[發(fā)明專利]蒸鍍?cè)O(shè)備及其蒸鍍方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310746560.7 | 申請(qǐng)日: | 2013-12-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103695848A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-04-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙德江;崔偉;王路 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司: | 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 李迪 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 設(shè)備 及其 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示裝置制備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種蒸鍍?cè)O(shè)備及其蒸鍍方法。
背景技術(shù)
OLED(Organic?Light?Emitting?Diode,有機(jī)發(fā)光二極管)顯示裝置由于具有自發(fā)光、無(wú)需背光模組、對(duì)比度以及清晰度高、視角寬、全固化、適用于撓曲性面板、溫度特性好、低功耗、響應(yīng)速度快以及制造成本低等一系列優(yōu)異特性,已經(jīng)成為新一代平面顯示裝置的重點(diǎn)發(fā)展方向之一,因此日益受到越來(lái)越多的關(guān)注。
現(xiàn)有技術(shù)中,OLED顯示器件的基本結(jié)構(gòu)包括陽(yáng)極層,功能膜層以及陰極層等;上述功能膜層包括:空穴傳輸層、有機(jī)發(fā)光層以及電子傳輸層等;其中,有機(jī)發(fā)光層的成膜方法有很多種,包括蒸鍍成膜法、分子束外延法、有機(jī)化學(xué)氣相沉積法以及溶膠-凝膠法等;其中,蒸鍍成膜法由于具有操作簡(jiǎn)單、膜厚容易控制、對(duì)薄膜的污染小以及易于實(shí)現(xiàn)摻雜等優(yōu)點(diǎn),現(xiàn)有技術(shù)中多采用蒸鍍成膜法形成有機(jī)發(fā)光層等有機(jī)功能膜層,即在真空環(huán)境下,將有機(jī)材料加熱使其蒸發(fā)(升華),并沉積到目標(biāo)基板上形成對(duì)應(yīng)的功能膜層。
如圖1中所示,為現(xiàn)有技術(shù)中一種蒸鍍?cè)O(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖;其主要包括蒸發(fā)源以及與蒸發(fā)源連通的噴射機(jī)構(gòu);所述蒸發(fā)源用于提供有機(jī)蒸汽,所述噴射機(jī)構(gòu)用于將輸入的有機(jī)蒸汽噴射到基板11上形成有機(jī)鍍膜;其中,噴射機(jī)構(gòu)主要包括若干個(gè)噴嘴21。
為了保證最終形成在基板上的有機(jī)鍍膜具有均勻的膜厚,上述若干個(gè)噴嘴需要能夠均勻的將有機(jī)蒸汽噴射到基板上。但是,由于各個(gè)噴嘴與蒸發(fā)源的距離不同,因此各噴嘴的有機(jī)蒸汽的實(shí)際供給也有所不同;例如,位于蒸發(fā)源正上方的噴嘴,由于距離蒸發(fā)源最近,蒸發(fā)源提供的大量有機(jī)蒸汽可以直接到達(dá)該噴嘴處,因此有機(jī)蒸汽的實(shí)際供給較為豐富;而位于噴射機(jī)構(gòu)邊緣的噴嘴,由于距離蒸發(fā)源最遠(yuǎn),蒸發(fā)源提供的有機(jī)蒸汽需要較長(zhǎng)的路徑才可以到達(dá)該噴嘴處,因此只有少量的有機(jī)蒸汽提供給該噴嘴。這樣,為了使所有噴嘴能夠均勻的將有機(jī)蒸汽噴射到基板上,需要根據(jù)噴嘴與蒸發(fā)源的距離調(diào)整噴嘴的大小;例如,位于蒸發(fā)源正上方的噴嘴較小,而位于噴射機(jī)構(gòu)邊緣的噴嘴則較大。然而這樣一方面限制了噴射機(jī)構(gòu)的最大噴射速率,另一方面,由于小噴嘴容易出現(xiàn)堵塞故障,因此增加了噴射機(jī)構(gòu)乃至整個(gè)蒸鍍?cè)O(shè)備的故障率。
