[發(fā)明專利]長晶爐及長晶爐均勻散熱的控制方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310702144.7 | 申請日： | 2013-12-19 |
| 公開（公告）號： | CN103741211A | 公開（公告）日： | 2014-04-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 呂學(xué)旻;王祿堡 | 申請（專利權(quán)）人： | 鎮(zhèn)江環(huán)太硅科技有限公司 |
| 主分類號： | C30B28/06 | 分類號： | C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司： | 上海海頌知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31258 | 代理人： | 季萍 |
| 地址： | 212216 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 長晶爐 均勻 散熱 控制 方法 | ||
1.一種長晶爐，其特征在于，包括：
爐體；
位于所述爐體內(nèi)的坩堝；
形成于所述爐體內(nèi)壁上的保溫板，所述的保溫板包括水平設(shè)置于所述坩堝頂端的上保溫內(nèi)側(cè)板，以及豎直分布于所述坩堝四周的下保溫板，所述下保溫板貼近所述坩堝底端邊緣處的厚度小于下保溫內(nèi)板其他位置的厚度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的長晶爐，其特征在于：所述下保溫板貼近所述坩堝底端邊緣處的厚度比下保溫內(nèi)板其他位置的厚度小0.5~1cm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的長晶爐，其特征在于：所述下保溫板設(shè)置為兩層，包括下保溫內(nèi)側(cè)板以及位于所述下保溫內(nèi)側(cè)板與爐體內(nèi)壁之間的下保溫外側(cè)板。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的長晶爐，其特征在于：所述下保溫內(nèi)側(cè)板貼近所述坩堝底端邊緣處的厚度比下保溫內(nèi)側(cè)板其他位置的厚度小0.5~1cm。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的長晶爐，其特征在于：所述下保溫內(nèi)側(cè)板貼近所述坩堝的一面開設(shè)有矩形凹槽。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的長晶爐，其特征在于：所述矩形凹槽的左右寬度為0.5~1cm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的長晶爐，其特征在于：所述矩形凹槽的上下高度為17~20cm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的長晶爐，其特征在于：所述保溫板的材質(zhì)為石墨硬氈。
9.一種長晶爐均勻散熱的控制方法，其特征在于，對坩堝底端邊緣處對應(yīng)的保溫板的厚度進(jìn)行減薄，達(dá)到整體硅碇底部均勻散熱。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的長晶爐均勻散熱的控制方法，其特征在于：所述保溫板減薄的厚度為0.5~1cm。
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