[發(fā)明專利]一種使用雙頻激光的三維光柵位移測量系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310674590.1 | 申請日: | 2013-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN103644848A | 公開(公告)日: | 2014-03-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 林杰;關(guān)健;金鵬;譚久彬 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | G01B11/02 | 分類號: | G01B11/02 |
| 代理公司: | 哈爾濱市偉晨專利代理事務(wù)所(普通合伙) 23209 | 代理人: | 張偉 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 使用 雙頻 激光 三維光柵 位移 測量 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
一種使用雙頻激光的三維光柵位移測量系統(tǒng)涉及一種光柵位移測量系統(tǒng),特別涉及一種使用雙頻激光的三維光柵位移測量系統(tǒng)。?
背景技術(shù)
光柵位移測量技術(shù)最早起源于19世紀(jì),從20世紀(jì)50年代開始得到了迅速的發(fā)展。目前,光柵位移測量系統(tǒng)已經(jīng)成為了一種典型的位移傳感器,并被廣泛應(yīng)用于眾多機電設(shè)備。光柵位移測量系統(tǒng)因具有分辨力高、精度高、成本低、環(huán)境敏感性低等眾多優(yōu)點,不僅在工業(yè)和科研領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用,而且被眾多國內(nèi)外學(xué)者研究。?
光刻機是生產(chǎn)半導(dǎo)體芯片的核心設(shè)備。超精密工件臺是光刻機的核心子系統(tǒng),用于承載基片并完成裝片、曝光、換臺、卸片過程中的高速超精密運動。超精密工件臺具有高速度、高加速度、多自由度、大行程、超精密等特點。雙頻激光干涉儀因為同時具有高精度、大量程的優(yōu)點,被廣泛用于超精密工件臺的位移測量。然而,近年來半導(dǎo)體芯片制造的工藝水平不斷提升:2010年,半導(dǎo)體芯片的加工已經(jīng)采用了32nm線寬工藝;在2011年底,22nm線寬的CPU芯片也已上市銷售。不斷提高的半導(dǎo)體芯片加工水平對超精密工件臺位移測量的分辨力、精度等指標(biāo)都提出了更高的要求,雙頻激光干涉儀因其存在環(huán)境敏感性差、占用空間大、多自由度測量結(jié)構(gòu)復(fù)雜、價格昂貴等問題難以滿足新的測量需求。?
為了解決上述問題,國內(nèi)外超精密測量領(lǐng)域的有關(guān)公司及眾多學(xué)者都進(jìn)行了大量的研究,研究成果在諸多專利和論文中均有揭露。荷蘭ASML公司的專利US7,483,120B2(公開日2007年11月15日)公開了一種應(yīng)用于光刻機超精密工件臺的平面光柵測量系統(tǒng)及布置方案,該測量系統(tǒng)主要利用二維平面光柵與讀數(shù)頭測量工件臺的水平大行程位移,工件臺豎直方向的位移可以通過單獨布置的高度傳感器進(jìn)行測量,但是使用多種傳感器會使超精密工件臺的結(jié)構(gòu)復(fù)雜并會限制位移的測量精度。日本學(xué)者Gao?Wei在發(fā)表的論文“A?sub-nanometric?three-axis?surface?encoder?with?short-period?planar?gratings?for?stage?motion?measurement.Precision?Engineering36(2012)576-585.”中提出了一種基于衍射干涉原理的三維光柵位移測量系統(tǒng),可以同時測量x、y、z三個方向的直線位移,但是該系統(tǒng)在測量z方向的直線位移時會導(dǎo)致測量光與參考光的干涉區(qū)域變小,因此系統(tǒng)?的z方向直線位移的量程受限于光束直徑的大小,無法實現(xiàn)z方向大行程直線位移的測量。清華大學(xué)朱煜等人的專利CN102937411A(公開日2013年2月20日)中公開了一種雙頻光柵干涉儀位移測量系統(tǒng),可以同時測量水平和豎直兩個方向的直線位移,而且使用了雙頻激光作為光源以提高信號的抗干擾能力,但是該系統(tǒng)的豎直方向直線位移的量程同樣受限于光束直徑的大小,仍然無法實現(xiàn)豎直方向大行程直線位移的測量,而且該系統(tǒng)使用一維二維反射式測量光柵僅能測量兩個方向的直線位移。臺灣大學(xué)Fan?Kuang-Chao等人在發(fā)表的論文“Displacement?Measurement?of?Planar?Stage?by?Diffraction?Planar?Encoder?in?Nanometer?Resolution.I2MTC(2012)894-897.”中研制了一種納米量級分辨力的二維平面光柵位移測量裝置,可以測量兩個水平方向的直線位移,但是無法測量豎直方向的直線位移,也不能滿足超精密工件臺豎直方向的位移測量要求。?
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述問題,本發(fā)明的目的是提供一種使用雙頻激光的三維光柵位移測量系統(tǒng),該測量系統(tǒng)不僅能夠同時測量沿x軸、y軸、z軸三個方向的直線位移,而且提高了測量信號的抗干擾能力,同時相比已有技術(shù)該系統(tǒng)的z向位移量程得到了極大的擴展。?
本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的:?
一種使用雙頻激光的三維光柵位移測量系統(tǒng),包括出射端接光纖的雙頻激光器、分光部件、偏振分光棱鏡、測量臂四分之一波片、測量臂折光元件、參考臂四分之一波片、參考臂折光元件、二維反射式參考光柵、光電探測及信號處理部件和二維反射式測量光柵;?
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于哈爾濱工業(yè)大學(xué),未經(jīng)哈爾濱工業(yè)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310674590.1/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:直線切割吻合器
- 下一篇:腹腔鏡術(shù)后切口縫合裝置





