[發(fā)明專利]一種成像光譜反射率數(shù)據(jù)的光譜校正方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310613261.6 | 申請(qǐng)日: | 2013-11-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103592235A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-02-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 閆柏琨;董新豐;楊蘇明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)國(guó)土資源航空物探遙感中心 |
| 主分類號(hào): | G01N21/25 | 分類號(hào): | G01N21/25 |
| 代理公司: | 北京慧泉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11232 | 代理人: | 王順榮;唐愛(ài)華 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 成像 光譜 反射率 數(shù)據(jù) 校正 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種成像光譜反射率數(shù)據(jù)的光譜校正方法,屬于高光譜遙感礦物識(shí)別領(lǐng)域,它適用于對(duì)利用大氣輻射傳輸模型進(jìn)行光譜重建后生成的成像光譜反射率數(shù)據(jù),進(jìn)行校正,以減小誤差、降低信息的漏提率。
背景技術(shù)
高光譜遙感具有圖譜合一的特點(diǎn),可根據(jù)礦物的精細(xì)光譜特征進(jìn)行礦物信息的識(shí)別。進(jìn)行礦物信息提取前,需將地表的輻射亮度數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為反射率數(shù)據(jù),即反射能量與入射能量之比。常用的軟件有Flaash、ATREM、ACORN等,這些軟件基于大氣輻射傳輸模型,根據(jù)數(shù)據(jù)獲取時(shí)的大氣水汽含量、能見(jiàn)度等大氣參數(shù),計(jì)算大氣吸收、散射特性,并得到地表反射率。
然而,由于儀器定標(biāo)誤差、地面—大氣間能量的多次反射等原因,得到了地表反射率與地面實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)往往存在較大的系統(tǒng)性誤差,導(dǎo)致礦物信息提取出漏提取率較高。為此,本發(fā)明開(kāi)發(fā)了一種校正方法,對(duì)利用大氣輻射傳輸模型進(jìn)行光譜重建后生成的成像光譜反射率數(shù)據(jù),進(jìn)行校正,以減小誤差、降低信息的漏提取率。
發(fā)明內(nèi)容
1、目的:本發(fā)明的目的是提供一種成像光譜反射率數(shù)據(jù)的光譜校正方法,它針對(duì)利用大氣輻射傳輸模型進(jìn)行光譜重建后生成的成像光譜反射率數(shù)據(jù)中的系統(tǒng)性誤差進(jìn)行校正,以減小誤差、降低信息的漏提取率。
2、技術(shù)解決方案:為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的,采取以下技術(shù)方案:
見(jiàn)圖1,本發(fā)明一種成像光譜反射率數(shù)據(jù)的光譜校正方法,該方法具體步驟如下:
步驟一:光譜數(shù)據(jù)讀入
讀入的數(shù)據(jù)包括成像光譜反射率數(shù)據(jù)、成像光譜數(shù)據(jù)覆蓋范圍內(nèi)地面實(shí)測(cè)的反射光譜數(shù)據(jù)。成像光譜反射率數(shù)據(jù)是由基于大氣輻射傳輸模型進(jìn)行光譜重建后的數(shù)據(jù)。
步驟二:反射光譜歸一化處理
以圖像清晰度較高的某一波段為基準(zhǔn),對(duì)地面實(shí)測(cè)光譜與對(duì)應(yīng)的成像光譜反射率數(shù)據(jù)進(jìn)行歸一化處理,即所有波段反射率除以基準(zhǔn)波段反射率。
步驟三:校正系數(shù)的計(jì)算
