[發明專利]雙層低折射率減反射膜的制備方法在審
| 申請號: | 201310700039.X | 申請日: | 2013-12-16 |
| 公開(公告)號: | CN104711551A | 公開(公告)日: | 2015-06-17 |
| 發明(設計)人: | 劉振宇 | 申請(專利權)人: | 天津森宇仕達科技發展有限公司 |
| 主分類號: | C23C20/08 | 分類號: | C23C20/08 |
| 代理公司: | 天津盛理知識產權代理有限公司 12209 | 代理人: | 田陽 |
| 地址: | 300180 天津市河東*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 雙層 折射率 減反射膜 制備 方法 | ||
1.一種雙層低折射率減反射膜的制備方法,其特征在于:該制備方法的步驟如下:
⑴、將無水乙醇、PH=1的鹽酸標準溶液、去離子水、正硅酸乙酯按摩爾比配比,混合攪拌均勻后,在穩定環境下靜置陳化5-7天后,制得酸性催化條件下的SiO2溶膠;
⑵、將溶劑無水乙醇、反應物去離子水、催化劑醋酸、前驅體鈦酸丁酯按摩爾比依次加入到燒杯中,密封磁力攪拌4h后混合均勻,于室溫下靜置老化5~7天后備用。用無水乙醇對上述TiO2溶膠按不同比例進行稀釋,通過改變TiO2溶膠體的濃度,來調節TiO2薄膜覆蓋在SiO2膜上的厚度;
⑶、將超白玻璃基片放入洗液中充分洗滌后,再分別用無水乙醇和去離子水經超聲波充分洗滌,用氮氣吹干,放入烘箱中烘干后,置于干燥器中備用;
⑷、在相對濕度環境<50%的清潔環境下,采用CHEMATDIPMASTER200浸漬提拉法在潔凈的玻璃基片上先鍍一層酸催化SiO2膜,于80℃烘箱中烘30min后再鍍一層TiO2薄膜,提拉速度依據所需厚度在6~12inch/min間調節,最后將制備好的樣品經過200℃熱處理1小時后得到雙層低折射率減反射膜成品。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C20-00 通過固態覆層化合物抑或覆層形成化合物懸浮液分解且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C20-02 .鍍金屬材料
C23C20-06 .鍍金屬材料以外的無機材料
C23C20-08 ..鍍化合物、混合物或固溶體,例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C20-04 ..鍍金屬





