[發(fā)明專利]可有效減緩賈凡尼效應(yīng)的刻蝕液在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310616738.6 | 申請(qǐng)日: | 2013-11-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104674222A | 公開(公告)日: | 2015-06-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔡政穎;廖程楷;徐素斐 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 芝普企業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23F1/44 | 分類號(hào): | C23F1/44 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11019 | 代理人: | 壽寧;張華輝 |
| 地址: | 中國臺(tái)灣桃*** | 國省代碼: | 中國臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 有效 減緩 賈凡尼 效應(yīng) 刻蝕 | ||
1.一種可有效減緩賈凡尼效應(yīng)的刻蝕液,其特征在于是應(yīng)用于對(duì)至少包含第一金屬與第二金屬的基板進(jìn)行濕式刻蝕制造過程,該刻蝕液是包括:
刻蝕劑,是溶于一溶劑之中,以形成刻蝕液;以及含氮五元雜環(huán)化合物,是溶于該刻蝕劑之中以作為該濕式刻蝕制造過程之中的有機(jī)護(hù)膜,其中該刻蝕劑在該溶劑之中的含量是介于5g/L至250g/L之間,且該含氮五元雜環(huán)化合物在該溶劑之中的含量是介于0.01g/L至50g/L之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可有效減緩賈凡尼效應(yīng)的刻蝕液,其特征在于其中該溶劑為水。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可有效減緩賈凡尼效應(yīng)的刻蝕液,其特征在于其中該刻蝕劑是選自于下列群組之中的任一者:過氧化氫-硫酸、過氧化氫-磷酸、氯化銅-鹽酸、氯化鐵-鹽酸、鹽酸-硝酸、過硫酸鈉、或者過硫酸鹽復(fù)合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可有效減緩賈凡尼效應(yīng)的刻蝕液,其特征在于其中該含氮五元雜環(huán)化合物的化學(xué)結(jié)構(gòu)是如下列化學(xué)式1所示:
[化學(xué)式1]
其中,R1為第一有機(jī)基團(tuán)或是氫,且該第一有機(jī)基團(tuán)是任意選自于下列群組之中的任一者:醚、醇、酸、烷、烯、炔、苯、苯酚、與苯酸;并且,化學(xué)式1所表示的該含氮五元雜環(huán)化合物為一個(gè)3-R1-1,2,4-三氮唑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可有效減緩賈凡尼效應(yīng)的刻蝕液,其特征在于其中該含氮五元雜環(huán)化合物的化學(xué)結(jié)構(gòu)是如下列化學(xué)式2所示:
[化學(xué)式2]
其中,R1為第一有機(jī)基團(tuán)或是氫,且該第一有機(jī)基團(tuán)是任意選自于下列群組之中的任一者:醚、醇、酸、烷、烯、炔、苯、苯酚、與苯酸;并且,化學(xué)式2所表示的該含氮五元雜環(huán)化合物為一個(gè)1,3,5-R1-1,2,4-三氮唑。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的可有效減緩賈凡尼效應(yīng)的刻蝕液,其特征在于其中更能增加一個(gè)或者兩個(gè)第二有機(jī)基團(tuán)或是氫至該1,3,5-R1-1,2,4-三氮唑之中,使得該含氮五元雜環(huán)化合物成為正離子,并借由令該含氮五元雜環(huán)化合物帶有至少一個(gè)負(fù)離子,而使其化學(xué)式達(dá)到電荷平衡;其中,增加有一個(gè)第二有機(jī)基團(tuán)或是氫的該含氮五元雜環(huán)化合物是如下列化學(xué)式3或者化學(xué)式4所表示;并且,增加有兩個(gè)第二有機(jī)基團(tuán)或是氫的該含氮五元雜環(huán)化合物是如下列化學(xué)式5所表示:
[化學(xué)式3]??????????[化學(xué)式4]
[化學(xué)式5]
其中,R2為該第二有機(jī)基團(tuán)或是氫,且該第二有機(jī)基團(tuán)是任意選自于下列群組之中的任一者:醚、醇、酸、烷、烯、炔、苯、苯酚、與苯酸;且該負(fù)離子是選自下列群組之中的任一者:氟離子、氯離子、溴離子、碘離子、四氟化硼離子、硫酸根離子、與硫酸氫根離子。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可有效減緩賈凡尼效應(yīng)的刻蝕液,其特征在于其中該含氮五元雜環(huán)化合物的化學(xué)結(jié)構(gòu)是如下列化學(xué)式6所示:
[化學(xué)式6]
其中,R1為第一有機(jī)基團(tuán)或是氫,且該第一有機(jī)基團(tuán)是選自于下列群組之中的任一者:醚、醇、酸、烷、烯、炔、苯、苯酚、與苯酸;并且,化學(xué)式1所表示的該含氮五元雜環(huán)化合物為一個(gè)4-R1-1,2,3-三氮唑。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可有效減緩賈凡尼效應(yīng)的刻蝕液,其特征在于其中該含氮五元雜環(huán)化合物的化學(xué)結(jié)構(gòu)是如下列化學(xué)式7所示:
[化學(xué)式7]
其中,R1為第一有機(jī)基團(tuán)或是氫,且該有機(jī)基團(tuán)是選自于下列群組之中的任一者:醚、醇、酸、烷、烯、炔、苯、苯酚、與苯酸;并且,化學(xué)式7所表示的該含氮五元雜環(huán)化合物為一個(gè)1,4,5-R1-1,2,3-三氮唑。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于芝普企業(yè)股份有限公司;,未經(jīng)芝普企業(yè)股份有限公司;許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310616738.6/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種防銹防腐蝕清洗劑
- 下一篇:一種蝕刻機(jī)