經(jīng)步驟二處理后的地面實(shí)測(cè)光譜除以對(duì)應(yīng)的成像光譜反射率數(shù)據(jù),得到校正系數(shù),若成像光譜反射率數(shù)據(jù)覆蓋范圍內(nèi)有多個(gè)點(diǎn)進(jìn)行了地面實(shí)測(cè)光譜測(cè)試,則將得到了多個(gè)校正系數(shù)進(jìn)行平均,以減小誤差。
步驟四:數(shù)據(jù)的校正
步驟一中讀入的成像光譜反射率數(shù)據(jù)乘以步驟三得到的校正系數(shù),即完成數(shù)據(jù)的校正。
其中,步驟二中所述的“對(duì)地面實(shí)測(cè)光譜與對(duì)應(yīng)的成像光譜反射率數(shù)據(jù)進(jìn)行歸一化處理”,其具體實(shí)現(xiàn)過(guò)程如下:
每條光譜的所有波段的反射率除以該光譜對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)波段的反射率,得到的比值光譜即為歸一化后的光譜。
3、優(yōu)點(diǎn)及功效:本發(fā)明一種成像光譜反射率數(shù)據(jù)的光譜校正方法的優(yōu)點(diǎn)是:
基于地面實(shí)測(cè)光譜對(duì)利用大氣輻射傳輸模型進(jìn)行光譜重建后生成的成像光譜反射率數(shù)據(jù),進(jìn)行校正,以減小誤差、降低信息的漏提率。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明的流程框圖;
具體實(shí)施方式
為了更好的說(shuō)明本發(fā)明的方法與步驟,利用某地區(qū)HyMap機(jī)載成像光譜反射率數(shù)據(jù)與12個(gè)不同地點(diǎn)的地面實(shí)測(cè)光譜數(shù)據(jù)為例,進(jìn)行了校正試驗(yàn)。試驗(yàn)所用的設(shè)備為圖形工作站,規(guī)格型號(hào)為Dell?Precision4700,操作系統(tǒng)為WindowsXP(64位),CPU為2.66GHz,內(nèi)容為32GB,硬盤為1T。
見(jiàn)圖1,本發(fā)明一種成像光譜反射率數(shù)據(jù)的光譜校正方法,其具體步驟如下:
步驟一,讀入數(shù)據(jù),地面實(shí)測(cè)光譜與HyMap成像光譜反射率數(shù)據(jù)譜段范圍為450.0-2491.6nm,共有124個(gè)波段,成像光譜反射率數(shù)據(jù)是利用Flaash光譜重建軟件得到的;
步驟二,反射光譜歸一化處理,對(duì)12個(gè)地點(diǎn)中其中一個(gè)點(diǎn)的地面實(shí)測(cè)光譜與對(duì)應(yīng)的HyMap成像光譜反射率數(shù)據(jù),以2150nm波段為基準(zhǔn),進(jìn)行歸一化,所有波段反射率除以2150nm波段反射率;
步驟三,校正系數(shù)的計(jì)算,歸一化后的地面實(shí)測(cè)光譜除以對(duì)應(yīng)的成像光譜反射率數(shù)據(jù),得到校正系數(shù);
步驟四,HyMap數(shù)據(jù)的校正,將上一步驟得到的校正系數(shù)乘以所有HyMap數(shù)據(jù),即完成數(shù)據(jù)的校正。
利用步驟一至步驟四的方法,對(duì)HyMap反射率數(shù)據(jù)進(jìn)行了校正,利用12個(gè)地面點(diǎn)中的11個(gè)對(duì)校正結(jié)果進(jìn)行了檢驗(yàn)。結(jié)果表明,450-1300nm、2000-2500nm譜段去殼后反射率誤差分別由0.007±0.001、0.05±0.005提高至0.004±0.004、0.005±0.006,最小吸收位置以及吸收谷面積、對(duì)稱度、半高寬分別由58.04±18.97%、37.89±16.77%、10.59±7.45%提高至7.67±7.96%、6.69±4.12%、2.12±1.55%。
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- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 數(shù)據(jù)顯示系統(tǒng)、數(shù)據(jù)中繼設(shè)備、數(shù)據(jù)中繼方法、數(shù)據(jù)系統(tǒng)、接收設(shè)備和數(shù)據(jù)讀取方法
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