[發明專利]一種漸變式間距的石墨舟

有效

• 申請號: 201310667675.7
• 申請日: 2013-12-10
• 公開（公告）號: CN103614708A
• 公開（公告）日: 2014-03-05
• 發明（設計）人: 胡金艷;韓瑋智;王仕鵬;黃海燕;陸川
• 申請（專利權）人: 浙江正泰太陽能科技有限公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458
• 代理公司: 北京漢昊知識產權代理事務所(普通合伙) 11370
• 代理人: 馮譜

1.一種漸變式間距的石墨舟，所述石墨舟包含有多片平行設置的石墨片；

其特征在于：

從所述石墨舟的中心到所述石墨舟的外側，相鄰兩片石墨片之間的間距依次為D₀、D₁……D_n-1、D_n；

所述D₀、D₁……D_n-1、D_n之間的大小關系為：D₀>D₁>……>D_n-1>D_n；且D₀-D₁=D₁-D₂=……=D_n-1-D_n=a（a>0），a為相鄰兩石墨片之間的距離差。

2.根據權利要求1所述的石墨舟，其特征在于，所述a的范圍為1mm～30mm。

3.一種對硅片進行鍍膜的方法，包括步驟：

a）將硅片放置在石墨舟中，并將所述石墨舟置于反應腔內；

b）向所述反應腔內通入反應氣體；

c）通過等離子源激發，在所述硅片表面形成減反膜；

其特征在于，

所述石墨舟采用如權利要求1或2中所述的漸變式間距石墨舟。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述反應腔內的溫度為250℃～500℃。

5.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述反應氣體為硅烷和氨氣。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述硅烷的氣體通量范圍為：0～3slm。

7.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述氨氣的氣體通量范圍為：0～10slm。