[發(fā)明專利]一種改善掩模垂向重力彎曲的掩模臺在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310737701.9 | 申請日： | 2013-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN104749894A | 公開（公告）日： | 2015-07-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 孟春霞;聞人青青;李玉龍;林彬;張俊 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京連和連知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光輝 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 改善 掩模垂 重力 彎曲 掩模臺 | ||
1.?一種改善掩模垂向重力彎曲的掩模臺，其特征在于：所述掩模臺還包括對掩模施加對稱向外背離掩模方向的拉力的系統(tǒng)。
2.?如權(quán)利要求1所述的改善掩模垂向重力彎曲的掩模臺，其特征在于：所述對掩模施加對稱向外背離掩模方向的拉力的系統(tǒng)包括對掩模施加對稱向外拉力的多個真空吸附系統(tǒng)。
3.?如權(quán)利要求2所述的改善掩模垂向重力彎曲的掩模臺，其特征在于：所述對掩模施加對稱向外背離掩模方向的拉力的系統(tǒng)的真空吸附系統(tǒng)為對稱的兩個或四個。
4.?如權(quán)利要求2所述的改善掩模垂向重力彎曲的掩模臺，其特征在于：所述對掩模施加對稱向外背離掩模方向的拉力的系統(tǒng)的真空吸附系統(tǒng)設(shè)置在掩模臺的導(dǎo)軌上，當(dāng)掩模放置好后，所述真空吸附系統(tǒng)通過導(dǎo)軌移動到掩模邊緣。
5.?如權(quán)利要求2所述的改善掩模垂向重力彎曲的掩模臺，其特征在于：所述對掩模施加對稱向外背離掩模方向的拉力的系統(tǒng)的真空吸附系統(tǒng)包括多個吸附單元。
6.?如權(quán)利要求1所述的改善掩模垂向重力彎曲的掩模臺，其特征在于：所述掩模臺還包括產(chǎn)生向下吸力的真空吸附系統(tǒng)。
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