[發明專利]沉積設備、薄膜形成方法、有機發光顯示設備及制造方法有效
| 申請號： | 201310684603.3 | 申請日： | 2013-12-13 |
| 公開（公告）號： | CN104069977B | 公開（公告）日： | 2018-10-09 |
| 發明（設計）人： | 許明洙;金善浩;朱儇佑;金宰賢 | 申請（專利權）人： | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號： | B05B16/20 | 分類號： | B05B16/20;H01L27/32;H01L51/50;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人： | 張云珠;李云霞 |
| 地址： | 韓國京畿*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 沉積 設備 薄膜 形成 方法 有機 發光 顯示 制造 | ||
【權利要求書】：
1.一種構造為在基底上形成沉積層的沉積設備，所述沉積設備包括：
沉積源，構造為面向基底的第一側并朝向基底噴射一種或多種沉積材料；
冷卻臺，構造為支撐基底的與基底的第一側相對的第二側；
硬化單元，構造為硬化從沉積源噴射的并已到達基底的所述一種或多種沉積材料；以及
支撐構件，構造為支撐沉積源和硬化單元，
其中，支撐構件包括多個窗口，并且
硬化單元包括與窗口對應的多個硬化構件，并且
硬化構件通過窗口朝向基底輻射光。
2.根據權利要求1所述的沉積設備，其中，冷卻臺被構造為接觸基底。
3.根據權利要求1所述的沉積設備，其中，冷卻臺至少與基底一樣大。
4.根據權利要求1所述的沉積設備，其中，冷卻臺包括構造為使冷卻材料循環的冷卻通道。
5.根據權利要求1所述的沉積設備，其中，沉積源包括噴射所述一種或多種沉積材料的一個或多個噴嘴。
6.根據權利要求1所述的沉積設備，其中，沉積源為花灑的形式。
7.根據權利要求1所述的沉積設備，其中，硬化單元比沉積源離基底更遠。
8.根據權利要求1所述的沉積設備，其中，硬化構件被構造為朝向基底輻射紫外光。
9.根據權利要求1所述的沉積設備，其中，支撐構件圍繞沉積源的側面。
10.根據權利要求1所述的沉積設備，其中，所述多個硬化構件在第一方向上至少具有基底在第一方向上的長度，其中，第一方向為硬化構件的延伸方向。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于三星顯示有限公司，未經三星顯示有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310684603.3/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
