[發(fā)明專利]半導(dǎo)體制造的工藝任務(wù)處理方法及系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310744720.4 | 申請日: | 2013-12-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104750046A | 公開(公告)日: | 2015-07-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馬平 | 申請(專利權(quán))人: | 北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | G05B19/418 | 分類號(hào): | G05B19/418 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 陳振 |
| 地址: | 100176 北京市大*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 制造 工藝 任務(wù) 處理 方法 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及自動(dòng)化控制技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種半導(dǎo)體制造的工藝任務(wù)處理方法及系統(tǒng)。
背景技術(shù)
在自動(dòng)化生產(chǎn)過程中,設(shè)備依據(jù)自動(dòng)化工藝配方(Recipe)的內(nèi)容完成對(duì)物料的加工,即執(zhí)行工藝任務(wù)。其中,工藝配方的內(nèi)容包含加工過程中的多個(gè)步驟以及各個(gè)步驟中各種工藝參數(shù)值和持續(xù)時(shí)間,產(chǎn)品的質(zhì)量可通過調(diào)整工藝配方來改進(jìn)。所以,一個(gè)先進(jìn)的工藝配方對(duì)提升產(chǎn)品質(zhì)量有著非常重要的作用,尤其是在半導(dǎo)體生產(chǎn)業(yè)。工藝配方中數(shù)據(jù)的保存統(tǒng)一采用了XML文件的方式,這樣不僅通用性、規(guī)范性好,而且方便用戶閱讀與理解。
Bosch工藝(博世工藝),是眾多工藝中的一種。Bosch工藝的特殊之處就在于它要求Recipe的多步之間要進(jìn)行循環(huán)。Bosch工藝通常有兩個(gè)重要功能組成:沉積和刻蝕。例如,一個(gè)常見的Bosch工藝包括Step1(步驟1)、Step2(步驟21)、Step3(步驟3)、Step4(步驟4)以及Step5(步驟5),其中,Step1完成沉積功能,Step2和Step3完成不同的刻蝕功能,需要多步循環(huán)50次;Step4完成另一種沉積,setp5完成另一種刻蝕,需要多步循環(huán)60次。工藝循環(huán)的順序?yàn)镾tep1->Step2->Step3循環(huán)50次,Step4->Step5循環(huán)60次。
傳統(tǒng)的半導(dǎo)體制造的工藝任務(wù)處理方法,通過采用多個(gè)子配方的形式來實(shí)現(xiàn)工藝配方中的多步循環(huán)的功能。每個(gè)子配方的中所有步的Cycles(times)(循環(huán)次數(shù))參數(shù)必須相同,如果出現(xiàn)需要Cycles(times)不同的需求,就需要再新建一個(gè)子配方。例如,上述Bosch工藝的例子中,就需要編輯出兩個(gè)子配方,一個(gè)子配方,執(zhí)行Step1->Step2->Step3的循環(huán),另一個(gè)子配方,執(zhí)行Step4->Step5的循環(huán)。工藝任務(wù)運(yùn)行時(shí),需要分別導(dǎo)入上述兩個(gè)子配方,邏輯操作比較復(fù)雜。特別是,對(duì)于同時(shí)包括多個(gè)子配方和父配方的工藝,同一個(gè)子配方,可能在多個(gè)父配方處出現(xiàn),如果修改了子配方,會(huì)對(duì)多處父配方造成影響。所以,傳統(tǒng)的半導(dǎo)體工藝任務(wù)處理方法,采用多個(gè)子配方的形式來實(shí)現(xiàn)工藝配方中的多步循環(huán),操作邏輯復(fù)雜,耦合度太高,工藝操作的風(fēng)險(xiǎn)較大。
發(fā)明內(nèi)容
基于此,有必要針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的缺陷和不足,提供一種邏輯操作簡單、耦合度低,安全性高的半導(dǎo)體制造的工藝任務(wù)處理方法及系統(tǒng)。
為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的而提供的半導(dǎo)體制造的工藝任務(wù)處理方法,包括以下步驟:
S100,在半導(dǎo)體制造的工藝配方中設(shè)置循環(huán)執(zhí)行參數(shù);
S200,根據(jù)半導(dǎo)體制造的工藝任務(wù)和所述循環(huán)執(zhí)行參數(shù)生成所述工藝配方的循環(huán)執(zhí)行數(shù)組;
S300,在判斷所述工藝配方的循環(huán)執(zhí)行數(shù)組符合所述工藝任務(wù)的邏輯要求后,在所述工藝任務(wù)中依次執(zhí)行所述工藝配方的循環(huán)執(zhí)行數(shù)組。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述循環(huán)執(zhí)行參數(shù)為Cycles_status(循環(huán)狀態(tài))參數(shù),所述Cycles_status參數(shù)由Single、Begin、Mid和End組成;
其中:Single表示單步循環(huán),Begin表示一組循環(huán)的開始值,Mid表示一組循環(huán)的中間值,End表示為一組循環(huán)的結(jié)束值;
一個(gè)Single為一組循環(huán);
或者一個(gè)成對(duì)出現(xiàn)的Begin和End為一組循環(huán);
或者一個(gè)Begin、若干個(gè)Mid和一個(gè)End組成一組循環(huán);
所述循環(huán)執(zhí)行數(shù)組由若干組循環(huán)組成。
其中,所述邏輯要求為:Begin和End成對(duì)出現(xiàn),且同一對(duì)Begin和End之間的循環(huán)次數(shù)相同;或者所述同一對(duì)Begin和End之間存在若干Mid,或者所述同一對(duì)Begin和End之間不存在Single。
其中,所述步驟S300中,在所述工藝任務(wù)中依次執(zhí)行所述工藝配方的循環(huán)執(zhí)行數(shù)組包括以下步驟:
S310,設(shè)置group變量,識(shí)別所述循環(huán)執(zhí)行數(shù)組中的循環(huán)組數(shù),并將所述循環(huán)組數(shù)的值賦予所述group變量;
S320,設(shè)置索引變量index,按照從小到大的順序,控制所述索引變量index獲取所述循環(huán)執(zhí)行數(shù)組中的各組循環(huán),并按照各組循環(huán)中的工藝步驟的順序,依次執(zhí)行所述循環(huán)執(zhí)行數(shù)組中的各組循環(huán)。
其中,所述步驟S320包括以下步驟:
S321,設(shè)置索引變量index,令index的初始值為0;
S322,判斷所述索引變量index的值是否小于所述group變量的值;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司;,未經(jīng)北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司;許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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