[發明專利]噴墨基底用處理劑

在審

• 申請號: 201310590570.6
• 申請日: 2013-11-21
• 公開（公告）號: CN103838082A
• 公開（公告）日: 2014-06-04
• 發明（設計）人: 吉岡敬裕;藤城光一;今野高志
• 申請（專利權）人: 新日鐵住金化學株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/032
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 柳冀

1.一種噴墨基底用處理劑，其為預先對噴墨印刷中使用的基材實施表面處理的噴墨基底用處理劑，其特征在于，

該基底處理劑至少含有粘合劑樹脂(A)、含氟低聚物(B)、光致產酸劑(C)及溶劑(D)，

通過該基底處理劑形成的樹脂層通過介由圖案掩模的光照射或介由圖案掩模的光照射和加熱，能夠形成具備親液部分和疏液部分的親疏液圖案，

該樹脂層實施光照射或光照射和加熱之前的相對于二甘醇單乙基醚乙酸酯的接觸角為40°以上，并且實施了光照射或光照射和加熱的部分相對于二甘醇單乙基醚乙酸酯的接觸角為15°以下，

作為含氟低聚物(B)，含有以下述通式(1)的含氟單體為必須成分聚合而成的共聚物，

[化1]

通式(1)中的R1為氫原子或甲基，X為直接鍵合、-C(=O)O-、-OC(=O)-、-CH₂OC(=O)-中的任一種，Y為直接鍵合或碳數為1～10個、可含有氧原子和/或氮原子的2價有機基團，Ar為通式組(2)中記載的結構的任一種；

[化2]

R2～R57各自獨立地為氫原子、烷基、羥基、烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、芳硫基羰基、酰氧基、芳硫基、烷硫基、芳基、雜環烴基、芳氧基、烷基亞磺酰基、芳基亞磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、羥基(聚)亞烷基氧基、可被取代的氨基、氰基、硝基或鹵原子，R2～R7中的1個、R8～R15中的1個、R16～R25中的1個、R26～R31中的1個、R32～R39中的1個、R40～R47中的1個及R48～R57中的1個分別為通式(1)中的X，并且R2～R7中的至少1個、R8～R15中的至少1個、R16～R25中的至少1個、R26～R31中的至少1個、R32～R39中的至少1個、R40～R47中的至少1個及R48～R57中的至少1個分別為Rf-O-，其中Rf表示下述通式組(3)的任一種，M為氧原子、硫原子、>N-R58中的任一種，R58是碳數為1～10個、可含有氧原子和/或氮原子的1價有機基團；

[化3]

2.根據權利要求1所述的噴墨基底用處理劑，其特征在于，粘合劑樹脂(A)為環氧樹脂(A1)。

3.根據權利要求2所述的噴墨基底用處理劑，其特征在于，基底處理劑中的環氧樹脂(A1)、含氟低聚物(B)及光致產酸劑(C)的質量比率為(A)/(B)/(C)=100/2～0.1/10～0.5的范圍。

4.根據權利要求2或3所述的噴墨基底用處理劑，其特征在于，環氧樹脂(A1)內至少50質量%在常溫23℃下為固體。

5.根據權利要求1～4任一項所述的噴墨基底用處理劑，其特征在于，光致產酸劑(C)是選自重氮鹽、鏻鹽、锍鹽、碘鎓鹽、CF₃SO₃的鹽、p-CH₃PhSO₃的鹽、p-NO₂PhSO₃的鹽、有機鹵素化合物、鄰醌-二疊氮基磺酰氯及磺酸酯中的至少一種，其中Ph表示苯基。