[發(fā)明專利]雙層低折射率減反射膜的制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310700039.X | 申請(qǐng)日: | 2013-12-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104711551A | 公開(公告)日: | 2015-06-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉振宇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 天津森宇仕達(dá)科技發(fā)展有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C20/08 | 分類號(hào): | C23C20/08 |
| 代理公司: | 天津盛理知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 12209 | 代理人: | 田陽(yáng) |
| 地址: | 300180 天津市河?xùn)|*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 雙層 折射率 減反射膜 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于減反射膜領(lǐng)域,尤其是一種雙層低折射率減反射膜的制備方法。
背景技術(shù)
目前減反膜的制備方法主要有真空蒸鍍磁、控濺射法、溶膠凝膠法及化學(xué)氣相沉積等。溶膠-凝膠法(sol-gel)自80年代以來,就用來制備多種薄膜,在減反膜的制備上也得到了廣泛應(yīng)用。它的主要優(yōu)點(diǎn)是原始材料是分子級(jí)的材料,純度較高,組成成分較好控制,反應(yīng)溫度低,具有流變特性,可控制孔隙度,容易制備各種形狀;工藝較簡(jiǎn)單,能同時(shí)進(jìn)行雙面鍍膜;對(duì)于大面積基底的鍍膜來說,成本較低。因此國(guó)內(nèi)外近年來都致力于采用溶膠-凝膠法進(jìn)行減反膜的鍍制,特別是SiO2溶膠-凝膠減反膜結(jié)構(gòu)可控、折射率可調(diào)、材料易于獲取而被廣泛應(yīng)用。溶膠的制備和涂膜方法的選擇決定了薄膜的質(zhì)量。納米SiO2薄膜具有低折射率、低價(jià)電性、化學(xué)穩(wěn)定性和耐酸堿腐蝕等優(yōu)良性能,且溶膠制備簡(jiǎn)單,因此廣泛應(yīng)用于多層膜和單層膜的制備中,是目前研究最多、應(yīng)用最廣的減反膜。但是,由傳統(tǒng)方法制備的納米多孔SiO2薄膜孔隙率大、表面能高,容易吸附周圍環(huán)境中的懸浮物,使用一段時(shí)間后,透光率明顯下降,并且具有機(jī)械強(qiáng)度差、使用壽命短等缺陷,從而大大限制了它的實(shí)際應(yīng)用。近年來,國(guó)內(nèi)外已經(jīng)報(bào)道了一些改善SiO2薄膜機(jī)械強(qiáng)度,提高薄膜使用壽命的方法,沈軍等用膜系設(shè)計(jì)軟件設(shè)計(jì)了λ/4~λ/2的W型雙層SiO2減反射薄膜,優(yōu)化了薄膜的光學(xué)常量,提高了薄膜的機(jī)械強(qiáng)度,但該方法制得的減反膜不具有自潔功能,不適合野外環(huán)境的應(yīng)用。楊輝等將銳鈦礦晶型TiO2溶膠粒子與SiO2溶膠混在一起鍍膜,用該方法制得的薄膜雖然有自潔功能,但光學(xué)透過率較差,不具有很好的減反性能。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種雙層低折射率減反射膜的制備方法,該制備方法簡(jiǎn)單易行,透光率高、具有良好的耐磨性以及自潔性。
本發(fā)明解決其技術(shù)問題是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
一種雙層低折射率減反射膜的制備方法,其制備方法的步驟如下:
⑴、將無水乙醇、PH=1的鹽酸標(biāo)準(zhǔn)溶液、去離子水、正硅酸乙酯按摩爾比配比,混合攪拌均勻后,在穩(wěn)定環(huán)境下靜置陳化5-7天后,制得酸性催化條件下的SiO2溶膠;
⑵、將溶劑無水乙醇、反應(yīng)物去離子水、催化劑醋酸、前驅(qū)體鈦酸丁酯按摩爾比依次加入到燒杯中,密封磁力攪拌4h后混合均勻,于室溫下靜置老化5~7天后備用。用無水乙醇對(duì)上述TiO2溶膠按不同比例進(jìn)行稀釋,通過改變TiO2溶膠體的濃度,來調(diào)節(jié)TiO2薄膜覆蓋在SiO2膜上的厚度;
⑶、將超白玻璃基片放入洗液中充分洗滌后,再分別用無水乙醇和去離子水經(jīng)超聲波充分洗滌,用氮?dú)獯蹈桑湃牒嫦渲泻娓珊螅糜诟稍锲髦袀溆茫?/p>
⑷、在相對(duì)濕度環(huán)境<50%的清潔環(huán)境下,采用CHEMAT?DIPMASTER200浸漬提拉法在潔凈的玻璃基片上先鍍一層酸催化SiO2膜,于80℃烘箱中烘30min后再鍍一層TiO2薄膜,提拉速度依據(jù)所需厚度在6~12inch/min間調(diào)節(jié),最后將制備好的樣品經(jīng)過200℃熱處理1小時(shí)后得到雙層低折射率減反射膜成品。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和有益效果為:
本發(fā)明利用溶膠-凝膠酸催化法和浸漬提拉法制備一層與玻璃基材結(jié)合牢固的SiO2低折射率減反膜,再在減反膜表面鍍一層適當(dāng)厚度的TiO2薄膜。這種兼有耐磨和自潔性能的SiO2/TiO2雙層減反膜,在太陽(yáng)能領(lǐng)域具有重要的實(shí)用價(jià)值。
具體實(shí)施方式
下面通過具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳述,以下實(shí)施例只是描述性的,不是限定性的,不能以此限定本發(fā)明的保護(hù)范圍。
一種雙層低折射率減反射膜的制備方法,其制備方法的步驟如下:
⑴、將無水乙醇、PH=1的鹽酸標(biāo)準(zhǔn)溶液、去離子水、正硅酸乙酯按摩爾比配比,混合攪拌均勻后,在穩(wěn)定環(huán)境下靜置陳化5-7天后,制得酸性催化條件下的SiO2溶膠;
⑵、將溶劑無水乙醇、反應(yīng)物去離子水、催化劑醋酸、前驅(qū)體鈦酸丁酯按摩爾比依次加入到燒杯中,密封磁力攪拌4h后混合均勻,于室溫下靜置老化5~7天后備用。用無水乙醇對(duì)上述TiO2溶膠按不同比例進(jìn)行稀釋,通過改變TiO2溶膠體的濃度,來調(diào)節(jié)TiO2薄膜覆蓋在SiO2膜上的厚度;
⑶、將超白玻璃基片放入洗液中充分洗滌后,再分別用無水乙醇和去離子水經(jīng)超聲波充分洗滌,用氮?dú)獯蹈桑湃牒嫦渲泻娓珊螅糜诟稍锲髦袀溆茫?/p>
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于天津森宇仕達(dá)科技發(fā)展有限公司;,未經(jīng)天津森宇仕達(dá)科技發(fā)展有限公司;許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310700039.X/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C20-00 通過固態(tài)覆層化合物抑或覆層形成化合物懸浮液分解且覆層中不留存表面材料反應(yīng)產(chǎn)物的化學(xué)鍍覆
C23C20-02 .鍍金屬材料
C23C20-06 .鍍金屬材料以外的無機(jī)材料
C23C20-08 ..鍍化合物、混合物或固溶體,例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C20-04 ..鍍金屬





