[發明專利]一種單向可視低輻射玻璃的制作方法

無效

• 申請號: 201310718207.8
• 申請日: 2013-12-21
• 公開（公告）號: CN103755155A
• 公開（公告）日: 2014-04-30
• 發明（設計）人: 魏佳坤
• 申請（專利權）人: 揭陽市宏光鍍膜玻璃有限公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36
• 代理公司: 中山市銘洋專利商標事務所(普通合伙) 44286
• 代理人: 吳劍鋒

技術領域

本發明涉及一種單向可視低輻射玻璃的制作方法。

背景技術

低輻射玻璃是指對紅外輻射具有高反射率，對可見光具有良好透射率的平板鍍膜玻璃。低輻射玻璃具有良好的透光、保溫、隔熱性能，廣泛應用于窗戶、爐門、冷藏柜門等地方。

現有的單銀低輻射玻璃一般可視效果較差，不能滿足使用者的需求，故此，現有的單銀低輻射玻璃有待于進步完善。

發明內容

本發明的目的是為了克服現有技術中的不足之處，提供一種工藝簡單，操作方便，生產成本相對較低的單向可視低輻射玻璃的制作方法。

為了達到上述目的，本發明采用以下方案：

一種單向可視低輻射玻璃的制作方法,其特征在于包括以下步驟：

A、采用氧氣作為反應氣體，氬氣作為保護氣體，直流電源濺射Nb平面靶，在玻璃基板上磁控濺射Nb₂O₅層；

B、采用氧氣作為反應氣體，氬氣作為保護氣體，交流電源濺射鋁旋轉靶，在步驟A中Nb₂O₅層上磁控濺射Al₂O₃層；

C、采用氬氣作為反應氣體，直流電源濺射銀平面靶，在步驟B中的Al₂O₃層上磁控濺射Ag層；

D、采用氬氣作為反應氣體，直流電源濺射Al平面靶，在步驟C中Ag層上磁控濺射Al層；

E、采用氬氣作為反應氣體，交流電源濺射氧化鈦陶瓷旋轉靶，在步驟D中的Al層上磁控濺射TiO₂層。

如上所述的一種單向可視低輻射玻璃的制作方法，其特征在于步驟A中所述Nb₂O₅層的厚度為10～15nm，所述氬氣與氧氣的體積比為2:3，濺射壓力2.5*10^－3mbar,濺射功率10～15KW。

如上所述的一種單向可視低輻射玻璃的制作方法，其特征在于步驟B中所述Al₂O₃層的厚度為15～25nm，所述氬氣與氧氣的體積比為1：2，濺射功率40～66KW。

如上所述的一種單向可視低輻射玻璃的制作方法，其特征在于步驟C所述Ag層的厚度為8～10nm，所述直流電源的濺射功率3～6KW。

如上所述的一種單向可視低輻射玻璃的制作方法，其特征在于步驟E中所述Al層的厚度為3～5nm，所述直流電源的濺射功率3～5KW。

如上所述的一種單向可視低輻射玻璃的制作方法，其特征在于步驟A中所述玻璃基板的厚度為4～19mm。

綜上所述，本發明的有益效果：

本發明工藝方法簡單，操作方便，生產成本相對較低。本發明產品在使用了高反射材料鋁的情況下，可見光透過率能達50%，可滿足室內看到室外的目的。由于使用Al₂O₃及Al的復合，可增加室外反射，從而達到單向可視的目的。

本發明中Al層一方面作為銀層的阻擋層，防止氧化，另一方面，利用鋁的高反射，具備單向可視的效果。

具體實施方式

下面結合具體實施方式對本發明做進一步描述：

實施例1

本發明一種單向可視低輻射玻璃的制作方法,包括以下步驟：

A、采用氧氣作為反應氣體，氬氣作為保護氣體，直流電源濺射Nb平面靶，在玻璃基板上磁控濺射Nb₂O₅層；所述Nb₂O₅層的厚度為10～15nm，所述氬氣與氧氣的體積比為2:3，即氬氣：氧氣=600sccm：900sccm，濺射壓力2.5*10^-3mbar,濺射功率10KW。所述玻璃基板的厚度為4mm。

B、采用氧氣作為反應氣體，氬氣作為保護氣體，交流電源濺射鋁旋轉靶，在步驟A中Nb₂O₅層上磁控濺射Al₂O₃層；所述Al₂O₃層的厚度為15nm，所述氬氣與氧氣的體積比為1：2，即氬氣：氧氣=400sccm：800sccm，濺射功率40KW。

C、采用氬氣作為反應氣體，直流電源濺射銀平面靶，在步驟B中的Al₂O₃層上磁控濺射Ag層；所述Ag層的厚度為8nm，所述直流電源的濺射功率3KW。