[發明專利]外殼及其制造方法

在審

• 申請號: 201310614634.1
• 申請日: 2013-11-28
• 公開（公告）號: CN104669709A
• 公開（公告）日: 2015-06-03
• 發明（設計）人: 張春杰
• 申請（專利權）人: 深圳富泰宏精密工業有限公司
• 主分類號: B32B15/04
• 分類號: B32B15/04;B32B9/04;C23C14/35;C23C14/06;H05K5/04
• 代理公司: 無
• 代理人: 無

技術領域

本發明涉及一種外殼及其制造方法，尤其涉及一種表面形成有透明膜的外殼及其制造方法。

背景技術

隨著科技的迅速演進，移動電話、個人計算機等3C產品和汽車電子產品的發展迅速，市場上所出現的高光、高亮度、多樣化的外殼及表面具有金屬外觀的產品普遍得到消費者的青睞。為了使電子產品呈現良好的亮度和光潔度，通常使用噴涂等傳統的制作工藝于電子產品表面形成透明膜。然而，這些傳統的制作工藝復雜，且制作的透明膜光潔度較低，耐磨損性能較差，使用壽命較短。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種外殼，其表面形成有高光、高亮度的透明膜。

另外，還有必要提供一種上述外殼的制造方法。

一種外殼，其包括基材和形成于基材表面的透明膜，該透明膜包括打底層、形成于打底層表面的過渡層及形成于過渡層表面的透明層，該打底層為鉻層，該過渡層為碳化鉻層，該透明層為硅層，該打底層形成于所述基材的表面，該過渡層形成于該打底層的表面，該透明層形成于該過渡層的表面。

一種外殼的制造方法，其包括如下步驟：

提供基材；

以鉻靶為靶材，采用磁控濺射法在基材表面濺鍍打底層，該打底層為鉻層；

以鉻靶為靶材，通入反應氣體乙炔，采用磁控濺射法在打底層的表面濺鍍過渡層，該過渡層為碳化鉻層；

以硅靶為靶材，采用磁控濺射法在過渡層的表面濺鍍透明層，該透明層為硅層。

本發明采用特殊的靶材組合，配合新的PVD鍍膜工藝，制備出具有透明膜的外殼，所述透明膜具有高光亮度，使外殼的表面具有較高的亮度和光潔度。另，使用磁控濺射法在基體表面依次濺鍍打底層、過渡層和透明層，膜層之間逐層過渡較好，膜層內部沒有明顯的應力產生，這樣在施加外力時，透明膜不易被破壞，可呈現良好的硬度和耐磨性，延長了外殼的使用壽命。

附圖說明

圖1為本發明一較佳實施例的外殼的剖視圖。

圖2為本發明一較佳實施例真空鍍膜機的俯視示意圖。

主要元件符號說明

金屬外殼100基材20透明膜10打底層13過渡層15透明層17真空鍍膜機200鍍膜室21鉻靶23硅靶24軌跡25真空泵300

如下具體實施方式將結合上述附圖進一步說明本發明。

具體實施方式