發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問(wèn)題
本發(fā)明的目的在于針對(duì)背景技術(shù)中的部分或者全部問(wèn)題,提供一種能夠減少噴射機(jī)構(gòu)出現(xiàn)堵塞故障的蒸鍍?cè)O(shè)備,從而提升蒸鍍?cè)O(shè)備的可靠性。
(二)技術(shù)方案
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,提供了一種蒸鍍?cè)O(shè)備,包括依次設(shè)置的蒸發(fā)源、蒸汽循環(huán)機(jī)構(gòu)以及噴射機(jī)構(gòu);所述蒸發(fā)源用于提供有機(jī)蒸汽;所述蒸汽循環(huán)機(jī)構(gòu)用于使所述蒸發(fā)源提供的有機(jī)蒸汽循環(huán)流動(dòng);所述噴射機(jī)構(gòu)與所述蒸汽循環(huán)機(jī)構(gòu)連通,用于將所述蒸汽循環(huán)機(jī)構(gòu)中的有機(jī)蒸汽噴射到基板上形成有機(jī)鍍膜。
優(yōu)選的,所述蒸汽循環(huán)機(jī)構(gòu)包括閉環(huán)的蒸汽循環(huán)管道以及用于驅(qū)動(dòng)有機(jī)蒸汽在所述蒸汽循環(huán)管道中循環(huán)流動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置。
優(yōu)選的,所述蒸汽循環(huán)管道內(nèi)設(shè)置有氣壓計(jì)。
優(yōu)選的,還包括設(shè)置在所述蒸發(fā)源與蒸汽循環(huán)機(jī)構(gòu)之間的蒸汽存儲(chǔ)機(jī)構(gòu);所述蒸汽存儲(chǔ)機(jī)構(gòu)用于存儲(chǔ)所述蒸發(fā)源提供的有機(jī)蒸汽并可控的輸入至所述蒸汽循環(huán)機(jī)構(gòu)。
優(yōu)選的,所述蒸汽存儲(chǔ)機(jī)構(gòu)的輸出端設(shè)置有用于控制所述有機(jī)蒸汽輸出流量的流量控制機(jī)構(gòu)。
優(yōu)選的,所述流量控制機(jī)構(gòu)為線性調(diào)節(jié)閥。
優(yōu)選的,還包括用于將所述蒸汽存儲(chǔ)設(shè)備內(nèi)的有機(jī)蒸汽維持在預(yù)定溫度范圍內(nèi)的控溫機(jī)構(gòu)。
優(yōu)選的,還包括設(shè)置在所述蒸發(fā)源與蒸汽存儲(chǔ)機(jī)構(gòu)之間的蒸汽輸運(yùn)泵。
優(yōu)選的,所述蒸發(fā)源為線性蒸發(fā)源。
優(yōu)選的,所述線性蒸發(fā)源包括蒸發(fā)容器以及線性加熱源。
優(yōu)選的,還包括用于控制所述蒸鍍?cè)O(shè)備整體溫度的加熱以及冷凝機(jī)構(gòu)。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面,提供了一種利用上述蒸鍍?cè)O(shè)備進(jìn)行蒸鍍的方法,其特征在于,包括:對(duì)蒸發(fā)源進(jìn)行加熱,從而蒸發(fā)出有機(jī)蒸汽;當(dāng)需要進(jìn)行蒸鍍時(shí),將所述有機(jī)蒸汽按照指定的流量輸入至蒸汽循環(huán)機(jī)構(gòu),并使所述有機(jī)蒸汽循環(huán)流動(dòng);將循環(huán)流動(dòng)的所述有機(jī)蒸汽通過(guò)噴射機(jī)構(gòu)以穩(wěn)定的速率蒸鍍到目標(biāo)基板上。
優(yōu)選的,在所述蒸發(fā)出有機(jī)蒸汽之后且在所述進(jìn)行蒸鍍之前,還包括:將所述有機(jī)蒸汽輸運(yùn)至蒸汽存儲(chǔ)機(jī)構(gòu),直至蒸汽存儲(chǔ)機(jī)構(gòu)中的有機(jī)蒸汽壓強(qiáng)達(dá)到預(yù)設(shè)壓強(qiáng)值。
優(yōu)選的,在蒸鍍過(guò)程中還包括:控制蒸汽存儲(chǔ)機(jī)構(gòu)輸出所述有機(jī)蒸汽的流量,以實(shí)現(xiàn)對(duì)蒸鍍速率調(diào)整。
優(yōu)選的,在蒸鍍過(guò)程中還包括:使所述目標(biāo)基板保持一定的速度在所述噴射機(jī)構(gòu)上方往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
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