[發明專利]冷卻裝置以及真空蒸鍍設備

有效

• 申請號: 201310684824.0
• 申請日: 2013-12-13
• 公開（公告）號: CN103668083B
• 公開（公告）日: 2016-10-19
• 發明（設計）人: 焦志強;孫力
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術領域

本發明涉及冷卻系統，尤其涉及一種冷卻裝置以及真空蒸鍍設備。

背景技術

作為OLED顯示裝置制備過程中的一種重要制備設備，真空蒸鍍設備用于在真空環境中，將材質加熱蒸鍍到基底上。因此，真空蒸鍍設備其使用效率會對OLED顯示裝置的制備工藝正常運轉產生影響。

通常來說，以現有真空蒸鍍設備為例，其蒸鍍過程可描述為將待成膜的材質至于真空環境中并進行加入，從而令待成膜的材質蒸發或升華，進而在基底表面生長成膜結構。因此，現有技術真空蒸鍍設備在完成一次蒸鍍工藝后，通常需要較長時間等待蒸發源自然冷卻至室溫，而后才可以打開真空室進行更換材質填料等動作，并進行下一次蒸鍍工藝。

然而，發明人發現現有技術中至少存在如下問題：由于現有技術真空蒸鍍設備在完成一次蒸鍍工藝后需要等待蒸發源自然冷卻，待蒸發源自然冷卻至室溫后才可以開啟真空室，而現有的蒸發源自然冷卻的冷卻效率較低，需要耗費較長時間，最終會引起真空蒸鍍設備使用效果低下。

發明內容

本發明的實施例提供一種冷卻裝置以及真空蒸鍍設備，可以加速真空蒸鍍設備蒸發源的冷卻過程，減少真空蒸鍍設備冷卻所需時間，有效提高真空蒸鍍設備的使用效率。

為解決上述技術問題，本發明的實施例采用如下技術方案：

一種冷卻裝置，用于冷卻真空蒸鍍設備的蒸發源，所述冷卻裝置包括：

若干個冷卻單元；

驅動單元，用于通過支架驅動所述冷卻單元包覆所述蒸發源；

設置于所述冷卻單元內部的冷卻管，所述冷卻管包括至少一個冷卻液進料口以及至少一個冷卻液出料口。

優選的，所述冷卻管在所述冷卻單元內部的排布形狀呈Z字形。

優選的，所述冷卻管在所述冷卻單元內部的排布形狀呈U字形、圓環形、鋸齒形中的任意一種或幾種。

進一步的，所述冷卻裝置還包括：制冷壓縮機，所述制冷壓縮機用于向所述冷卻管內壓入冷卻液。

進一步的，所述冷卻液包括冷卻水、液態二氧化碳、乙醇中的任意一種或幾種。

另一方面，本發明實施例還提供了一種真空蒸鍍設備，包括上述所述的冷卻裝置。

本發明實施例提供的一種冷卻裝置以及真空蒸鍍設備，其中冷卻裝置中設置有冷卻單元、驅動單元以及設置于冷卻單元內部的冷卻管。在真空蒸鍍設備完成蒸鍍工藝后，驅動冷卻單元包覆蒸發源，從而加速真空蒸鍍設備的冷卻過程，提高該真空蒸鍍設備的使用效率。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明實施例提供的一種冷卻裝置的結構示意圖；

圖2為本發明實施例冷卻裝置中冷卻管的排布示意圖之一；

圖3為本發明實施例冷卻裝置中冷卻管的排布示意圖之二。

具體實施方式

本發明實施例提供的一種冷卻裝置以及真空蒸鍍設備，可以加速真空蒸鍍設備蒸發源的冷卻過程，減少真空蒸鍍設備冷卻所需時間，有效提高真空蒸鍍設備的使用效率。

以下描述中，為了說明而不是為了限定，提出了諸如特定系統結構、接口、技術之類的具體細節，以便透切理解本發明。然而，本領域的技術人員應當清楚，在沒有這些具體細節的其它實施例中也可以實現本發明。在其它情況中，省略對眾所周知的裝置、電路以及方法的詳細說明，以免不必要的細節妨礙本發明的描述。

下面結合下述附圖對本發明實施例做詳細描述。

本發明的實施例提供一種冷卻裝置，如圖1所示，該冷卻裝置包括至少一個冷卻單元1、用于驅動冷卻單元1的驅動單元（圖1中未示出）以及設置于冷卻單元1內部的冷卻管2。需要說明的是，舉例而言，驅動單元可通過導軌以及支架驅動冷卻單元1的位置移動，其具體驅動方式可由技術人員根據蒸發源10與冷卻單元1的配合情況來決定。