[發明專利]基板轉移暨處理系統以及基板轉移暨處理方法

有效

• 申請號: 201310626314.8
• 申請日: 2013-11-29
• 公開（公告）號: CN104425329A
• 公開（公告）日: 2015-03-18
• 發明（設計）人: 陳傳宜;游柏清;藍受龍;陳立凱
• 申請（專利權）人: 亞智科技股份有限公司
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677;H01L21/67;H01L21/208;H01L31/18;H01L31/20
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139
• 代理人: 孫皓晨

1.一種基板轉移暨處理系統，用來轉移與處理一基板，其特征在于，該基板轉移暨處理系統包含：

一基板轉移裝置，用來將該基板于一輸送路徑上移動；

至少一熱板裝置，設置于該輸送路徑上，用來承載并加熱該基板；

一藥液裝置，設置于該輸送路徑上，該藥液裝置被驅動移動至該熱板裝置所承載的該基板處，該藥液裝置與該基板的上表面形成一封閉空間，在該封閉空間提供一藥液與該基板的該上表面接觸以產生一化學反應；以及

一傾斜裝置，用來傾斜該熱板裝置、該藥液裝置及該基板至一角度；

其中，該熱板裝置對該基板加熱以使該基板與該藥液加速進行該化學反應。

2.根據權利要求1所述的基板轉移暨處理系統，其特征在于，該基板轉移裝置包括：

一入口端，提供未與該藥液接觸的該基板進入該輸送路徑；以及

一出口端，提供完成該化學反應的該基板由該輸送路徑輸出。

3.根據權利要求2所述的基板轉移暨處理系統，其特征在于：該入口端設有一第一清洗裝置，用來清洗該未與該藥液接觸的該基板。

4.根據權利要求2所述的基板轉移暨處理系統，其特征在于：該出口端設有一第二清洗裝置，用來清洗由該出口端被送出的該基板。

5.根據權利要求1所述的基板轉移暨處理系統，其特征在于，該傾斜裝置包含：

一平臺，用來承載該熱板裝置；

一固定轉軸，設置于該平臺底部其中一側；

一升降裝置，設置于該平臺底部相對于設有該固定轉軸的一側，該升降裝置以該固定轉軸為支點進行升降往復運動時，用來傾斜該熱板裝置、該藥液裝置及該基板至一角度。

6.根據權利要求5所述的基板轉移暨處理系統，其特征在于：該藥液裝置被驅動傾斜至一角度時，能夠將該藥液排出該藥液裝置。

7.根據權利要求5所述的基板轉移暨處理系統，其特征在于：該升降裝置為氣壓裝置或油壓裝置。

8.根據權利要求1所述的基板轉移暨處理系統，其特征在于，該藥液裝置包括：

一蓋體；以及

一蓋體固定裝置，用來將該蓋體移送至該熱板裝置所承載的該基板處，以使該蓋體與該基板的上表面形成一封閉空間。

9.根據權利要求8所述的基板轉移暨處理系統，其特征在于：該蓋體固定裝置設有一藥液供給裝置，用來將藥液注入該封閉空間內。

10.根據權利要求8所述的基板轉移暨處理系統，其特征在于：還包括一沖洗裝置，用來沖洗該基板及該蓋體。

11.根據權利要求10所述的基板轉移暨處理系統，其特征在于：該蓋體具有一第一開口，用來提供該藥液注入該封閉空間內，或提供該藥液排出于該封閉空間之外，或提供該沖洗裝置沖洗該基板或該蓋體。

12.根據權利要求11所述的基板轉移暨處理系統，其特征在于：該蓋體具有一第二開口，該第一開口與該第二開口分別作為供該藥液注入于該封閉空間內及供該藥液排出于該封閉空間外，該第一開口與該第二開口的其中一個可供該沖洗裝置沖洗該基板或該蓋體。

13.根據權利要求12所述的基板轉移暨處理系統，其特征在于：該蓋體具有一第三開口，用來提供該沖洗裝置沖洗該基板或該蓋體，該第一開口與該第二開口分別作為供該藥液注入于該封閉空間內及提供該藥液排出于該封閉空間外。

14.根據權利要求13所述的基板轉移暨處理系統，其特征在于：該第一開口設置于該蓋體的中心處，以使該藥液注入該封閉空間內，而該第二開口與該第三開口分別設置于該蓋體的相對二側。

15.根據權利要求1所述的基板轉移暨處理系統，其特征在于：該基板為非晶硅基板、單晶硅基板、多晶硅基板、微晶硅基板或砷化鎵基板的至少其中之一。

16.根據權利要求1所述的基板轉移暨處理系統，其特征在于：該基板轉移裝置為真空吸附式機械手臂。