[發明專利]一種藥槽上藥裝置及調整藥槽上藥裝置垂直軸垂直度方法有效
| 申請號: | 201310738921.3 | 申請日: | 2013-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN103738634A | 公開(公告)日: | 2014-04-23 |
| 發明(設計)人: | 劉超 | 申請(專利權)人: | 蘇州艾隆科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B65G1/04 | 分類號: | B65G1/04 |
| 代理公司: | 蘇州華博知識產權代理有限公司 32232 | 代理人: | 黃珩 |
| 地址: | 215123*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 上藥 裝置 調整 垂直 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種藥槽上藥裝置及調整藥槽上藥裝置垂直軸垂直度方法領域。
背景技術
在現有技術中,藥槽垂直度的調整需要使用水平儀調整,這種調整方式繁瑣,需要借助水平儀才能完成藥槽上藥裝置垂直度的調整。
發明內容
為了解決現有技術中存在的上述問題,提供一種藥槽上藥裝置及調整藥槽上藥裝置垂直軸垂直度方法。
本發明所采用的技術方案是:一種藥槽上藥裝置,用于藥房的上藥,包括上下兩條水平設置的水平軸、垂直兩條上述水平軸的垂直軸以及機械手,上述機械手滑動設置在上述垂直軸上。
本發明所采用的另一種技術方案是:調整藥槽上藥裝置垂直軸垂直度方法,包括以下步驟:1)將機械手沿所述垂直軸中下降至加藥槽最底層,標記上述機械手此時的位置,并作一條垂直線,作為第一水平位置;2)將機械手沿所述垂直軸中上升至加藥槽最高層,標記上述機械手此時的位置,并作一條垂直線,作為第二水平位置;3)測量出上述第一水平位置和所述第二水平位置之間的水平距離,上述水平距離即為偏差距離;4)判斷第二水平位置與第一水平位置的相對位置,若第二位置相對所述第一位置有偏差,則水平調整藥槽上藥裝置垂直軸的位置;若第二位置相對所述第一位置無偏差,則不需調整藥槽上藥裝置垂直軸位置。
優選的,上述步驟4)中,當上述第二位置位于上述第1位置的右邊,將上述藥槽上藥裝置垂直軸的最高點水平向左移動到第一水平位置;當上述第二水平位置在上述第一水平位置的左邊,將上述藥槽上藥裝置垂直軸的最低點向左水平移動到第二水平位置。
優選的,還包括步驟6):采用聯軸器,將經過位置調整的上述藥槽上藥裝置的水平軸及垂直軸鎖緊。
采用本技術方案的有益效果是:本發明使用的方法能夠簡單的測量出藥槽是否處于垂直位置,并且可以根據測量的結果有效的調整藥槽的位置,且不需要借助水平儀等昂貴的測量儀器,因此調整方簡單并且調整的成本較低,只要簡單的測量工具即可完成藥槽上藥裝置垂直軸的調整。
附圖說明
為了使本發明的內容更容易被清楚地理解,下面根據具體實施例并結合附圖,對本發明作進一步詳細的說明:
圖1是本發明的藥槽上藥槽裝置垂直軸處于正確位置示意圖;
圖2是本發明的工作流程示意圖;
圖3是本發明的藥槽上藥槽裝置垂直軸處于左偏時位置示意圖;
圖4是本發明的藥槽上藥槽裝置垂直軸處于右偏時位置示意圖;
其中1.水平軸?2.垂直軸?3.機械手?4.聯軸器?5.第一水平位置X1?6.第二水平位置X2。
具體實施方式
下面結合附圖詳細說明本發明的具體實施例。
首先,如圖1所示,一種藥槽上藥裝置,用于藥房的上藥,包括上下兩條水平設置的水平軸1、垂直兩條水平軸1的垂直軸2以及機械手3,機械手3滑動設置在垂直軸2上。
如圖2-4所示,一種調整藥槽上藥裝置垂直軸垂直度方法,當調整藥槽垂直度時,包括以下步驟:首先將機械手沿所述垂直軸中下降至加藥槽最底層,標記所述機械手此時的位置,并作一條垂直線,作為第一水平位置X1;其次將機械手沿所述垂直軸中上升至加藥槽最高層,標記所述機械手此時的位置,并作一條垂直線,作為第二水平位置X2;然后測量出第一水平位置X1和第二水平位置X2之間的水平距離,水平距離即為偏差距離;判斷第二水平位置與第一水平位置的相對位置,若第二位置相對所述第一位置有偏差,則水平調整藥槽上藥裝置垂直軸的位置;若第二位置相對所述第一位置無偏差,則不需調整藥槽上藥裝置垂直軸位置。其中,當第二位置位于第一水平位置X1的左邊,即垂直軸左偏,將藥槽上藥裝置垂直軸的最高點水平向左移動到第一水平位置X1;當第二水平位置X2在第一水平位置X1的右邊,即垂直軸右偏,將藥槽上藥裝置垂直軸的最低點向右水平移動到第二水平位置X2。
調整完水平度或者垂直度后,采用聯軸器,將經過位置調整的藥槽鎖緊。
本發明的有益效果是:本發明使用的方法能夠簡單的測量出藥槽是否處于垂直位置,并且可以根據測量的結果有效的調整藥槽的位置,且不需要借助水平儀等昂貴的測量儀器,因此調整方簡單并且調整的成本較低,只要簡單的測量工具即可完成藥槽上藥裝置垂直軸的調整。
以上所述的僅是本發明的優選實施方式,應當指出,對于本領域的普通技術人員來說,在不脫離本發明創造構思的前提下,還可以做出若干變形和改進,這些都屬于本發明的保護范圍。
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