[發明專利]基板加熱裝置和方法

有效

• 申請號: 201310752561.2
• 申請日: 2013-12-31
• 公開（公告）號: CN103743254A
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發明（設計）人: 覃事建
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: F27D19/00
• 分類號: F27D19/00
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287
• 代理人: 胡海國

技術領域

本發明涉及液晶顯示技術領域，尤其涉及一種加熱裝置和方法。

背景技術

目前，通過大世代高溫爐對基板進行加熱時，通過設置在加熱爐內不同區域的加熱器對基板的不同受熱點進行加熱，并通過對每個加熱器的功率進行獨立控制，以調整基板加熱溫度的均勻性，達到使基板各區域溫度基本均勻的效果。但是，這種只通過加熱器對基板溫度均勻性進行控制的方法，只能使基板各區域的溫度基本均勻，而不能達到對基板溫度均勻性進行精確控制的效果。

上述內容僅用于輔助理解本發明的技術方案，并不代表承認上述內容是現有技術。

發明內容

本發明的主要目的在于提供加熱裝置和方法，旨在精確控制基板溫度的均勻性，使基板各區域溫度達到均勻。

為實現上述目的，本發明提供的一種基板加熱裝置，包括加熱爐、置放在該加熱爐中的平臺和置放在平臺上待加熱的基板，以及設置在所述基板上方用于加熱基板的多個間隔設置的加熱器，還包括分別固定在多個所述加熱器上方的反射片，以及固定在所述加熱爐的爐壁的內表面上用于控制所述反射片轉動的轉動控制器。

優選地，基板加熱裝置還包括設置在所述加熱爐的爐壁外側的多個測溫控制器，該測溫控制器用于測量多個所述加熱器在基板上的受熱點的加熱溫度，所述測溫控制器通過測溫線與所述基板連接。

優選地，所述轉動控制器通過轉動控制線與對應的測溫控制器連接，根據所述測溫控制器發送的控制信號控制對應的反射片的轉動角度。

優選地，所述平臺上設置有用于將所述基板定位在所述加熱器的加熱區域范圍內的支撐腳。

本發明進一步提供一種基板加熱方法，包括以下步驟：

加熱器對置放在平臺上的基板進行加熱；

測溫控制器測量對應的加熱器在基板上的受熱點的加熱溫度，根據該加熱溫度得到基板的溫度均勻性，根據所述溫度均勻性生成控制信號，并反饋至轉動控制器；

轉動控制器根據所述控制信號控制反射片轉動相應的角度，以調整所述基板的溫度均勻性。

優選地，所述測溫控制器測量對應的加熱器在基板上的受熱點的加熱溫度，根據該加熱溫度得到基板的溫度均勻性，根據所述溫度均勻性生成控制信號，并反饋至轉動控制器的步驟包括：

測溫控制器通過測溫線測量對應的加熱器在基板上的受熱點的加熱溫度，將該加熱溫度轉換成相應的電信號；

將轉換后的所述加熱溫度輸出，并接收根據所述加熱溫度計算出的基板的溫度均勻性，根據該溫度均勻性生成控制所述反射片轉動的控制信號；

通過轉動控制線將生成的所述控制信號反饋至所述轉動控制器。

優選地，在所述轉動控制器根據所述控制信號控制反射片轉動相應的角度的步驟之后，還包括步驟：

反射片根據所述轉動控制器的控制，轉動相應的角度，將所述加熱器的上方發出的熱量反射至所述基板上相應的位置，調整所述基板的溫度均勻性。

優選地，在所述加熱器對置放在平臺上的基板進行加熱的步驟之前，還包括步驟：

將基板置放在平臺上，通過所述平臺上設置的支撐腳將所述基板定位在所述加熱器的加熱區域范圍內。

本發明通過在多個加熱器上方固定用于將加熱器上方產生的熱量反射至基板上相應的位置的反射片，以及在加熱爐的爐壁內側上固定用于控制反射片轉動的轉動控制器，當通過測溫控制器檢測到每個加熱器在基板上的受熱點的加熱溫度后，計算基板的溫度均勻性，測溫控制器根據該溫度均勻性產生控制信號反饋至轉動控制器，轉動控制器根據該控制信號控制反射片的轉動角度，以使基板上各區域的溫度達到均勻，從而實現了精確控制基板溫度的均勻性。

附圖說明

圖1為本發明基板加熱裝置一實施例的流程示意圖；

圖2為本發明基板加熱方法第一實施例的流程示意圖；

圖3為本發明基板加熱方法中測溫控制器反饋控制信號至轉動控制器的流程示意圖；

圖4為本發明基板加熱方法第二實施例的流程示意圖；

圖5為本發明基板加熱方法第三實施例的流程示意圖。

本發明目的的實現、功能特點及優點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。

具體實施方式

應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，并不用于限定本發明。

本發明提供一種基板加熱裝置。

參照圖1，圖1為圖1為本發明基板加熱裝置一實施例的流程示意圖。