[發(fā)明專利]一種工件局部淬火系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310594974.2
• 申請日: 2013-11-21
• 公開（公告）號: CN104651583B
• 公開（公告）日: 2017-02-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 韓旭;劉莉;鄭炎軍
• 申請（專利權(quán)）人: 上海恒精感應(yīng)科技股份有限公司
• 主分類號: C21D1/667
• 分類號: C21D1/667;C21D1/42
• 代理公司: 上海天翔知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司31224
• 代理人: 陸佳

1.一種工件局部淬火系統(tǒng)，其特征在于，包括：

一震動上料機，用于將無序待加工工件放置在震動上料機料斗內(nèi)，并自動排列成大徑向上的豎直狀態(tài)，

一分料機構(gòu)，所述分料機構(gòu)通過一料道與所述震動上料機連接，所述分料機構(gòu)包括一分料板，所述分料板上設(shè)置若干個凹槽，所述凹槽用于承接待加工工件，

一垂直升降以及水平往復(fù)運動的平移滑板，所述平移滑板上設(shè)置一工件上料和下料機構(gòu)，

一設(shè)置于分料機構(gòu)一側(cè)的定位板，所述定位板上設(shè)置并列排布旋轉(zhuǎn)氣爪，旋轉(zhuǎn)氣爪內(nèi)設(shè)有淬火定位孔，

所述淬火位定位孔上方設(shè)置一加熱裝置，所述上料機構(gòu)抓取凹槽內(nèi)待加工工件后，放置于所述淬火位定位孔內(nèi)，

還包括一噴液裝置，所述噴液裝置安裝于所述加熱裝置內(nèi)，加熱淬火完畢后直接通過噴液裝置噴液冷卻，

一出料裝置，所述下料機構(gòu)吸附加工完畢的工件，并將工件移至出料裝置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種工件局部淬火系統(tǒng)，其特征在于：所述上料機構(gòu)包括一上料氣爪，所述上料氣爪連接一控制上料氣爪動作的電磁氣閥；所述下料機構(gòu)包括一出料電磁線圈。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種工件局部淬火系統(tǒng)，其特征在于：所述定位板連接一工件自轉(zhuǎn)電機，所述工件自轉(zhuǎn)電機由變頻器驅(qū)動，轉(zhuǎn)速可隨時無級調(diào)整。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的一種工件局部淬火系統(tǒng)，其特征在于：所述定位板下方設(shè)置一集水槽，用于收集淬火液。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種工件局部淬火系統(tǒng)，其特征在于：所述加熱裝置為一加熱感應(yīng)器，所述加熱感應(yīng)器電連接一加熱負載系統(tǒng)，所述加熱負載系統(tǒng)包括包括淬火變壓器、補償電容以及高頻電源，所述加熱感應(yīng)器與高頻電源諧振，對待加工工件形成感應(yīng)磁場，加熱待加工工件。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種工件局部淬火系統(tǒng)，其特征在于：所述加熱感應(yīng)器固定于一調(diào)節(jié)滑臺上，所述調(diào)節(jié)滑臺能對加熱感應(yīng)器與待加工工件位置進行微調(diào)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種工件局部淬火系統(tǒng)，其特征在于：還包括一設(shè)置于震動上料機一側(cè)的機床電器數(shù)控系統(tǒng)。