qū)塊,并對(duì)第一儲(chǔ)存電極和半導(dǎo)體區(qū)塊進(jìn)行離子摻雜,以在半導(dǎo)體區(qū)塊內(nèi)形成源極摻雜區(qū)和漏極摻雜區(qū),在源極摻雜區(qū)與漏極摻雜區(qū)之間形成通道區(qū);
形成一柵極絕緣層于基板上,以覆蓋第一圖案化半導(dǎo)體層;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專(zhuān)門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





