[發明專利]垂直DMOS晶體管有效
| 申請號: | 201310671827.0 | 申請日: | 2013-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN104051534A | 公開(公告)日: | 2014-09-17 |
| 發明(設計)人: | 秀明土子 | 申請(專利權)人: | 萬國半導體股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/78 | 分類號: | H01L29/78;H01L29/10 |
| 代理公司: | 上海信好專利代理事務所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 張靜潔;張妍 |
| 地址: | 美國加利福尼亞*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 垂直 dmos 晶體管 | ||
技術領域
本發明涉及半導體器件,尤其是垂直DMOS晶體管。
背景技術
由于橫向雙擴散金屬-氧化物-半導體(LDMOS)晶體管的高擊穿電壓性能,以及對于低壓器件的CMOS技術兼容,因此通常用于高壓器件(<10V至>1000V)。圖1表示傳統的低端N-型LDMOS晶體管的剖面圖。眾所周知,增大漂流區的長度(用距離“d”表示),LDMOS晶體管的擊穿電壓也可以相應地增大。
圖2表示傳統的溝槽MOSFET器件的剖面圖。在溝槽MOSFET器件中,柵極電極形成在溝槽中,通道形成在沿溝槽側壁的垂直區中。因此,溝槽MOSFET器件是一個垂直晶體管器件,源極區在器件的頂部,漏極端在器件的背部。Williams等人發明的美國專利7,576,391也提出了一種橫向溝槽MOSFET器件,用于控制通道電流的溝槽柵極在刻蝕后溝槽的側邊垂直向下。
發明內容
本發明提供一種垂直DMOS晶體管,增強了晶體管器件的強度和可靠性,晶體管器件可以擁有一個很寬的安全操作區,可以調節溝槽深度和側壁漏極延伸物的摻雜水平,優化漏極節點和漏源導通電阻RdsON所加載的最高電壓,而不會使器件間距明顯增大,準垂直DMOS晶體管可以集成或作為一個單獨的器件。
依據本發明的原理,準垂直雙擴散MOS(DMOS)晶體管包含一個沿溝槽側壁的垂直漏極電流通路。該溝槽可以引入一個導電場板,或者配置成一個溝槽漏極電極。在一些實施例中,垂直漏極電流通路連接到掩埋摻雜區,掩埋摻雜區將漏極電流水平引至溝槽漏極電極,構成一個頂端漏極電極。憑借頂端漏極電極,可以作為集成電路的一部分,集成準垂直DMOS晶體管。準垂直DMOS晶體管也可以作為一個帶有背部漏極電極的單獨器件。
依據本發明的另一方面,制備一個NMOS晶體管,漏極延伸物在沿溝槽側壁的垂直漏極電流通路中。漏極延伸物具有降低柵極電極邊緣處的漏極電壓的作用,從而使低壓NMOS晶體管可以接通或斷開漏極節點上所加載的高壓,而不會影響器件的可靠性。
在本發明的實施例中,準垂直DMOS晶體管包含一個橫向通道,形成在柵極電極下方的半導體本體中,通過一個柵極電介質層,與柵極電極絕緣。溝槽形成在柵極電極的漏極端,并在此處形成輕摻雜的側壁區,從而沿溝槽側壁提供一個高電阻率的漏極延伸物通路。來自于橫向通道的漏極電流在溝槽側壁處拐彎,漏極電流沿輕摻雜側壁區傳導,構成垂直漏極電流通路。在這種情況下,延伸后的漏極漂流區形成在摻雜漏極電流通路中,以提高準垂直DMOS晶體管的擊穿電壓。
在一些實施例中,垂直電流通路連接到掩埋摻雜區,例如掩埋層,將漏極電流水平引至溝槽漏極電極。溝槽漏極電極作為導電填充溝槽,可以位于每個準垂直DMOS晶體管結構或并聯準垂直DMOS晶體管結構陣列的預定義間隔處。
準垂直DMOS晶體管結構與傳統的橫向或垂直DMOS晶體管器件相比,具有很多優勢。首先,本發明所述的準垂直DMOS晶體管具有一個很深的結,在溝槽底部而不是在柵極邊緣處擊穿。因此,柵極電極的漏極邊緣無法承受過高的電壓。高電場位于P-阱本體的底部。在這種情況下,熱載流子注入被提升。從而增強了晶體管器件的強度和可靠性,晶體管器件可以擁有一個很寬的安全操作區。此外,可以調節溝槽深度和側壁漏極延伸物的摻雜水平,優化漏極節點和漏源導通電阻RdsON所加載的最高電壓,而不會使器件間距明顯增大。例如,較深的溝槽和較輕摻雜的側壁區可以增大漏極節點的擊穿電壓。同時,準垂直DMOS晶體管的RdsON*面積比傳統的橫向DMOS或LDMOS晶體管的RdsON*面積更小。此外,準垂直DMOS晶體管可以集成或作為一個單獨的器件。例如,準垂直DMOS晶體管可以集成在功率集成電路中,用作片上功率FET。在這種情況下,可以利用頂部溝槽漏極電極連接到掩埋層,掩埋層連接到垂直漏極電流通路,用于并聯晶體管陣列。還可選擇,準垂直DMOS晶體管可以作為一個單獨的器件,還可以作為一個N-型或P-型器件。對于N-通道DMOS晶體管來說,單獨的器件可以形成在帶有N-型外延層的N+襯底上。
附圖說明
以下的詳細說明及附圖提出了本發明的各個實施例。
圖1表示一種傳統的低端N-型LDMOS晶體管的剖面圖。
圖2表示一種傳統的溝槽MOSFET器件的剖面圖。
圖3表示依據本發明的一個實施例,一種引入溝槽導電場板的準垂直DMOS晶體管器件的剖面圖。
圖4表示依據本發明的一個實施例,一種引入溝槽漏極電極的準垂直DMOS晶體管器件的剖面圖。
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