[發明專利]用于統計數據抽取的統計計算

有效

• 申請號: 201310689280.7
• 申請日: 2013-12-16
• 公開（公告）號: CN103869769A
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發明（設計）人: 安德魯·S·方;約翰·C·小瓦爾考
• 申請（專利權）人: 朗姆研究公司
• 主分類號: G05B19/418
• 分類號: G05B19/418
• 代理公司: 上海勝康律師事務所 31263
• 代理人: 李獻忠

技術領域

本發明實施例涉及進行統計數據判定以及統計值在等離子體系統中的使用。

背景技術

在等離子體系統中，通過發生器來生成射頻（RF）信號。信號被傳遞到等離子體反應器以在等離子體反應器內生成等離子體。在等離子體反應器中形成的等離子體用于各種應用，例如，清潔晶片，將材料沉積到晶片上，刻蝕晶片，等等。

期望控制等離子體的特性以控制應用。例如，期望控制等離子體均勻度以達到刻蝕速率。作為另一示例，期望控制等離子體功率以達到沉積速率。

為控制特性，利用等離子體系統中的傳感器來測量特性。

在該背景下出現了本公開中所描述的實施例。

發明內容

本公開的實施例提供了用于生成統計值以減少與等離子體系統內的模型相關聯的數據量的裝置、方法和計算機程序。應當理解的是，本實施例能夠以多種方式實施，例如，以過程、裝置、系統、設備或計算機可讀介質上的方法實施。下面描述了多個實施例。

在一些實施例中，統計值用于控制等離子體腔室或產生RF信號。例如，不是分析在計算機生成模型的輸出處的變量的全部值來控制等離子體腔室，而是由所述值生成統計值，并且判定所述統計值是否在預定范圍之內。在判定出所述統計值在預定范圍之內時，不對等離子體腔室進行控制，例如，不調整供給到等離子體腔室的RF信號，等等。另一方面，在判定出統計值不在預定范圍之外時，利用統計值來控制等離子體腔室，例如，基于統計值來生成供給到等離子體腔室的RF信號，等等。

在各個實施例中，一種方法包括：接收來自射頻（RF）系統的變量；將變量傳播通過RF系統的模型；以及針對所述變量對模型的輸出進行計數以生成計數。所述方法還包括：判定所述計數是否滿足計數閾值；在判定出所述計數滿足計數閾值時在所述模型的輸出處生成變量的統計值；以及將統計值發送到RF系統以調節變量。

在各個實施例中，一種方法包括：接收來自射頻（RF）發生器的與變量相關聯的數據。RF發生器被配置為產生待經由阻抗匹配電路被供給到等離子體腔室的RF信號。變量與RF系統相關聯，RF系統包括RF發生器、阻抗匹配電路和等離子體腔室。所述方法還包括：基于所接收到的數據而生成在計算機生成模型的輸出處的值；對從計算機生成模型輸出的值的量進行計數；判定所述量是否超過計數閾值；響應于判定出所述量超過計數閾值而由從所述計算機生成模型輸出生成的數據生成統計值；以及將所述統計值發送到RF發生器以調節由所述RF發生器產生的RF信號。

在一些實施例中，一種方法包括：接收來自射頻（RF）發生器的與變量相關聯的數據。RF發生器用于產生待經由阻抗匹配電路被供給到等離子體腔室的RF信號。變量與RF系統相關聯，RF系統包括RF發生器、阻抗匹配電路以及等離子體腔室。所述方法包括：基于所接收到的數據來生成在計算機生成模型的輸出處的值；對從計算機生成模型輸出的值的量進行計數；判定所述量是否超過計數閾值；響應于判定出所述量超過計數閾值而由從計算機生成模型輸出的值來生成統計值；判定所述統計值是否在預定范圍之外；響應于判定出所述統計值在預定范圍之外而調節所述統計值至所述預定范圍之內；以及將經調節的統計值發送到RF發生器以控制RF發生器從而調節由RF發生器產生的RF信號。

在多個實施例中，一種方法包括：接收來自射頻（RF）發生器的與變量相關聯的數據。RF用于產生待經由阻抗匹配電路被供給到等離子體腔室的RF信號。變量與RF系統相關聯，RF系統包括RF發生器、阻抗匹配電路和等離子體腔室。所述方法還包括：基于所接收到的數據來生成在計算機生成模型的輸出處的值；對從計算機生成模型輸出的值的量進行計數；判定所述量是否超過計數閾值；以及響應于判定出所述量超過計數閾值而由從計算機生成模型輸出的值來生成統計值。所述方法包括：判定統計值是否在預定區域之外；響應于判定出統計值在預定區域之外而產生故障指示；以及將所述故障指示發送到RF發生器。

本公開中描述的一個或多個實施例的一些優點包括：使用統計值而不是在計算機生成模型的輸出處的變量的全部值來控制等離子體腔室。例如，不是判定所述值是否在預定范圍之內，而是判定統計值是否在預定范圍之內。在判定出統計值在預定范圍之內時，不做進一步控制等離子體腔室的任何改變。另一方面，在判定出統計值在預定范圍之外時，對統計值做出改變以控制等離子體腔室來獲得改變后的統計值。