[發明專利]一種制備CIGS太陽能電池吸收層的硒化爐有效
| 申請號: | 201310627444.3 | 申請日: | 2013-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN103594563A | 公開(公告)日: | 2014-02-19 |
| 發明(設計)人: | 伍祥武;陳進中;莫經耀;吳伯增;林東東;甘振英 | 申請(專利權)人: | 柳州百韌特先進材料有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;C23C14/58 |
| 代理公司: | 廣州凱東知識產權代理有限公司 44259 | 代理人: | 姚迎新 |
| 地址: | 545006 廣西壯族自治區*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 cigs 太陽能電池 吸收 硒化爐 | ||
技術領域
本發明涉及CIGS太陽能電池吸收層的制備,具體說是用于制備吸收層的硒化爐。
背景技術
太陽能電池是一種將太陽能轉換為電能的裝置,其中CIGS(銅銦鎵硒)?薄膜被看作是所有薄膜太陽電池技術中最有希望實現低價、高效、性能穩定的光伏材料。原因主要有以下幾點:1)CIGS?的帶隙可以調控,達到與太陽光譜相匹配的數值;2)CIGS?薄膜太陽電池的性能非常穩定,具有很強的抗輻射能力,非常適合作為空間衛星的發電部件;3)CIGS?薄膜是一種直接帶隙化合物半導體材料,對太陽光的吸收系數很高;4)?CIGS?薄膜太陽電池的轉換效率高。
吸收層銅銦鎵硒薄膜是CIGS?太陽能電池的核心部分,吸收層的制備方法如多元共蒸法和磁控濺射后硒化法。雖然這些真空沉積技術能夠制備出轉換效率高的CIGS?薄膜電池,但是精密的真空設備需要很大的設備投資,生產周期長,這使得電池的生產成本較高。用于硒化處理的裝置稱為硒化爐,現有的硒化爐都是基于玻璃襯底CIGS?太陽能電池分批式封閉熱處理爐。在該方案中,數片表面沉積有前驅膜的襯底分層置于硒化爐中,然后在低于1℃?/s?升溫速率下加熱到450?~?600℃在H2Se?或Se?氣氛中反應30?分鐘到數小時之間。該分批式封閉硒化爐的問題是,每批次都要經過抽真空、加熱、保溫、降溫過程,周期長、能耗大,對于提高生產效率降低生產成本不利。
目前還公開了一種硒化爐,如公告號為CN?102185024?B的中國專利,其將爐腔分為四段對襯底進行硒化,但是由于其采用中間進氣、兩端排氣的方式,使得反應段的排氣不夠徹底;且其采用夾層加小孔的方式對襯底硒化,噴涂不夠均勻。
發明內容
針對上述技術問題,本發明提供一種噴涂更均勻、排氣較徹底的CIGS太陽能電池吸收層硒化爐。
本發明解決上述技術問題所采用的技術方案為:一種制備CIGS太陽能電池吸收層的硒化爐,包括硒化CIGS太陽能電池襯底的爐膛和穿過該爐膛兩端傳送襯底的輸送帶,爐膛整個外壁包覆有溫控加熱裝置,所述爐膛通過四對上、下擋板依次分隔為噴涂區、反應區和進氣區,上、下擋板之間留有供輸送帶移動的間隙,所述噴涂區內安裝有向移動的所述襯底噴射硒蒸氣的噴射裝置;在爐膛反應區一端設有惰性氣體進氣孔,爐膛另一端設有排氣孔,所述噴涂區與反應區之間、反應區和進氣區之間均設有氣體通孔。
進一步地,所述進氣孔、通孔、排氣孔交錯設置于對應的上、下擋板上。
作為優選,所述進氣孔設置于爐膛所述一端的下擋板上。
作為優選,所述噴涂區下側設有支撐輸送帶的透氣墊。
作為優選,所述噴射裝置包括數個噴嘴,數個噴嘴分布成與輸送帶運動方向垂直的一列。
作為優選,所述噴射裝置包括一硒蒸氣管,該硒蒸氣管上開具有至少一排噴射孔,每一排噴射孔與輸送帶運動方向垂直。
本發明與現有技術相比具有如下優點:
1、本發明采用向勻速移動的襯底噴射硒蒸氣的方式,不僅噴涂均勻,有利于提高硒化效果,而且效率高。
2、采用爐膛一端進氣,另一端排氣的方式,且氣流方向與襯底運動方向相反,不僅避免輸送帶運動時攜帶一部分空氣進入反應區,而且反應區的排氣非常徹底。
3、通過將進氣孔、通孔、排氣孔上、下交錯設置,使得反應區的排氣更加徹底。
附圖說明
圖1是本發明優選方式的結構示意圖;
圖2是本發明噴射區截面放大示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖詳細介紹本發明:
?圖1示出本發明的硒化爐,其包括硒化CIGS太陽能電池襯底的爐膛1和穿過該爐膛兩端傳送襯底2的輸送帶3,爐膛整個外壁包覆有溫控加熱裝置4,從而保證噴涂區、反應區和進氣區的溫度一致;所述爐膛通過四對上、下擋板11、12依次分隔為噴涂區5、反應區6和進氣區7,上、下擋板之間留有供輸送帶移動的間隙,所述噴涂區內安裝有向移動的所述襯底噴射硒蒸氣的噴射裝置8,其中噴射裝置與產生硒蒸氣的裝置連通。在實施過程中應保證襯底勻速運動,并控制噴射裝置的流量恒定,有利于提高吸收層硒化質量;由于采用向勻速運動的襯底上噴射定量的硒蒸氣,因此,噴射非常均勻。硒蒸氣噴射完成后,襯底通過輸送帶完全輸送至反應區進行反應。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





