[發(fā)明專(zhuān)利]基板支撐裝置及基板處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310680379.0
• 申請(qǐng)日: 2013-12-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104711542A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-06-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李大濬;崔亨燮;金容珍
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 圓益IPS股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C16/458
• 分類(lèi)號(hào): C23C16/458;H01L21/67;H01L21/687
• 代理公司: 北京青松知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11384
• 代理人: 鄭青松

1.一種基板支撐裝置，其特征在于，包括：

基板支撐體，安裝基板；及

保護(hù)環(huán)，設(shè)置在所述基板支撐體上，形成為了在高于所述基板支撐體的上面的位置向所述基板噴射氣體的流通渠道。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板支撐裝置，其特征在于，

所述保護(hù)環(huán)，包括：

環(huán)形態(tài)的第1機(jī)體；

第2機(jī)體，從所述第1機(jī)體向內(nèi)側(cè)方向延長(zhǎng)形成；

第1流通渠道，一端與所述第2機(jī)體的下面連接，由此向上部方向延長(zhǎng)形成；及

第2流通渠道，與所述第1流通渠道的其他端連接，向內(nèi)側(cè)方向延長(zhǎng)形成。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板支撐裝置，其特征在于，

所述保護(hù)環(huán)，包括：

下部環(huán)，具有環(huán)形態(tài)的機(jī)體，且與所述機(jī)體的下面連接，由此向上部方向延長(zhǎng)形成的第1流通渠道，及與所述第1流通渠道的其他端連接，向內(nèi)側(cè)方向延長(zhǎng)形成的第2流通渠道；及

上部環(huán)，設(shè)置在所述下部環(huán)上，在與所述下部環(huán)的內(nèi)側(cè)面之間，形成與所述第2流通渠道連接的第3流通渠道，

所述流通渠道，包括所述第1流通渠道、所述第2流通渠道、所述第3流通渠道。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的基板支撐裝置，其特征在于，

所述第1及第2流通渠道，根據(jù)所述下部環(huán)的圓周方向形成多個(gè)。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板支撐裝置，其特征在于，

所述第1流通渠道，垂直貫通所述下部環(huán)的機(jī)體形成，所述第2流通渠道，在所述機(jī)體的上面以凹陷的槽形成。

6.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的基板支撐裝置，其特征在于，

所述第2機(jī)體，在內(nèi)側(cè)面的至少一部分形成，具有向下傾斜的傾斜面。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板支撐裝置，其特征在于，

所述傾斜面，具有45°至80°的傾斜。

8.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的基板支撐裝置，其特征在于，

所述第1機(jī)體，具有在其上面凹陷形成的至少一個(gè)以上的結(jié)合槽。

9.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的基板支撐裝置，其特征在于，

所述保護(hù)環(huán)與所述基板支撐體之間，形成通過(guò)氣體的主渠道，并且所述主渠道與所述流通渠道連接。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板支撐裝置，其特征在于，

所述主渠道，在所述第1流通渠道及所述保護(hù)環(huán)的下面邊緣位置領(lǐng)域，與所述基板支撐體的側(cè)面之間形成的第4流通渠道連接。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板支撐裝置，其特征在于，

所述基板支撐體，具有在內(nèi)部通過(guò)氣體的氣體通道，

所述氣體通道與所述主渠道連接。

12.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板支撐裝置，其特征在于，

所述下部環(huán)，具有在上面凹陷形成的結(jié)合槽，

所述上部環(huán)，具有在下面對(duì)應(yīng)所述結(jié)合槽的結(jié)合凸起。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板支撐裝置，其特征在于，

具有多個(gè)所述結(jié)合槽，并且其中一部分結(jié)合所述結(jié)合凸起時(shí)，使其具有與所述結(jié)合凸起隔離的間隔，所述結(jié)合槽的直徑形成為大于所述結(jié)合凸起的直徑。

14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的基板支撐裝置，其特征在于，

所述結(jié)合槽，形成將所述第1機(jī)體向所述第1機(jī)體的外側(cè)方向垂直貫通的貫通孔。

15.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板支撐裝置，其特征在于，

在所述上部環(huán)內(nèi)側(cè)端部具有向下方彎曲的彎曲部，

在所述下部環(huán)內(nèi)側(cè)面至少一部分，具有向下傾斜的傾斜面，并且在所述彎曲部與所述傾斜面之間，形成所述第3流通渠道。

16.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板支撐裝置，其特征在于，

所述下部環(huán)，在上面具有階梯部，

所述上部環(huán)，在下面具有對(duì)應(yīng)所述階梯部的凸出部。

17.一種基板處理裝置，其特征在于，包括：

腔室，形成處理空間；

氣體噴射器，在所述腔室的內(nèi)部供給處理氣體；及

基板支撐臺(tái)，配置在所述腔室的內(nèi)部且支撐基板，

所述基板支撐臺(tái)，具有通過(guò)分別的流通渠道，向所述基板的上部邊緣及下部邊緣供給凈化氣體的流通渠道。