[發(fā)明專利]卷對卷濺射方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310641578.0 | 申請日: | 2013-12-03 |
| 公開(公告)號: | CN103849851A | 公開(公告)日: | 2014-06-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳定烘;安陣修;林昌默;梁基模;吳商潤 | 申請(專利權(quán))人: | 三星康寧精密素材株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C14/34;C23C14/08 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;王珍仙 |
| 地址: | 韓國慶*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 濺射 方法 | ||
1.一種卷對卷濺射方法,所述方法包括:將在拆卷機輥上卷繞的柔性基板轉(zhuǎn)運到沉積部分,在所述柔性基板上形成沉積膜,和在卷線機輥上卷繞所述柔性基板,其中,所述沉積部分包括第一沉積部分,所述第一沉積部分包括:
第一濺射部分,所述第一濺射部分將第一靶材料沉積到所述柔性基板的一個表面上,和
加熱器,所述加熱器布置在所述柔性基板的另一表面的一側(cè)以加熱所述柔性基板。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷對卷濺射方法,其中,所述沉積部分進一步包括第二沉積部分,所述第二沉積部分包括:
第二濺射部分,所述第二濺射部分將第二靶材料沉積到所述柔性基板的一個表面上;和
接觸并冷卻所述柔性基板的冷卻滾筒。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的卷對卷濺射方法,其中,所述冷卻滾筒內(nèi)部具有流動通道,其中,冷卻水沿所述流動通道流動,以使所述柔性基板保持在預(yù)定的溫度。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的卷對卷濺射方法,其中,所述第二濺射部分包括多個濺射部分。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的卷對卷濺射方法,其中,所述第一靶材料和所述第二靶材料為相同的材料或不同的材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的卷對卷濺射方法,其中,所述第一靶材料包括ITO,并且所述第二靶材料包括Nb2O5或SiO2。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的卷對卷濺射方法,其中,所述柔性基板包括有機膜,并且僅當所述第二沉積部分被啟動且所述第一沉積部分被關(guān)掉時沉積所述第二靶材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷對卷濺射方法,其中,所述第一沉積部分包括隔熱部件,所述隔熱部件阻礙所述加熱器產(chǎn)生的熱被轉(zhuǎn)移到所述第一沉積部分的外部。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的卷對卷濺射方法,其中,所述第一沉積部分進一步包括冷卻裝置,所述冷卻裝置用于防止由所述加熱器產(chǎn)生的熱被轉(zhuǎn)移到所述第一沉積部分的外部。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷對卷濺射方法,其中,所述柔性基板包括柔性玻璃。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷對卷濺射方法,其中,所述加熱器使沉積在所述柔性基板的一個表面上的所述第一靶材料結(jié)晶。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的卷對卷濺射方法,其中,所述第一濺射部分包括多個濺射部分。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





