[發明專利]背透檢測方法和背透檢測設備在審
| 申請號: | 201310744057.8 | 申請日: | 2013-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN104751165A | 公開(公告)日: | 2015-07-01 |
| 發明(設計)人: | 曹瓊;劉汝杰 | 申請(專利權)人: | 富士通株式會社 |
| 主分類號: | G06K9/62 | 分類號: | G06K9/62 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 康建峰;吳瓊 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 檢測 方法 設備 | ||
技術領域
本發明一般地涉及圖像處理領域。具體而言,本發明涉及一種檢測由正面圖像和反面圖像構成的雙面圖像對中的背透像素的位置的方法和設備。
背景技術
在具有正反面的雙面文檔中,由于文檔存在背透現象,所以能夠從一面看到另一面的部分或全部文字等。這種背透現象會影響文檔的可讀性和對文檔進行的自動字符識別。因此,需要對其中的背透像素進行處理,以提高文檔的可讀性或提高自動字符識別的正確率。
對背透像素進行處理的前提是檢測到背透像素的準確位置,即判斷出哪些像素是背透像素。
傳統的方法主要是選取適當的閾值,通過將像素的像素值與閾值作比較,來區分文字和背透。這種方法顯然比較粗糙。因為以文字為代表的前景像素和嚴重背透情況下的背透像素之間的差別較小,而背景像素和輕微背透情況下的背透像素之間的差別也不明顯。因此,傳統的方法的處理效果不佳。
期望一種能夠以較高準確率檢測由正面圖像和反面圖像構成的雙面圖像對中的背透像素的位置的背透檢測方法和背透檢測設備。
發明內容
在下文中給出了關于本發明的簡要概述,以便提供關于本發明的某些方面的基本理解。應當理解,這個概述并不是關于本發明的窮舉性概述。它并不是意圖確定本發明的關鍵或重要部分,也不是意圖限定本發明的范圍。其目的僅僅是以簡化的形式給出某些概念,以此作為稍后論述的更詳細描述的前序。
本發明的目的是針對現有技術的上述問題,提出了一種能夠準確檢測背透像素位置的背透檢測方法和背透檢測設備。
為了實現上述目的,根據本發明的一個方面,提供了一種背透檢測方法,該背透檢測方法包括:獲取已對齊的雙面圖像對中的正面圖像和反面圖像,其中針對所述正面圖像中的每一個第一點已知在所述反面圖像中與其對應的第二點,從而獲得由所述第一點和對應的所述第二點構成的像素對;確定所述正面圖像和所述反面圖像中的部分前景像素和部分背景像素;基于上述確定結果,針對以下四種類型的像素對基于預定特征進行建模,以形成四個模型:第一點和第二點都是前景像素、第一點和第二點都是背景像素、第一點是前景像素且第二點是背景像素、第一點是背景像素且第二點是前景像素;針對未被建模的像素對,根據該像素對的預定特征,分別計算該像素對與所述四個模型的相似度,以確定該像素對的類型;將與被確定為前景像素的第一點對應的、被確定為背景像素的第二點判定為所述反面圖像上的背透,將與被確定為前景像素的第二點對應的、被確定為背景像素的第一點判定為所述正面圖像上的背透。
根據本發明的另一個方面,提供了一種背透檢測設備,該背透檢測設備包括:獲取裝置,被配置為:獲取已對齊的雙面圖像對中的正面圖像和反面圖像,其中針對所述正面圖像中的每一個第一點已知在所述反面圖像中與其對應的第二點,從而獲得由所述第一點和對應的所述第二點構成的像素對;部分像素確定裝置,被配置為:確定所述正面圖像和所述反面圖像中的部分前景像素和部分背景像素;建模裝置,被配置為:基于所述部分像素確定裝置的確定結果,針對以下四種類型的像素對基于預定特征進行建模,以形成四個模型:第一點和第二點都是前景像素、第一點和第二點都是背景像素、第一點是前景像素且第二點是背景像素、第一點是背景像素且第二點是前景像素;類型確定裝置,被配置為:針對未被建模的像素對,根據該像素對的預定特征,分別計算該像素對與所述四個模型的相似度,以確定該像素對的類型;判定裝置,被配置為:將與被確定為前景像素的第一點對應的、被確定為背景像素的第二點判定為所述反面圖像上的背透,將與被確定為前景像素的第二點對應的、被確定為背景像素的第一點判定為所述正面圖像上的背透。
另外,根據本發明的另一方面,還提供了一種存儲介質。所述存儲介質包括機器可讀的程序代碼,當在信息處理設備上執行所述程序代碼時,所述程序代碼使得所述信息處理設備執行根據本發明的上述方法。
此外,根據本發明的再一方面,還提供了一種程序產品。所述程序產品包括機器可執行的指令,當在信息處理設備上執行所述指令時,所述指令使得所述信息處理設備執行根據本發明的上述方法。
附圖說明
參照下面結合附圖對本發明實施例的說明,會更加容易地理解本發明的以上和其它目的、特點和優點。附圖中的部件只是為了示出本發明的原理。在附圖中,相同的或類似的技術特征或部件將采用相同或類似的附圖標記來表示。附圖中:
圖1示出了根據本發明的第一實施例的背透檢測方法的流程圖;
圖2示出了根據本發明的第二實施例的背透檢測方法的流程圖;
圖3示出了根據本發明第一實施例的背透檢測設備的結構方框圖;
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