[發(fā)明專利]一種高靈敏度銻堿光電陰極和光電倍增管無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310742762.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-12-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103715033A | 公開(公告)日: | 2014-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐向晏;安迎波;孫巧霞;劉虎林;曹希斌;盧裕;田進(jìn)壽;董改云 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | H01J1/34 | 分類號(hào): | H01J1/34;H01J40/06;H01J9/12 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211 | 代理人: | 楊引雪 |
| 地址: | 710119 陜西省西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 靈敏度 光電 陰極 光電倍增管 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明設(shè)計(jì)屬于光電探測技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種可以吸收響應(yīng)光譜范圍內(nèi)入射光并發(fā)射電子的銻堿光電陰極,以及采用該銻堿光電陰極制備的光電倍增管。
背景技術(shù)
光電倍增管是用于探測微光信號(hào)的光電器件,光電陰極是其光電信號(hào)轉(zhuǎn)換部分,通過真空蒸鍍附著在光電倍增管玻殼的內(nèi)表面,在光照情況下產(chǎn)生光電子。由于GaAs光電陰極制作難度大,且不能在曲面襯底上制作,目前光電倍增管大多采用銻堿光電陰極。根據(jù)入射光和出射電子方向,光電陰極分為兩類:透射式和反射式。
透射式光電陰極的激發(fā)電子方向與入射光相同,由于陰極的折射率較高,入射光透過玻殼后在陰極與玻殼界面的存在很高的反射率,約有25%的光能損失,這使光電陰極的量子效率大打折扣。如果能夠提高光電陰極的量子效率,可使其應(yīng)用范圍更廣,探測效率更高。
常見提高光電陰極量子效率的方法主要有:
1,使用高純的材料,減小雜質(zhì)散射復(fù)合幾率,增大光電子擴(kuò)散長度;
2,優(yōu)化陰極厚度,使陰極光吸收與電子輸運(yùn)長度之間取得較好的權(quán)衡;
3,優(yōu)化材料組份及其工藝,減少陰極晶格缺陷,降低電子輸運(yùn)過程散射幾率;
4,優(yōu)化激活工藝,降低表面親和勢;
5,陰極襯底上制作增透層,減少入射光反射損失,增加光吸收。
其中第1-4項(xiàng)受工藝的限制,提高空間很小,而第5項(xiàng)還沒有發(fā)展成熟,還有很大的挖掘潛力。
在專利CN200710305894、CN201010157693中,對(duì)光電陰極的增透層進(jìn)行了部分研究,不清楚其具體工藝,其量子效率還有進(jìn)一步提升的空間。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種高靈敏度銻堿光電陰極和光電倍增管,主要解決了現(xiàn)有機(jī)構(gòu)入射光損耗率高,靈敏度低的問題。
本發(fā)明的具體技術(shù)解決方案如下:
該高靈敏度銻堿光電陰極包括光電陰極襯底,所述光電陰極襯底上設(shè)置有陰極增透層,陰極增透層上設(shè)置有銻堿光電陰極發(fā)射層。
上述光電陰極發(fā)射層是由銻和堿金屬通過真空蒸發(fā)制備而成;所述堿金屬是鈉、鉀、銫任一或任意多種以任意比例混合形成。
上述銻堿光電陰極發(fā)射層的厚度為20-100nm。
上述陰極增透層折射率位于2.3-2.6之間。
上述光電陰極襯底為石英玻璃或者硼硅玻璃。
一種應(yīng)用該高靈敏度銻堿光電陰制成的光電倍增管,包括覆蓋在真空容器內(nèi)表面的光電陰極,光電陰極包括光電陰極襯底,所述光電陰極襯底上設(shè)置有陰極增透層,陰極增透層上設(shè)置有銻堿光電陰極發(fā)射層;所述光電陰極覆蓋在真空容器的全部或部分內(nèi)表面上。
上述光電陰極發(fā)射層是由銻和堿金屬通過真空蒸發(fā)制備而成;所述堿金屬是鈉、鉀、銫任一或任意多種以任意比例混合形成。
上述銻堿光電陰極發(fā)射層的厚度為20-100nm。
上述陰極增透層折射率位于2.3-2.6之間。
上述光電陰極襯底為石英玻璃或者硼硅玻璃。
該高靈敏度銻堿光電陰極的制備方法包括以下步驟:
1]制作陰極增透層
選擇可以透射入射光的襯底,并在該襯底上制作在增透層,增透層折射率位于2.3-2.6之間;
2]制作光電陰極發(fā)射層
通過真空蒸鍍的方式將堿金屬與銻沉積在步驟1制作的增透層上,形成厚度為20-100nm的光電陰極發(fā)射層。
上述堿金屬是鈉、鉀、銫任一或任意多種以任意比例混合形成。
上述步驟1中所述的襯底為石英玻璃或者硼硅玻璃。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)如下:
該高靈敏度銻堿光電陰極減少入射光損耗率,提高光電陰極吸收率,進(jìn)而提高光電陰極靈敏度,利用該高靈敏度銻堿光電陰極制作的光電倍增管也相應(yīng)的提高了性能。
附圖說明
圖1透射式光電陰極的截面結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2無增透層時(shí),入射光照射在光電陰極上的反射率、透射率、吸收率;
圖3有增透層時(shí),入射光照射在光電陰極上的反射率、透射率、吸收率;
圖4光電陰極應(yīng)用案例示意圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)有的光電陰極效率提升的主要瓶頸在于,入射光在陰極表面部分發(fā)射,部分透射,造成信號(hào)損失,這就無法使陰極對(duì)入射光充分吸收并轉(zhuǎn)化為光電子。反射損耗是由于陰極襯底與陰極的折射率不匹配,為解決此問題,通過在襯底與陰極之間增加一層薄膜,使薄膜的折射率與襯底、陰極相匹配,達(dá)到增透的效果。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310742762.4/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





