[發(fā)明專利]彩膜基板的檢測(cè)方法和檢測(cè)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310585128.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-11-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103558702A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-02-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張鐵軼;余道平;侯玉珠;劉輝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/13 | 分類號(hào): | G02F1/13 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 彩膜基板 檢測(cè) 方法 裝置 | ||
1.一種彩膜基板的檢測(cè)方法,所述彩膜基板包括若干個(gè)子像素,任意兩個(gè)顏色相同的、最接近的子像素的中心距離為L(zhǎng)μm,L>0,掃描所述彩膜基板的電荷耦合元件的像素的邊長(zhǎng)為βμm,0<β<L,其特征在于,當(dāng)非整數(shù)時(shí),所述彩膜基板的檢測(cè)方法包括:
獲取所述彩膜基板上的一個(gè)區(qū)域作為待檢測(cè)區(qū)域,獲取所述電荷耦合元件掃描到的待檢測(cè)區(qū)域的灰度值;
在同一行或同一列中,獲取第一灰度值和第二灰度值、第三灰度值和第四灰度值,其中,所述第一灰度值與所述待檢測(cè)區(qū)域的灰度值相差個(gè)灰度值,所述第二灰度值與所述待檢測(cè)區(qū)域的灰度值相差個(gè)灰度值,所述第三灰度值與所述第一灰度值或所述待檢測(cè)區(qū)域的灰度值相差個(gè)灰度值,所述第四灰度值與所述第二灰度值或所述待檢測(cè)區(qū)域的灰度值相差個(gè)灰度值;
根據(jù)所述第一灰度值和所述第二灰度值獲得第一參考灰度值,根據(jù)所述第三灰度值和所述第四灰度值獲得第二參考灰度值;
根據(jù)所述第一參考灰度值、所述第二參考灰度值判斷所述待檢測(cè)區(qū)域的灰度值是否正常。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測(cè)方法,其特征在于,還包括:
在同一列或同一行中,獲取第五灰度值和第六灰度值、第七灰度值和第八灰度值,其中,所述第五灰度值與所述待檢測(cè)區(qū)域的灰度值相差個(gè)灰度值,所述第六灰度值與所述待檢測(cè)區(qū)域的灰度值相差個(gè)灰度值,所述第七灰度值與所述第五灰度值或所述待檢測(cè)區(qū)域的灰度值相差個(gè)灰度值,所述第八灰度值與所述第六灰度值或所述待檢測(cè)區(qū)域的灰度值相差個(gè)灰度值;
根據(jù)所述第五灰度值和第六灰度值獲得第三參考灰度值,根據(jù)所述第七灰度值和第八灰度值獲得第四參考灰度值;
所述根據(jù)所述第一參考灰度值、所述第二參考灰度值判斷所述待檢測(cè)區(qū)域的灰度值是否正常包括:
根據(jù)所述第一參考灰度值、所述第二參考灰度值、所述第三參考灰度值和所述第四參考灰度值判斷所述待檢測(cè)區(qū)域的灰度值是否正常。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢測(cè)方法,其特征在于,根據(jù)所述第一灰度值和所述第二灰度值獲得第一參考灰度值包括:
所述第一灰度值為α1,所述第二灰度值為α2,其中,α1、α2>0,所述第一參考灰度值為
根據(jù)所述第三灰度值和所述第四灰度值獲得第二參考灰度值包括:
所述第三灰度值為α3,所述第四灰度值為α4,其中,α3、α4>0,所述第二參考灰度值為
根據(jù)所述第五灰度值和所述第六灰度值獲得第三參考灰度值包括:
所述第五灰度值為α5,所述第六灰度值為α6,其中,α5、α6>0,所述第三參考灰度值為
根據(jù)所述第七灰度值和所述第八灰度值獲得第四參考灰度值包括:
所述第七灰度值為α7,所述第八灰度值為α8,其中,α7、α8>0,所述第四參考灰度值為
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢測(cè)方法,其特征在于,若所述待檢測(cè)區(qū)域位于所述彩膜基板的角落,
所述第三灰度值與所述第一灰度值相差個(gè)灰度值,所述第四灰度值與所述第二灰度值相差個(gè)灰度值;
所述第七灰度值與所述第五灰度值相差個(gè)灰度值,所述第八灰度值與所述第六灰度值相差個(gè)灰度值。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢測(cè)方法,其特征在于,若所述待檢測(cè)區(qū)域位于所述彩膜基板的邊緣,
所述第三灰度值與所述第一灰度值相差個(gè)灰度值,所述第四灰度值與所述第二灰度值相差個(gè)灰度值,或,
所述第三灰度值與所述待檢測(cè)區(qū)域的灰度值相差個(gè)灰度值,所述第四灰度值與所述待檢測(cè)區(qū)域的灰度值相差個(gè)灰度值;
所述第七灰度值與所述第五灰度值相差個(gè)灰度值,所述第八灰度值與所述第六灰度值相差個(gè)灰度值,或,
所述第七灰度值與所述待檢測(cè)區(qū)域的灰度值相差個(gè)灰度值,所述第八灰度值與所述待檢測(cè)區(qū)域的灰度值相差個(gè)灰度值。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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