[發(fā)明專(zhuān)利]一種用于化學(xué)氣相沉積反應(yīng)的一體化在線(xiàn)檢測(cè)系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310752495.9 | 申請(qǐng)日: | 2013-12-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103710684A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬江寧;崔向中;雷新更;傅旭;姜春竹;周?chē)?guó)棟 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)航空工業(yè)集團(tuán)公司北京航空制造工程研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C16/52 | 分類(lèi)號(hào): | C23C16/52 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 湯在彥 |
| 地址: | 100024 北*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 化學(xué) 沉積 反應(yīng) 一體化 在線(xiàn) 檢測(cè) 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明關(guān)于化學(xué)氣相沉積的技術(shù)領(lǐng)域,特別是關(guān)于化學(xué)氣相沉積的檢測(cè)技術(shù),具體的講是一種用于化學(xué)氣相沉積反應(yīng)的一體化在線(xiàn)檢測(cè)系統(tǒng)。
背景技術(shù)
化學(xué)氣相沉積(Chemical?Vapor?Deposition,CVD)是氣態(tài)反應(yīng)物質(zhì)在一定溫度、壓力、催化劑等條件下進(jìn)行分解、解析、化合等反應(yīng)生成固態(tài)物質(zhì)沉積在加熱的固態(tài)基體表面,形成均勻一致的涂層,進(jìn)而制得固體材料的一種技術(shù),其被廣泛用于制備光電薄膜、耐腐蝕涂層/薄膜、顆粒包覆層以及碳納米管等材料。
流化床是一種利用氣體通過(guò)顆粒狀固體層而使固體顆粒處于懸浮運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的一種結(jié)構(gòu),其具有高效傳熱、傳質(zhì)的特點(diǎn),可為化學(xué)反應(yīng)提供均勻的溫度場(chǎng)、濃度場(chǎng)以及穩(wěn)定的氣氛環(huán)境,而且易于控制。流化床-化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器已成為了CVD反應(yīng)器設(shè)計(jì)發(fā)展的重要方向之一。目前,流化床-化學(xué)氣相沉積反應(yīng)器在工業(yè)生產(chǎn)中已被廣泛用于顆粒包覆和制備碳納米管。用于流化床-化學(xué)氣相沉積反應(yīng)的設(shè)備復(fù)雜,控制煩瑣,嚴(yán)重制約了生產(chǎn)規(guī)模的擴(kuò)大,實(shí)現(xiàn)計(jì)算機(jī)控制和自動(dòng)化操作是產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)的必然要求。
目前,在流化床-化學(xué)氣相沉積薄膜/涂層、顆粒包覆層和碳納米管的過(guò)程中,傳統(tǒng)的監(jiān)控對(duì)象為:反應(yīng)器的溫度、壓力及氣源流量。對(duì)薄膜/涂層、顆粒包覆層和碳納米管等生成物的產(chǎn)量通常采用離線(xiàn)稱(chēng)重的方式,而氣相色譜作為常用的在線(xiàn)檢測(cè)氣體濃度的方法,通常孤立于系統(tǒng)之外。在CVD薄膜/涂層、顆粒包覆層和碳納米管的過(guò)程中,反應(yīng)器的溫度、壓力、反應(yīng)氣體與生成氣體的種類(lèi)與濃度、催化劑的質(zhì)量、氣源流量等都是重要的工藝參數(shù)。離線(xiàn)檢測(cè)由于存在局限性,其并不能實(shí)時(shí)反映出CVD過(guò)程及工藝參數(shù)對(duì)反應(yīng)過(guò)程的影響。
因此,現(xiàn)有技術(shù)中并沒(méi)有形成一體化的測(cè)試平臺(tái),缺少一種一體化在線(xiàn)檢測(cè)裝置,其對(duì)研究化學(xué)氣相沉積反應(yīng)工藝過(guò)程及反應(yīng)動(dòng)力學(xué)、對(duì)指導(dǎo)和解決CVD新技術(shù)和設(shè)備開(kāi)發(fā)、生產(chǎn)放大以及工藝最優(yōu)化等問(wèn)題具有重要意義。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問(wèn)題,本發(fā)明提供了一種用于化學(xué)氣相沉積反應(yīng)的一體化在線(xiàn)檢測(cè)系統(tǒng),通過(guò)設(shè)置化學(xué)反應(yīng)子系統(tǒng)、進(jìn)氣子系統(tǒng)、抽真空子系統(tǒng)、氣體采集子系統(tǒng)以及控制子系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)了對(duì)化學(xué)氣相沉積薄膜過(guò)程的實(shí)時(shí)監(jiān)控,對(duì)工藝參數(shù)進(jìn)行嚴(yán)格控制,并對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行存儲(chǔ)和顯示,提高可靠性和抗干擾性。
本發(fā)明的目的是,提供了一種用于化學(xué)氣相沉積反應(yīng)的一體化在線(xiàn)檢測(cè)系統(tǒng),包括:化學(xué)反應(yīng)子系統(tǒng);進(jìn)氣子系統(tǒng),包括氣體質(zhì)量流量計(jì),與所述化學(xué)反應(yīng)子系統(tǒng)相連接;抽真空子系統(tǒng),與所述的化學(xué)反應(yīng)子系統(tǒng)相連接;氣體采集子系統(tǒng),與所述的化學(xué)反應(yīng)子系統(tǒng)相連接;控制子系統(tǒng),分別與所述的進(jìn)氣子系統(tǒng)、抽真空子系統(tǒng)、氣體采集子系統(tǒng)以及化學(xué)反應(yīng)子系統(tǒng)相連接,用于采集所述氣體質(zhì)量流量計(jì)的流量,采集所述化學(xué)反應(yīng)子系統(tǒng)的壓力值、溫度值、氣體濃度,根據(jù)所述的流量、壓力值、溫度值以及氣體濃度進(jìn)行控制。
其中,所述的化學(xué)反應(yīng)子系統(tǒng)具體包括:與所述氣體質(zhì)量流量計(jì)相連接的固定床;與所述的固定床相連接的微孔分布板;與所述微孔分布板相連接的流化床;向所述流化床、固定床加熱的加熱爐;與所述的流化床相連接的過(guò)濾網(wǎng)。
所述的抽真空子系統(tǒng)具體包括:與所述固定床相連的第一抽真空氣動(dòng)閥;與所述第一抽真空氣動(dòng)閥相連接的真空泵;與所述過(guò)濾網(wǎng)相連接的排氣閥。
優(yōu)選的,所述的抽真空子系統(tǒng)還包括與所述過(guò)濾網(wǎng)、所述真空泵相連接的第二抽真空氣動(dòng)閥。
所述的氣體采集子系統(tǒng)具體包括:與所述過(guò)濾網(wǎng)相連接的氣體質(zhì)譜儀以及氣相色譜儀;與所述流化床相連接的顆粒采樣器;與所述流化床以及固定床相連接的壓力傳感器、溫度傳感器。
優(yōu)選的,所述的氣體采集子系統(tǒng)還包括分別與所述過(guò)濾網(wǎng)、所述氣體質(zhì)譜儀、氣相色譜儀相連接的氣動(dòng)控制閥。
優(yōu)選的,所述的氣體采集子系統(tǒng)還包括分別與所述過(guò)濾網(wǎng)、所述顆粒采樣器相連接的第一顆粒采樣氣動(dòng)閥。
優(yōu)選的,所述的氣體采集子系統(tǒng)還包括分別與所述真空泵、所述顆粒采樣器相連接的第二顆粒采樣氣動(dòng)閥。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
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