[發明專利]噴墨基底用處理劑

在審

• 申請號: 201310590570.6
• 申請日: 2013-11-21
• 公開（公告）號: CN103838082A
• 公開（公告）日: 2014-06-04
• 發明（設計）人: 吉岡敬裕;藤城光一;今野高志
• 申請（專利權）人: 新日鐵住金化學株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/032
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 柳冀

技術領域

本發明涉及噴墨基底用處理劑，詳細地說本發明涉及基底處理劑，其作為進行噴墨印刷時的基底可以實施親疏液圖案形成。

背景技術

作為半導體元件、集成電路、有機EL顯示器用器件等微細器件的制造方法，一般來說使用通過真空蒸鍍、濺射等在基板上形成功能性材料的薄膜，利用光刻法對該薄膜進行圖案化的手法。一般來說，光刻法首先在基板上形成進行圖案形成的材料的薄膜、接著在薄膜上形成光刻膠膜，介由具有所需圖案的光掩模進行曝光，利用堿顯影液進行顯影，形成光刻膠圖案。然后，以光刻膠圖案作為掩模進行刻蝕，將不需要的部分除去，獲得具有所需圖案形狀的薄膜。光刻法的工序復雜，由于有在潔凈室內進行實施的必要，因此能量、材料等的利用效率低、器件變得昂貴成為問題，作為能夠以低成本、低能量進行實施的圖案形成方法，探討了印刷法的導入。印刷法中，噴墨印刷法與其他的印刷方式相比，在由噴嘴噴吐的液滴的量或控制噴吐位置的方面優異，估計今后其利用會擴展到各種領域中。

但是，噴墨裝置的印刷精度目前為±10μm左右，不具有半導體元件、集成電路、有機EL顯示器用器件等微細器件所要求的精度，即、不具有與這些器件制造中專門使用的光刻法(±2μm)同等的精度。另外，由噴墨裝置涂布的油墨隨著所涂布的基板的性狀、例如與油墨的潤濕性的不同，所印刷的面積發生變化。另一方面，作為通過使所印刷的基板(基底)變得均勻、以原本的噴墨裝置的印刷精度獲得更高精細的印刷物的方法，例如有專利文獻1所公開的方法。該方法通過在基底的表面上預先形成與噴墨油墨的親和性高的(易于吸附或吸收噴墨油墨)接受層，在其上進行印刷，從而能夠制作滲出少的鮮明的印刷物。但是，僅單純地印刷在接受層上，則無法獲得對于微細器件為必要的精度的印刷物。

針對上述問題，提出了通過介由光掩模對接受層進行光照射、控制與噴墨油墨的親和性，從而獲得提高了印刷精度的印刷物的方法。例如，專利文獻2中，利用光照射或光照射和加熱，設置與噴墨油墨的親液性增加的樹脂層，通過介由光掩模實施光照射(進而進行加熱)，形成與噴墨油墨的親液性高的部分，通過對該部分進行噴墨印刷，能夠獲得精度更高的印刷物(該文獻中為濾色器)。此時，曝光部分形成羥基等親液性殘基，未曝光部分形成烷基或含硅基。特別是，對于有機溶劑系噴墨油墨，親液部分和疏液部分的區分并不充分，無法使有機溶劑系油墨接受量的差別變得明顯。另外，能夠附液體的油墨的量本身有所限制，難以制作呈現充分性能的器件。

作為其他的方法，有預先在基底表面制作噴墨油墨的潤濕擴展容易的部分(親液性部分)和潤濕擴展困難的部分(疏液性部分)，僅在親液性部分進行印刷，從而進行高精細的印刷的方法。此時，錯誤噴吐至疏液性部分的噴墨油墨在基底表面上被排斥，該部分未進行印刷。

作為該具體的例子，示例了專利文獻3或非專利文獻1。專利文獻3中提出了利用噴墨印刷的濾色器的制造方法，該噴墨印刷使用了通過能量照射、表面的潤濕性發生變化的含光催化劑層。該方法通過對含光催化劑層進行圖案曝光，形成親液性的圖案，在該親液性的圖案上涂布油墨，從而形成像素部等，制作濾色器。但是，該方法中由于非?；钚缘墓獯呋瘎埩粼谄骷校虼碎L期可靠性方面存在課題。

另一方面的非專利文獻1中記載了通過利用噴墨印刷的氟烷基硅烷單分子膜，在圖案基板上形成選擇性的高分子薄膜的形成方法。通過該方法，能夠進行與實際上由噴墨頭噴吐的噴墨油墨的著落直徑相比更為精細的印刷。但是，單分子膜的制作與所述光刻法同樣復雜，并且由于所使用的光源為深紫外線，因此對于基板產生因深紫外線所造成的損傷等。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平11-216945號公報

專利文獻2：日本專利第2872596號公報

專利文獻3：日本特開平11-337726號公報

非專利文獻

非專利文獻1：表面科學Vol.27，No.2，第108-115頁，2006年

發明內容

發明要解決的課題

因此，本發明的目的在于提供能夠簡單地制作噴墨油墨的潤濕擴展容易的部分(親液性部分)和潤濕擴展困難的部分(疏液性部分)，而且能夠進行高精細的噴墨印刷的噴墨基底用處理劑。

用于解決課題的方法