[發明專利]基板清洗裝置

有效

• 申請號: 201310740358.3
• 申請日: 2013-12-27
• 公開（公告）號: CN103752571B
• 公開（公告）日: 2017-08-08
• 發明（設計）人: 朱美娜
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: B08B9/30
• 分類號: B08B9/30
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所44287
• 代理人: 胡海國

1.一種基板清洗裝置，包括設有進口和出口的清洗腔室，所述清洗腔室內設有第一清洗組件、第二清洗組件及將所述基板從所述進口傳送至所述出口的傳送件，其特征在于，所述第一清洗組件與所述第二清洗組件分別設置在所述傳送件的上下兩側，所述第一清洗組件及第二清洗組件分別包括多個噴頭，各個所述噴頭沿所述基板的傳送方向依次排布，且各個所述噴頭的噴射出口方向與所述基板的傳送方向之間的夾角大于或者小于90°；

其中，所述噴頭為具有多個噴射口的子母噴頭；

所述第一清洗組件及第二清洗組件內的各個所述噴頭從所述清洗腔室進口的一端至其出口的一端依次兩兩分組，每一分組內的兩個所述噴頭在所述基板上的噴射區域重疊或者部分重疊；

且每一分組內的兩個所述噴頭中的一個噴頭的噴射方向與所述基板的傳送方向之間呈開口朝向所述出口方向的銳角，則另一噴頭的噴射方向與所述基板的傳送方向之間呈開口朝向所述出口方向的鈍角。

2.如權利要求1所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述第一清洗組件及/或第二清洗組件包括至少一個重疊噴頭分組，所述重疊噴頭分組至少包括兩個在所述基板上的噴射區域重疊或者部分重疊的所述噴頭。

3.如權利要求2所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述各組噴頭之間設有單個所述噴頭，且該單個噴頭的噴射出口方向與所述基板的傳送方向之間呈開口朝所述出口方向的銳角。

4.如權利要求1-3中任一項所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述傳送件靠近所述出口位置的上側及/或下側設置至少一個副噴頭，所述副噴頭的噴射出口方向與所述基板的傳送方向之間，呈開口朝所述出口方向的銳角。

5.如權利要求4所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述第一清洗組件及/或所述第二清洗組件內的各個所述噴頭可轉動。

6.如權利要求4所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述傳送件包括多個圓軸體，各個所述圓軸體沿所述清洗腔室進口的一端至其出口的一端依次平行且間距設置，所述第二清洗組件內的各個所述噴頭在所述基板上的噴射區域與各個所述圓軸體的位置錯開。

7.如權利要求4所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述噴頭內設有控制其噴射流量的控制閥。

8.如權利要求7所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述基板清洗裝置還包括控制裝置，所述控制裝置與所述控制閥電連接。